「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(89ページ目) - Weblio英語例文検索

A phosphoric anion surface active agent 4 is adsorbed on the surface of solder powder 1, by which, in the process of reflowing, the surface active agent prevents the oxidation of Zn through flux, so that its solderability is improved and maintained.例文帳に追加

はんだ粉末１の表面に有機物であるリン酸系アニオン界面活性剤を４を吸着させることにより、リフロー中、有機物がはんだ粉末表面をカバーしＺｎの酸化を防止し、室温放置状態ではフラックスからのＺｎの酸化を防止することにより、はんだ付け性の向上および経時変化を少なくする。 - 特許庁

To provide a cleaning device, having high removing performance and restraining lowering of cleaning performance of a central part in the longitudinal direction of a plate-like elastic member on a surface moving member by the plate-like elastic member when the surface moving member moves on the surface, and an image forming apparatus and a process cartridge including the device.例文帳に追加

高い除去性能が得られ、且つ、表面移動部材表面移動時の板状弾性部材による表面移動部材上の板状弾性部材長尺方向中央部のクリーニング性低下を抑制できるクリーニング装置、並びに、これを備える画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a method for surface treatment of a base material and apparatus for the same and a surface treated base material improving adhesivity to the base material even in a process carrying of the base material in high speed, having high imparting efficiency of a polar functional group onto the base material, capable of carrying out an effective and uniform surface treatment.例文帳に追加

支持体の超高速搬送においても、支持体表面の接着性を向上させ、支持体への極性官能基の付与効率が高く、効率的な且つ均一な表面処理ができる支持体の表面処理方法及びその装置並びに表面処理した支持体を提供すること。 - 特許庁

The glove is made through the following process: knitting fabric forming a base glove at a surface corresponding to the inner side of the glove into a pile-woven state; forming the raised part at the inside surface using a nonsilicon-system raising-treatment agent; and forming rubber or resin coat at part or the whole of the opposite surface side of the base glove.例文帳に追加

原手を構成する生地の手袋内側となる面をパイル状に編成し、当該内側面に、非シリコーン系の起毛処理剤を用いて起毛部を形成するとともに、反対側の原手表側の面の一部又は全体に、撥水・撥油コート法によりゴム又は樹脂皮膜を形成した。 - 特許庁

The specific surface area of the oxide particle is remarkably increased by contacting a water-containing solution with the oxide particle synthesized by the above process because the bond between the hydroxy group and the nondecomposed metal salt remaining on the crystallite surface of the synthesized particle is broken to generate a porous structure on the surface of the particle.例文帳に追加

この工程で合成された酸化物粒子に水を含有する溶液と接触させる工程により、この合成粒子の結晶子表面に残留する水酸基、未分解金属塩の結合が切れ、粉末表面に多孔質構造が出現するため、比表面積が飛躍的に向上する。 - 特許庁

To mount a semiconductor on a first metal plate without using a positioning tool, in a manufacturing method of a semiconductor device wherein a wire is connected to one surface of a semiconductor element, and a first metal plate and a second metal plate are solder-jointed to the other surface and the one surface of the semiconductor element by a once reflow process.例文帳に追加

半導体素子の一面にワイヤを接続するとともに、１回のリフロー工程によって半導体素子の他面、一面に第１の金属板、第２の金属板をはんだ接合してなる半導体装置の製造方法において、位置決め治具を用いることなく、半導体素子を第１の金属板に搭載できるようにする。 - 特許庁

In a measurement process, TEG-pattern blocks 100 each having device-element isolation regions and trenches are formed after forming a covering film on a silicon substrate; a buried insulating film that fills the trenches and covers the surface of the covering film is formed; and the surface of the buried insulating film is polished until the surface of the covering film is exposed.例文帳に追加

測定プロセスでは、シリコン基板上に被覆膜を形成した後、素子形成領域およびトレンチによってＴＥＧパターン・ブロック１００を形成し、トレンチ内を充填するとともに被覆膜の表面を覆う埋込絶縁膜を形成し、さらに、被覆膜の表面が露出するまで埋込絶縁膜の表面を研磨する。 - 特許庁

To provide an eccentric position spherical surface working method capable of accomplishing high-accuracy spherical surface working in NC lathe having flexibility, and reducing the manufacturing cost by aggregating spherical surface working and other working, restraining plant and equipment investment, reducing the working time, and reducing the inter-process moving time.例文帳に追加

汎用性を有するＮＣ旋盤において高精度の球面加工を可能とすると共に、球面加工と他の加工との集約化、設備投資の抑制、加工時間の低減、工程間移動時間の低減等を図ることによって、製造コストの低減を図ることを可能にした偏心位置球面加工方法を提供する。 - 特許庁

The wafer surface protective tape employed for a process of grinding the rear surface of the wafer is provided with respective centerline average roughness (Ra) of 0.05-2.00 μm in the widthwise and lengthwise directions of a surface, on which the adhesive agent of the substrate film is not applied, while the thickness thereof is 50-300 μm.例文帳に追加

ウェハ裏面を研削する工程に用いられるウェハ表面保護テープであって、その基材フィルムの粘着剤が塗工されていない面の幅方向及び長さ方向のそれぞれの中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０５〜２．００μｍであり、かつその厚さが５０〜３００μｍであるウェハ表面保護テープ。 - 特許庁

To prevent optical leak of a transistor caused by reflection of the light on a substrate surface, the light-shielding layer 4 is bent into a recessed surface or a protruding surface in advance while the single-crystal silicon layer is formed on the support substrate side before laminated to the support substrate in a lamination-method SOI manufacturing process.例文帳に追加

また、遮光層４は基板表面からの光反射によるトランジスタの光リークを防止するため、予め凹面あるいは凸面に湾曲させた構造とし、同時に貼り合わせ法ＳＯＩ作製プロセスにおいて単結晶シリコン層を支持基板と貼り合わせる前に支持基板側に形成しておく。 - 特許庁

To provide an evaluation method of prevention of surface crack for enabling the manufacture of the process design of cold forging and a forging die preventing the generation of the surface crack in a short period and at a low cost by correctly predicting the generation of the surface crack of semimanufactured goods and formed parts in the cold forging before manufacturing the forging die.例文帳に追加

冷間鍛造における半加工品および成形品の表面割れの発生を、鍛造型製作前に正確に予測して、冷間鍛造の工程設計および表面割れの生じない鍛造型を短期間に、かつ安価に製作することを可能とする表面割れ防止の評価方法を提供する。 - 特許庁

An original plate 21 whereupon a sliding coat film 17 having heat-resistant nonadhesive characteristics is formed on one surface is used as a material, a prescribed pressing process is performed from the non-sliding coat film forming surface side of the original plate 21, and a chucking plate is assembled to the cartridge housing by having a sliding coat film forming surface face a disk.例文帳に追加

片面に耐熱非粘着特性を有する摺動性塗膜１７を形成した原板２１が素材として用いられ、原板２１の非摺動性塗膜形成面側から所定のプレス加工が施されて形成され、摺動性塗膜形成面をディスクに対向させてカートリッジ筐体に組み付けられる。 - 特許庁

The fuel cell separator is made of a base material of stainless steel of which the surface gets a nitriding process and is provided with a nitride layer existing in a thickness direction continuously from the surface of the base material, and the nitride layer has granular precipitations protruding in an outer direction on the uppermost surface and a high boiling point temperature metal part inside the nitride layer.例文帳に追加

ステンレス鋼からなる基材の表面を窒化処理することにより得られる燃料電池セパレータであって、基材の表面から深さ方向に連続して存在する窒化層を備え、窒化層は、最表面に外部方向に突出する粒状の析出物と、窒化層内に高沸点金属部を有する。 - 特許庁

To provide a film forming method of spraying an aerosol jetted from a nozzle on a film formation object, while continuously changing a spraying position of the aerosol, to form a film which continuously covers an upper surface, an outer surface and a curved surface, which enables continuous formation of a high-quality film by a simple process.例文帳に追加

製膜対象物にノズルから噴射されたエアロゾルを吹き付けつつ、その吹き付け位置を連続的に変化させることで、上面と外側面と湾曲面とを連続的に覆う膜を生成する製膜方法であって、簡易な方法で連続的且つ良質な膜の形成を可能とする製膜方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface treatment method which enables the formation of an emboss pattern selectable from various variations on the surface of a molded product by a simple process without depending on working a mold and a three-dimensional pattern having a high-quality feel on the surface of the resin by further providing the emboss pattern with metallic decoration.例文帳に追加

本発明は、金型加工によることなく、簡単な工程で、多様なバリエーションの模様を選択可能に成形品の表面に凹凸模様を形成し、さらにはこの凹凸模様にメタリック加飾して樹脂表面に高級感を有する立体的な模様を形成する表面処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In this method, a process is provided wherein when the Al oxide layer is formed by selectively oxidizing an Al of the semiconductor layer comprising Al, a protective layer 19 resistant to oxidizing atmosphere for oxidizing Al is provided on a perimeter and bottom surface of the mesa-post or a side surface and bottom surface of the ridge, except for the semiconductor layer comprising Al.例文帳に追加

本方法では、Ａｌを含む半導体層のＡｌを選択的に酸化させてＡｌ酸化層を形成する際、Ａｌを含む半導体層を除くリッジの側面及び底面又はメサポストの外周面及び底面に、Ａｌを酸化する酸化雰囲気に抗する保護層１９を設ける工程を備えている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed board, which continues to laminate respectively and alternately insulating resin layers and signal wiring conductor layers on both surfaces of a base material and includes a polishing process, which can polish the surface of the insulating resin layer on one side of the insulating resin layers and the surface on one side of both surfaces of the base material into a roughly parallel surface.例文帳に追加

絶縁樹脂層と信号配線導体層とを基材の両面にそれぞれ交互に積層していくプリント基板の製造方法であって、絶縁樹脂層の表面を基材の表面とほぼ平行な面に研磨することのできる研磨工程を含む製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment method for a steel material, which simplifies a surface treatment process for the material to be cold-formed or the like, give an adequate antirust effect to the surface of the material to be formed, reduces the surface hardness to enable the material to be deep-drawn, and makes it easily phosphated or painted.例文帳に追加

冷間加工前の加工材等の表面処理工程を簡素化し、しかも加工材表面に十分な防錆効果を持たせると共に、表面硬度を低下させて深絞り加工を可能にし、また、リン酸被膜処理や塗装等をしやすい状態にする鉄鋼材の処理方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In a photolithography process for forming electric wiring on an insulating substrate, the major surface of the substrate 1 on which a thin Al film 2 is formed entirely is coated uniformly with photoresist 3 and heated, at the time of prebake, such that the major surface of the substrate 1 has a partially different surface temperature before the photoresist is exposed and developed.例文帳に追加

絶縁性の基板上に電気配線を形成するためのフォトリソグラフィ工程において、前記基板１のＡｌ薄膜２を形成した主面全面にフォトレジスト３を均一に塗布した後、プリベークの際に、前記基板１の主面の表面温度が部分的に異なる温度になるように加熱し、露光、現像する。 - 特許庁

The substrate processing method includes enhancing liquid repellency of a surface of a substrate having a photosensitive film to a liquid by bringing the surface of the substrate into contact with plasma produced with a process gas; and exposing the substrate by irradiating, with exposure light, at least a portion of the surface of the substrate that is brought into contact with the plasma.例文帳に追加

基板処理方法は、感光膜を含む基板の表面をプロセスガスより生成されたプラズマと接触させて、基板の表面の液体に対する撥液性を高めることと、プラズマと接触した基板の表面の少なくとも一部に液体を介して露光光を照射して、基板を露光することと、を含む。 - 特許庁

To provide a surface-hydrophilic member composed of a highly hydrophilic surface layer excellent in hydrophilicity, wear resistance as well as transparency, storage stability, anti-fog properties, anti-stain properties, visible light transmission, chemical resistance and weatherability on the surface of a substrate of various kinds and a process of producing the member.例文帳に追加

各種の基材表面に親水性に優れ、且つ、より良好な耐摩耗性を有する、透明性、保存安定性、防曇性、防汚性、可視光透過性、耐薬品性、耐候性に優れた表面親水性層を備えた表面親水性部材及び塗布液の経時安定性に優れるその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

This method includes a fatigue cracking periphery peening process of providing plastic deformation to a surface of a steel plate 1 by performing peening of at least one of both sides sandwiching fatigue cracking 3 on the surface of the steel plate 1 in parallel to the fatigue cracking 3 and of closing an opening in the fatigue cracking 3 to form a cracking contact surface 3a.例文帳に追加

鋼板１の表面の疲労き裂３を挟んだ両側のうち少なくとも一側を疲労き裂３と平行にピーニングすることにより鋼板１の表面に塑性変形を付与し、疲労き裂３の開口部を閉じてき裂接触面３ａを形成する疲労き裂周辺ピーニング工程を有する。 - 特許庁

A buried layer 34 is formed through a process of applying material of low viscosity on the ferroelectric film 32 formed through an MOCVD method, then the whole surface of the buried layer 34 is subjected to anisotropic etching to remove projection tops on the surface of the ferroelectric film 32, and then the buried layer 34 left on the surface of the ferroelectric film 32 is removed.例文帳に追加

ＭＯＣＶＤにより形成した強誘電体膜３２上に、低粘度の材料を塗布して埋め込み層３４を形成し、次いで、全面を異方性エッチングして強誘電体膜３２表面の凸部頂上を除去し、次いで、強誘電体膜３２表面に残存する埋め込み層３４を除去する。 - 特許庁

When an ultraviolet ray curing type of the metallic ink is used, the screen process printing is applied on the plastic vessel surface or on a print of the plastic vessel surface by a printing ink containing an ink composition of ultraviolet ray curing type as a base, and the ultraviolet ray curing components in the printing ink are cured by irradiating ultraviolet ray on the printed surface.例文帳に追加

使用されるメタリックインキが紫外線硬化型の場合、プラスチック容器表面、あるいはプラスチック容器表面の印刷の上に、紫外線硬化型インキ組成物をベースとする印刷インキによりスクリーン印刷を行い、印刷面に紫外線を照射して印刷インキ中の紫外線硬化性の成分を硬化させる。 - 特許庁

A mask blank substrate has a conductive light-shielding body 12 that is opaque to exposure light for forming a pattern by a process including charge beam lithography, formed on one main surface of a substrate 11 transparent to exposure light, and the entire surface of the substrate 11 including four corners on the main surface is coated with a conductive material.例文帳に追加

露光光に対して透明な基板１１上の一主面に荷電ビームリソグラフィーを含むプロセスによりパターンを形成するための露光光に対して不透明な導電性の遮光体１２を形成したマスクブランクス基板であって、基板１１の一主面上の４隅を含む全面がく導電性材料で覆われている。 - 特許庁

The stainless mirror is produced by a process of subjecting the surface of the mirror surface finished stainless steel to a pretreatment, then applying a clear coating material of an oxide sol or fluororesin which constitutes a coating film of a small refractive index on the surface, then baking the coating prior to coating application and baking of the oxide coating material contg. the photosemiconductor.例文帳に追加

このステンレス鋼板鏡は、鏡面仕上げステンレス鋼板の表面に前処理を施した後、光半導体を含有する酸化物塗料を塗布、焼き付けする前に屈折率の小さい塗膜となる酸化物ゾルまたはフッ素樹脂のクリヤ−塗料を塗布して、焼き付けする方法により製造する。 - 特許庁

An element isolation oxide film 103 is formed on the surface of a semiconductor substrate 101, a silicon nitride film 104 is formed on the surface of the element isolation oxide film, an oxide film 108 is formed on the surface of the semiconductor substrate 101, and a process for etching the oxide film is included for forming an element.例文帳に追加

半導体基板１０１の表面に素子分離酸化膜１０３を形成し、かつ素子分離酸化膜の表面上にシリコン窒化膜１０４を形成した上で、半導体基板１０１の表面上に酸化膜１０８を形成し、かつ当該酸化膜をエッチングする工程を含んで素子を形成する。 - 特許庁

In a laminating process for a laminate 30 constituted of a light receiving surface-side protective material 2, a first sealing material 4a, a plurality of solar cells 10, a second sealing material 4b, and a back surface-side protective material 3, the first sealing material 4a is sealed between the light receiving surface-side protective material 2 and second sealing material 4b.例文帳に追加

受光面側保護材２、第１封止材４ａ、複数の太陽電池１０、第２封止材４ｂ及び裏面側保護材３によって構成される積層体３０のラミネート工程において、第１封止材４ａを受光面側保護材２と第２封止材４ｂとの間に封止する。 - 特許庁

Namely, the shape of the microparticle P itself appears as a projection shape on the surface of the phosphor layer 504, thereby eliminating steps for forming a rugged shape on the surface of the phosphor layer 504, for example, for transferring a fine convexoconcave shape onto the surface of the phosphor layer by a stamper, or for applying an etching process to the surface of the phosphor layer.例文帳に追加

すなわち、微小粒子Ｐ自体の形状が蛍光体層５０４表面に突起形状として現れることで、蛍光体層５０４表面に凹凸形状を形成することを目的とする工程、例えば、蛍光体層の表面にスタンパによって微細な凹凸形状を転写する工程や、蛍光体層の表面にエッチング処理を施す工程を、不要とする。 - 特許庁

A method for producing a microchip where a resin substrate having a groove for a flow channel on its surface and a resin cover member for covering the groove for the flow channel are thermally bonded together includes a treatment process for equalizing the density of an internal region which is deeper than a predetermined depth from the surface of the substrate or the density of a surface region within the predetermined depth from the surface of the substrate.例文帳に追加

表面に流路用溝を有する樹脂製の基板と、流路用溝をカバーする樹脂製のカバー部材と、が熱接合されたマイクロチップの製造方法において、基板の表面から所定の深さより深い内部領域の密度、又は基板の表面から前記所定の深さ以内の表面領域の密度を均一にする処理工程を有する。 - 特許庁

The method of manufacturing the optical device wafer having the optical device layer laminated on the surface of a sapphire substrate includes: an unevenness forming step of forming fine uneven waviness on the surface of the sapphire substrate by grinding the surface of the sapphire substrate; and an optical device layer-forming step of laminating and forming the optical device layer on the surface of the sapphire substrate on which the unevenness forming process is performed.例文帳に追加

サファイア基板の表面に光デバイス層が積層された光デバイスウエーハの製造方法であって、サファイア基板の表面を研削してサファイア基板の表面に微細な凹凸のうねりを形成する凹凸形成工程と、凹凸形成工程が実施されたサファイア基板の表面に光デバイス層を積層して形成する光デバイス層形成工程とを含む。 - 特許庁

The method for analysis includes: performing removal or inactivation processing on various products (by-products) produced on a decomposition (or etching) surface as a first process and making the surface hydrophobic rapidly with an HF gas thereafter at need; and thereby scanning the hydrophobic silicon wafer surface with drops of water with extremely high reproducibility and efficiency to collect and analyze decomposed matter on the surface.例文帳に追加

本発明に係る分析方法は、第１工程である分解（又はエッチング）表面に生じる種々の生成物（副生物）を除去又は不活性化処理を行い、かつその後必要であれば表面を速やかにＨＦガスで疎水性化することで、極めて再現よく効率的に、疎水性シリコンウェハ表面を水滴でスキャンして表面の分解物を回収して分析する。 - 特許庁

In a smoothing process wherein the fluororesin layer is formed by heating a fluororesin powder layer under a pressurized condition utilizing difference in thermal expansion rates between a base material and a surface transfer member by heating the surface transfer member from the outside by means of an IR heater, a releasing layer consisting of a lubricating liquid is formed between the fluororesin powder layer and the inner surface of the surface transfer member.例文帳に追加

面転写部材を外側より赤外線ヒーターで加熱することにより、基材と面転写部材との熱膨張率の差を利用して、フッ素樹脂粉体層を加圧した状態で加熱し、フッ素樹脂層を形成する平滑化工程において、フッ素樹脂粉体層と面転写部材内表面との間に、潤滑性液体からなる離型層を形成する。 - 特許庁

When the calculation result is within a range of the set data quantity, a surface sequence compressor 12 executes a compression process with a point-surface transformation, but if it lies outside the range of the set data quantity, the calculator 13 recalculates the data quantity after changing compression parameters, thereby avoiding unnecessary point-surface or surface-point transformations.例文帳に追加

そして、算出結果が設定データ量の範囲内であれば、面順次圧縮部１２が点面変換を伴う圧縮処理を行う一方、算出結果が設定データ量の範囲内になければ、圧縮パラメータを変更して前記面データサイズ算出部１３によるデータ量の再算出を行うようにし、不必要な点面変換や面点変換を行わないようにする。 - 特許庁

This probe manufacturing method comprises a process for heating a metal raw material under vacuum or inert gas atmosphere, a process for working the metal raw material into a needle body after the heating, a process for removing the impurity on the needle body surface by heating the needle body under reducing atmosphere, and a process for removing a reducing element adsorbed or diffused in the needle body after removing the impurity.例文帳に追加

金属素材を真空中又は不活性ガス雰囲気中で加熱する工程と、前記加熱後、前記金属素材を針状体に加工する工程と、前記針状体を還元性雰囲気中において加熱することにより、針状体表面の不純物を除去する工程と、前記不純物の除去後、前記針状体に吸着又は拡散している還元性元素を除去する工程とからなることを特徴とする探針製造方法である。 - 特許庁

The method includes a deformation analysis process (step S14) for analyzing a tire model and a road surface model to analyze tire deformation, a stress history acquiring process (step S16) for acquiring history of stress generated by rotation of a tire based on a result of the deformation analysis process (step S14), and a durability evaluation process (step S18) for evaluating the durability based on the acquired stress history.例文帳に追加

タイヤモデル及び路面モデルを解析し、タイヤの変形解析を実行する変形解析工程（ステップＳ１４）と、変形解析工程（ステップＳ１４）での解析結果に基づいて、タイヤを１回転により生じる応力の履歴を取得する応力履歴取得工程（ステップＳ１６）と、取得した応力の履歴に基づいて耐久性能を評価する耐久性能評価工程（ステップＳ１８）と、を含むことで、上記課題を解決する。 - 特許庁

This method for positioning a workpiece at the focal point of laser beam includes (a) a process 102 for generating laser beam, (b) a process 130 for focusing laser beam and forming plasma which causes plasma radiation, (c) a process for positioning the focal point responsive to plasma radiation, and (d) a process 132 for translating the surface of workpiece to the above position of focus.例文帳に追加

レーザー機械切削するために加工物の表面を適切な位置に配置する方法であって、上記方法は、以下：（ａ）レーザー光線を発生させる工程１０２；（ｂ）該レーザー光線を焦点に集中させて、プラズマ放射を発生させるプラズマを形成する工程１３０；（ｃ）該プラズマ放射に対して応答性の該焦点の位置を決定する工程；および（ｄ）該加工物の該表面を、該焦点の該位置に移動させる工程１３２、を包含する方法を提供する。 - 特許庁

The manufacture method of the semiconductor film includes a process to prepare an amorphous semiconductor film, a process to crystallize to obtain a crystalline semiconductor film by irradiating a crystallizing laser beam to at least a part of the amorphous semiconductor film, and a process to planarize a surface of the crystalline semiconductor film by irradiating a planarizing laser beam to the crystalline semiconductor film continuously from the crystallizing process.例文帳に追加

本発明による半導体膜の製造方法は、非晶質半導体膜を用意する工程と、非晶質半導体膜の少なくとも一部に結晶化レーザビームを照射することにより、結晶質半導体膜を得る結晶化工程と、結晶化工程に連続して、結晶質半導体膜に平坦化レーザビームを照射することにより、結晶質半導体膜の表面を平坦化する平坦化工程とを包含する。 - 特許庁

This method for modifying the surface of the organic polymer material is characterized by comprising a process of applying a mixed solution containing the polymer or oligomer and a polyfunctional cross-linking monomer having ≥2 functional groups having a radiation-bonding reaction activity and a process of irradiating radiation afterwards, and preferably, having a drying process after the process of applying the mixed solution.例文帳に追加

有機高分子材料表面にポリマー又はオリゴマーと、放射線結合反応活性な官能基を２個以上有する多官能性架橋モノマーとを含む混合溶液を塗布する工程、その後放射線を照射する工程を有することを特徴とする有機高分子材料表面の改質法であり、好ましくは、前記混合溶液を塗布する工程の後に乾燥させる工程を有する有機高分子材料表面の改質法。 - 特許庁

A melting process 102 for melting an aluminum alloy, a punching press molding process 105 for molding a reinforcing material by the punching press molding of the alloy, a block forming process 109 for molding a block in which the surface of the reinforcing material is coated with a resin layer, and an ageing-annealing process 110 for ageing the reinforcing material and annealing the resin layer in parallel are provided.例文帳に追加

アルミニウム合金製の金属素材を溶体化処理する溶体化処理工程１０２と、溶体化処理後の金属素材を打抜きプレス成形して補強材を成形する打抜きプレス成形工程１０５と、樹脂層が補強材表面に被覆されたブロックを成形するブロック成形工程１０９と、補強材に対する人工時効処理と樹脂層に対するアニーリング処理とを並行して行う人工時効・アニーリング処理並行工程１１０とを備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing a ceramic formed body is characterized by including a process for forming a green ceramic formed body 1 by molding a desired form from ceramic material, and a process for sintering the green ceramic formed body 1 while placing the first surface 1A of the green ceramic formed body 1 on a sintering stand 100 and installing a warpage adjusting plate 200 which faces the second surface 1B which is opposite to the first surface 1A.例文帳に追加

本発明のセラミック成形体の製造方法は、セラミック材料から所望の形状に成形し、グリーンセラミック成形体１を形成する工程と、前記グリーンセラミック成形体１の第１の面１Ａを焼結台１００上に載置するとともに、前記第１の面１Ａに対向する第２の面１Ｂに対向する反り調整板２００を設置し、前記グリーンセラミック成形体１を焼結する工程とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the localized plasmon resonance sensor unit acquired by forming a metal layer on the surface of a polymer film, having a plurality of recessed parts on the surface includes a polymer film manufacturing process for manufacturing the polymer film having the plurality of recessed parts by foaming a block copolymer; and a metal later forming process for forming the metal layer on the surface of the polymer film having the plurality of recessed parts.例文帳に追加

本発明にかかる製造方法は、表面に凹部を複数有する高分子フィルムの表面に金属層が形成されてなる局在プラズモン共鳴センサーユニットの製造方法であって、ブロック共重合体を発泡させて凹部を複数有する高分子フィルムを製造する高分子フィルム製造工程、および当該凹部を複数有する高分子フィルムの表面に金属層を形成する金属層形成工程を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the heat dissipation structure includes a first process to form a carbon nanotube deposited layer being as a main composition on the surface of the substrate and a second process to extrude the top of carbon nanotube near the surface of substrate at least to contact with the partner material from the carbon nanotube deposited layer and to orient the lengthwise direction of carbon nanotube to direct in the direction vertical to the substrate surface.例文帳に追加

本発明に係る放熱構造の製造方法は、基板表面にカーボンナノチューブを主成分とするカーボンナノチューブ堆積層を形成する第一の工程と、少なくとも相手材に接触させる基板表面近傍のカーボンナノチューブの先端をカーボンナノチューブ堆積層から突出させ、かつ、カーボンナノチューブの長さ方向が基板面に垂直な方向に向くように配向させる第二の工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

A lower surface of the substrate is subjected to vacuum suction when the substrate support unit is in a polishing process.例文帳に追加

基板支持ユニットが研磨工程の時には、基板の下面を真空吸着し、洗浄後工程の時には、基板の下面洗浄のため基板を上向きに離隔された状態で支持することを特徴とする。 - 特許庁

In the process, A bubble-less core material 4 which has the diameter similar to the outer periphery of the body 1 and several brim-like collars 4A to be formed on the outer peripheral surface of the material 3 is prepared by outsert molding.例文帳に追加

該棒状基材３の外周面に軸体１の外周と同一の直径を有する複数個の鍔状カラー４Ａをアウトサート成型して無気泡芯材４を設ける。 - 特許庁