「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(90ページ目) - Weblio英語例文検索

To achieve the feed stabilization of a substrate by preventing the generation of jamming or meandering even in a low rigidity thin substrate or a substrate having a projected curl (a curl toward a rear surface) in a drain process.例文帳に追加

液切り工程において、薄板の低剛性基板や凸カール（下面側へのカール）を有する基板においても、ジャムや蛇行等の発生を防止し基板搬送の安定を図る。 - 特許庁

To provide a water repellent treatment method capable of simply endowing the surface of an object to be treated having pores with water repellency without the need of the use of a water repelling agent or an after-process.例文帳に追加

撥水剤の使用や後工程を要することなく細孔を有する被処理物の表面に撥水性を簡単に付与することができる撥水処理方法を提供する。 - 特許庁

To produce a sintered body having a fine and rigid high electric resistance layer on the surface of soft magnetic powder through a simple process using inexpensive soft magnetic powder principally comprising iron as a material.例文帳に追加

安価な鉄を主成分とする軟磁性粉末を原料とし、軟磁性粉末表面に緻密で強固な高電気抵抗層を有する焼結体を簡単な工程で製造する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic device by which the occurrence of high temperature offsetting such as the sticking of molten toner to an image surface side heating body in the fixing process of a toner image is prevented in an electrophotographic device.例文帳に追加

電子写真装置において、トナー画像の定着工程で溶融トナーが画像面側加熱体に付着するといった高温オフセットを防止する電子写真装置を提供する。 - 特許庁

A target 10 including a substrate having a through hole and a metallic foil stuck to a first surface 21 of the substrate to close the through hole to make wiring is soaked in a process liquid 20.例文帳に追加

貫通穴を有する基板と、配線にするために基板の第１の面２１に貫通穴を塞ぐように貼り付けられた金属箔と、を含む対象物１０を処理液２０に浸漬する。 - 特許庁

This manufacturing method has a process for forming a metal thin film 60 having the thickness of 50 μm or below by sputtering on the surface of a core member 100 or on an intermediate layer forming the medical instrument.例文帳に追加

医療用具を構成するコア部材１００の表面または中間層に、スパッタリングにより、厚み５０μｍ以下の金属薄膜６０を形成する工程を有する製造方法。 - 特許庁

To provide a coat drying method that secures the good appearance of the surface of a finished coat in wet-on-wet coating while performing the low temperature and shortening process of a preheating step.例文帳に追加

プレヒート工程の低温化及び短縮化を行いつつ、仕上がり塗装面の良好な外観性を確保し得るウェット・オン・ウェット塗装における塗装乾燥方法を提供する。 - 特許庁

On the first insulating film with its surface treated with the process liquid, a second insulating film is formed of an organic insulating material whose relative dielectric constant is lower than that of a silicon oxide.例文帳に追加

処理液で表面処理された第１の絶縁膜の上に、比誘電率が酸化シリコンの比誘電率よりも低い有機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成する。 - 特許庁

Then, with the use of the anhydrous citric acid complex solution, a deposition process (steps S4-S7) which carries out deposition treatment using formed anhydrous citric acid complex solution is processed on a surface of the electrode member.例文帳に追加

そして、無水クエン酸錯体溶液を用いて、電極部材の表面に、作製された無水クエン酸錯体溶液を用いて成膜処理する成膜工程（ステップＳ４〜Ｓ７）を行う。 - 特許庁

In the process for scanning laser beam 23, the condensing point 45 is successively moved three times in the thickness direction of the quartz substrate 1 to form the modified region 50 to the whole surface of the quartz substrate 1 in its thickness direction.例文帳に追加

レーザ光２３を走査する工程は、水晶基板１の厚み方向に集光点４５を順に３回移動させて、厚み方向の全面に改質領域５０を形成する。 - 特許庁

To provide a process of producing a GaN substrate which has a low threading dislocation density and in the surface of which no dislocation bundle exists and in which no disturbance of the cleavage face is caused.例文帳に追加

貫通転位密度が小さく、かつ基板表面においても転位の束が存在せず、劈開面の乱れを起こさないＧａＮ基板の製造方法およびＧａＮ基板を提供する。 - 特許庁

A hole forming process for through holes 13 is executed from a portion above the protection layer 28 at the front surface side of the insulation substrate 25 by using a punch 50 having a diameter d2 not less than the inner diameter d0 of the control electrode 14.例文帳に追加

絶縁性基板25の表面側の保護層28の上から、制御電極14の内径ｄ０以上の径ｄ２のパンチ50を用いて、通過孔13の穴開け加工を行う。 - 特許庁

To provide a reliability-improved head assembly capable of preventing the falling of broken pieces onto a magnetic disk surface even when chipping, cracking or the like occurs in a head amplifier IC in manufacturing process.例文帳に追加

製造工程においてヘッドアンプＩＣに欠け、クラック等が発生した場合でも、磁気ディスク表面への破片の落下を防止し、信頼性の向上したヘッドサスペンションアッセンブリを提供する - 特許庁

This invention relates to a new light-emitting tube produced by using a quartz glass or a synthetic quartz glass as a base material for the tube and forming a corrosion-resistant film on the surface and to a process for the production of the tube.例文帳に追加

発光管母材として石英ガラス又は合成石英ガラスを使用し、その表面に耐食膜を形成させて成る新規な発光管及びその製造方法に関する。 - 特許庁

To improve defective process measures and work properties by making positioning structure to be constant through processes be possessed in advance during the manufacture of a surface layer material in a car interior material.例文帳に追加

自動車用内装材において、表層材の製作時に、予め各工程間を通じて一定となる位置決め構造を持たせて工程不良対策と作業性の向上を図る。 - 特許庁

To provide a surface-emitting laser that can be manufactured through a simple process, can be lowered in operating voltage, and can be constituted to output high-luminance light in a fundamental transverse mode, and to provide a method of manufacturing the laser.例文帳に追加

簡単なプロセスで製造でき、動作電圧が小さくでき、高輝度の基本横モードの光出力を有する様にできる面発光レーザ装置およびその製造方法である。 - 特許庁

To provide a charged amount evaluation element capable of evaluating the amount of charge transferred through the surface of a workpiece with high sensitivity and high resolution, in a manufacturing process of an electronic device such as a magnetic head.例文帳に追加

磁気ヘッド等電子デバイスの製造工程において、被加工物表面が授受する電荷量を高感度、高分解能で評価する帯電量評価素子を提供する。 - 特許庁

The insulating film 60 is formed through a heat treatment process, thereby surface roughness of an underlying floating gate is reduced, and an oxynitride thin-film 54 is formed on the floating gate.例文帳に追加

絶縁膜６０は熱処理工程によって形成され、これによって下部のフローティングゲートの表面粗度が減少され、酸化窒化物薄膜５４がフローティングゲート上に形成される。 - 特許庁

To execute an accurate test optically for determining the presence or absence of flaws on the surface of a round bar material on which oil films are formed because of being coated with oil or the like in a manufacturing process.例文帳に追加

製造過程で油などが塗布されて油膜が形成される丸棒材表面の欠陥の有無を、光学式にて高精度に検査することができる疵検査装置を提供する - 特許庁

The outer ring 11 is made of a bearing steel and a surface coating process of a hard chromate coating and the like is applied to the outer ring 11 at least on a part contacting with the resin pulley 16 in advance.例文帳に追加

外輪１１は軸受鋼からなり、外輪１１の少なくとも樹脂プーリ１６が接触する部分には、予め硬質クロメート被膜等の表面被膜処理が施されている。 - 特許庁

To provide a high-quality developing roller that exhibits excellent chargeability in a high-temperature high-humidity environment and prevents deterioration in surface hardness in the high-temperature high-humidity environment, and to provide a high-quality process cartridge using the developing roller and an electrophotographic image forming device.例文帳に追加

高温高湿環境において高い帯電付与性を有し、かつ高温高湿環境での表面硬度の低下を抑制した高品位な現像ローラを提供する。 - 特許庁

In the molding process, an inner peripheral face of the die hole of the die has a recess or projection, so that an engagement portion composed of the recess or projection is formed on an outer wall surface of the rod-shaped molding.例文帳に追加

成形工程において、ダイスのダイス孔の内周面には凹又は凸が形成されており、凹又は凸からなる係合部を棒状成形体の外壁面に形成する。 - 特許庁

To provide a wafer storage device which prevents formation of a watermark and the occurrence of a scratch on the surface of a wafer in a process of conveying the wafer while submerging the wafer after polishing.例文帳に追加

研磨後にウェーハを水没させて搬送する工程において、ウェーハの表面にウォータマークが形成されたり傷がついたりすることのないようなウェーハ収納装置を提供する。 - 特許庁

In the identifying process, the bill P to be identified placed on the bill placing surface 2 is directly seen to relieve the customer who has presented the bill P to be identified.例文帳に追加

さらに、識別動作中においても紙幣載置面２に載せた識別対象の紙幣Ｐを直接に目視できるので、識別対象の紙幣Ｐを差し出した顧客の安心感も得られる。 - 特許庁

This method of manufacturing the recording head comprises a first etching process for etching a part 1a of the surface of a silicon substrate 1 in such a manner that a plurality of pillar like parts 1c are left therein.例文帳に追加

本発明の記録ヘッドの製造方法は、シリコン基板１の表面の一部１ａを、複数の柱状部分１ｃが残るようにエッチングする第１エッチング工程を備える。 - 特許庁

Consequently, alignment of the recess 62 and an opening surface surrounded by the wall part 24A needed in a manufacturing process where the recess 62 is formed before bonding the interconnecting hole plate 24 is not required.例文帳に追加

このため、連通孔プレート２４を接合する前に凹部６２を形成する製造方法では必要となる、凹部６２と壁部２４Ａに囲まれた開口面との位置合わせが不要となる。 - 特許庁

To provide a photonic crystal surface light emitting laser element oscillating at room temperature and stably operated while simplifying the manufacture process thereof, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

製造プロセスを簡略化しつつ、室温において発振可能であるとともに、安定して動作することが可能なフォトニック結晶面発光レーザ素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Before a lamination process, each of jointing surfaces 12a, 14a of an MEA 12 and a gas diffusion layer 14 is subjected to rubbing treatment to form a surface roughness in a fluffy form in one direction.例文帳に追加

積層工程前に、ＭＥＡ１２及びガス拡散層１４の各接合面１２ａ、１４ａに、ラビング処理を施すことで、一方向に毛羽立つ態様の表面荒れを形成する。 - 特許庁

To optimize the number of scanning times (integration times) in image integration process by grasping beforehand an extent of charging on the surface of a sample by irradiation of a primary electron beams.例文帳に追加

一次電子線の照射による試料表面における帯電の程度を予め把握することにより、画像積算処理における走査回数（積算回数）の最適化を図る。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of thin film formation substrate by which a substrate having a surface on which a fine pattern is formed with high precision can be obtained, with high degree of freedom in process conditions and material selection.例文帳に追加

表面に高精度で微細パターンが形成された基板を得ることができ、かつプロセス条件や材料選択の自由度の大きな薄膜形成基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

On the other hand, when the emissivity in the rear surface of the wafer is out of the detecting range of the optical detector, the temperature is operated based on an emissivity ε_0 measured before the heat treatment process.例文帳に追加

一方、ウェハ裏面における放射率が光検出器の検出範囲外にある場合は、熱処理工程前に測定した放射率ε_０に基づいて温度を算出する。 - 特許庁

To provide a microstructure fabricating method capable of transcribing a microstructure on the surface of a substrate using a micropattern template which is fabricated without using a high-grade micropattern drawing process.例文帳に追加

高度な微細パタン描画プロセスを用いることなく、微細パタンテンプレートを作製し、そのテンプレートを用いて対象基板表面に微細構造を転写可能な微細構造を作製する。 - 特許庁

A high defect density layer 12 having a high oxygen concentration is formed in the interior of a semiconductor substrate 11, simultaneously with which it is subjected to a hydrogen annealing process to form a non-defect layer 13 on the surface layer.例文帳に追加

半導体基板１１の内部に酸素濃度の高い高欠陥密度層１２を形成すると共に表面層に無欠陥層１３を形成するための水素アニール処理を行う。 - 特許庁

Thereafter, a takeout process for lowering the surface temperature of the cavity to the below glass transition temperature of polylactic acid to take out the resin molded product comprising the a polylactic acid resin from the cavity is performed.例文帳に追加

その後、キャビティの表面温度をポリ乳酸のガラス転移温度未満にまで降温し、ポリ乳酸樹脂からなる樹脂成形品をキャビティから取り出す取出工程を行う。 - 特許庁

High adhesive strength can be obtained without applying surface treatment process such as liquid chemical treatment on metal base material by using the adhesive for adhering wet type friction material and the metal base material.例文帳に追加

この接着剤を、湿式摩擦材と金属基材の接着に用いることにより、金属基材に薬液処理等の表面処理工程を施さなくても高い接着強度が得られる。 - 特許庁

This process for production consists in forming projecting parts 3 in the shorter side of the glass lens 1 in the manufacture of the glass lens 1 having a longitudinal direction and the shorter side direction on an optical surface by forming the performed glass 7 to 7f.例文帳に追加

プリフォームされたガラス７〜７ｆを成形し、光学面に長手方向と短手方向を有するガラスレンズ１の製作で、ガラスレンズ１の短手方向に突起部３を形成する。 - 特許庁

This order enables manufacture of the packages, without additional patterning process or additional substrate for adhering solder balls in the direction of the upper surface of the semiconductor chip.例文帳に追加

このような順序変更を通じて、半導体チップの上面方向にソルダーボールを付着するための別途のパターニング工程や別途の基板を利用せずにパッケージが製造できる。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a semiconductor chip in which an adhesive film for die bonding can be stuck and split while preventing the occurrence of extrusion or burr on the rear surface of the semiconductor chip.例文帳に追加

ダイボンディング用の接着フィルムを、半導体チップの裏面にはみ出しやばりを発生することなく貼付と分割を行うことができる半導体チップの製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a low linear pressure and high surface pressure cleaning structure by specifying the material, shape and support structure of a cleaning blade in a cleaning device, a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

クリーニング装置、プロセスカートリッジ、および画像形成装置において、クリーニングブレードの材質や形状や支持構成を特定することにより、低線圧で高面圧なクリーニング構成を得る。 - 特許庁

Further, a monolayer of a second silicon layer is formed on the first silicon layer on the lower inner wall of the hole, and then, a first silicon nitride layer is formed on the whole inner wall surface of the hole by a nitriding process.例文帳に追加

ホールの下部内壁上の第１のシリコン層に更に、１原子層の第２のシリコン層を形成後、窒化処理によりホールの内壁全面に第１の窒化シリコン層を形成する。 - 特許庁

Even when the device 16 moves to a retreat position, the sheet 51 moves while contacting with the upper surface of the housing 31a of the process cartridge, So that the toner is prevented from being leaked from the gap.例文帳に追加

クリーニング装置１６が退避位置に移動しても、防塵シート５１がプロセスカートリッジ３１の筐体３１ａ上面に接しつつ移動するので、隙間からトナーが漏れ出るのを防止できる。 - 特許庁

This process comprises setting the average residence time in piping and equipment from attainment of a predetermined degree of polymerization to cooling and solidification and the temperature of the inner wall surface of the equipment in appropriate ranges, respsectively, to perform continuous polymerization.例文帳に追加

所定の重合度に達してから冷却固化するまでの配管や装置での平均滞留時間や該設備の内壁面温度を適切な範囲として連続重合を行う。 - 特許庁

To provide a heat reflecting road colorable in an optional color without requiring a painting process, restraining a heat island phenomenon, and having a road pavement surface causing no heat radiation at night.例文帳に追加

塗装工程が不要であるのに任意の色に着色ができ、ヒートアイランド現象を抑止しえる、夜間に熱放出の無い道路舗装表面を有する熱反射道路の開発。 - 特許庁

Then, in a washing process (a step S3), foreign matter such as a cutting oil and scraps adhered to the external surface of the core bar are removed by jetting water to the core bar.例文帳に追加

その後、洗浄工程（ステップＳ３）では、芯金に対して水を噴射させることにより、その芯金の外表面に付着している切削油や切削屑等の異物を除去する。 - 特許庁

To provide a highly efficient solar battery by lowering a contact resistance between a collecting electrode in the light receiving surface side and a high concentration n-type layer of the solar battery itself with the simplified process.例文帳に追加

簡便な工程で太陽電池の受光面側の集電電極と高濃度ｎ型層の接触抵抗を低くして高効率の太陽電池を提供することを目的とする。 - 特許庁