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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > surface processに関連した英語例文

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surface processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9599件



例文

In the lamination process, the jointing surfaces 12a, 14a exhibiting the surface roughness generated are directly meshed with each other to joint both, as in what is referred to as "hook-and-loop fastener".例文帳に追加

積層工程で、表面荒れを生じた各接合面12a、14a同士を直接的に噛合わせ、いわゆる面ファスナーの要領で両者を接合する。 - 特許庁

Zn ALLOY PARTICLE FOR HIGHLY ANTICORROSIVE AND RUST-INHIBITING PAINT HAVING FRACTURED SURFACE, PROCESS FOR PRODUCTION OF THE PARTICLE, HIGHLY ANTICORROSIVE AND RUST-INHIBITING PAINT, AND HIGHLY CORROSION-RESISTING STEEL MATERIAL AND STEEL STRUCTURE例文帳に追加

破砕面を有する高耐食性防錆塗料用Zn合金粒子、その製造方法、高耐食性防錆塗料、高耐食性鉄鋼材料および鋼構造物 - 特許庁

To provide a metal-ceramic bonding substrate which can prevent warpage into a concave shape of the rear surface thereof even when it is heated for the soldering process, and also to provide a method of manufacturing the same substrate.例文帳に追加

半田付けのために加熱しても裏面が凹状に反るのを防止することができる、金属−セラミックス接合基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In this process, the primary insulating film is formed as a silicon oxide film 13 wherein its top surface remains in at least a silicon-rich state, while the secondary insulating film is formed as a silicon oxide film 14.例文帳に追加

ここで、第1の絶縁膜は、少なくとも表面がシリコンリッチとなるようにシリコン酸化膜13を形成し、第2の絶縁膜は、シリコン酸化膜14を形成する。 - 特許庁

例文

To make the surface of a substrate, whose recesses such as wiring grooves, etc., are filled with wiring metal, flat and suppress dishing defects produced in a CMP process afterwards.例文帳に追加

配線溝等の凹部に配線金属を埋め込んだ後の基板表面を平坦化すると共に、その後のCMP処理で生じるディッシング欠陥を抑制すること。 - 特許庁


例文

The polymer is attached or bound to the surface and side wall of a resist layer 23, so that the resist layer 23 is hardly reduced both in thickness and in width in an etching process.例文帳に追加

この重合物は、レジスト層23の表面及び側壁に付着、又は結合するので、エッチング工程でレジスト層23の膜厚及び幅が減少することがない。 - 特許庁

In the third process, amounts of defocus def0, def2, def3 to the scheduled focal plane FP of the imaging surface 114 are detected based on output from a focus detection pixel 116.例文帳に追加

第3の工程は、焦点検出画素116からの出力に基づいて撮像面114の予定焦点面FPに対するデフォーカス量def0,def2,def3を検出する。 - 特許庁

In the cutting process, a part or all of the surface layer part of the carbon steel base material is cut to the maximum decarburization depth or more to manufacture the desired sliding components 17, 23, 24, 26, 39, 60.例文帳に追加

切削工程では、炭素鋼母材の一部又は全部の表層部分が最大脱炭深さ以上切削されて所望の摺動部品17,23,24,26,39,60が製造される。 - 特許庁

After being polished by means of CMP, the upper surface of the upper electrode 112 of the capacitor is doped by the same doping process as that of the lower electrode 106a of the capacitor.例文帳に追加

キャパシター上部電極112の上部表面がCMPにポリシングされた後、キャパシター下部電極106aと同一なドーピング工程によりドーピングされる。 - 特許庁

例文

In a process of step S2, a coating material of cement resin material containing, for example, acrylic resin emulsion and a cement material is sprayed on the surface of the three-dimensional structure.例文帳に追加

ステップS2の工程において、上記三次元構造物の表面に、例えばアクリル系樹脂のエマルジョンとセメント材を含むセメント樹脂材の塗料を吹き付け塗装する。 - 特許庁

例文

To continuously and uniformly form a mixed film composed of different element and having prescribed compositional ratios and objective thickness on the surface of a film in the process of running.例文帳に追加

走行中のフィルム表面に異なる元素からなり、所定の組成比および目標厚みを有する混合膜を、連続的、且つ均一に形成可能にする。 - 特許庁

Lastly in a semiconductor manufacturing process (for example, sputtering method, vapor deposition method or the like), a metal film is formed as a plating seed layer on the surface of both ends of electronic element.例文帳に追加

最後に、半導体製造工程(例えば、スパッタリング法や、蒸着法等)を以ってめっき用種子層として電子素子の両端の表面に金属フィルムを形成する。 - 特許庁

To provide a magnetic developing roll that it can be manufactured in a simple process, processing precision is good and a desired state of a surface is easily produced.例文帳に追加

簡単な工程で製造することができる上に、加工精度が良好であると共に、所望の表面性状を容易に発現できる磁性現像ローラを提供すること。 - 特許庁

Oxidized hardened layer is formed on a part or whole of a surface of the engine valve, is coated by hard coating or is applied to peening process.例文帳に追加

また、エンジンバルブ表面の一部または全体に、酸化硬化層が形成され、硬質皮膜に被覆され、あるいはピーニング処理が施されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a single-crystal semiconductor thin film capable of forming a single-crystal semiconductor thin film having a projecting/ recessing surface in a simple process.例文帳に追加

簡単な工程で凹凸の表面を有する単結晶半導体薄膜を形成することができる単結晶半導体薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a state that the substrate 12 is mounted on a mounting surface 14a of the palette 14, the substrate mounting system 10 can send the substrate to a mounting process for an electronic component.例文帳に追加

基板取付システム10は、基板12をパレット14の搭載面14a上に搭載した状態で、これを電子部品の実装工程に流すことができる。 - 特許庁

In the one embodiment, it is possible to expose the surface of the diffusion barrier layer to an adhesion promoting agent before the foregoing formation process or during at least its part.例文帳に追加

一部の態様では、この形成工程の前か少なくともその一部分の最中に、拡散バリア層の表面を密着促進剤に暴露することができる。 - 特許庁

To provide surface emitting laser equipment capable of reducing the number of components, eliminating the necessity of a complex adjustment process and emitting multiple polarized light signals.例文帳に追加

部品点数が少なく且つ複雑な調整工程を必要とすることなく偏波多重光信号を出射可能な面発光レーザ装置を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a process for the production of a polyester resin composition having excellent mechanical properties, heat-resistance, dimensional stability and moldability without deteriorating the surface property.例文帳に追加

表面性を損なうことなく、機械的特性、耐熱性、寸法安定性、および成形性に優れるポリエステル樹脂組成物を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

According to this method, in executing the molding process, the bottom surface of the lead frame is unfailingly insulated, and the packaging material is prevented from flowing out to the lead frame.例文帳に追加

このような方法によると、鋳型工程を行うとき、リードフレームの底面を確実に遮蔽することができ、パッケージング材がリードフレームにはみだすことを防止することができる。 - 特許庁

A photoresist 4 is formed on the interlayer insulating film 8, and is exposed in a photolithographic process over the whole surface of the area within a shadow ring, to form contact holes 9.例文帳に追加

続いて、層間絶縁膜8上にフォトレジスト4を形成し、フォトリソグラフィ工程にてシャドーリング内の領域の全面を露光し、コンタクトホール9を形成する。 - 特許庁

The rare-earth magnet 1 of the above configuration can be manufactured through a process of allowing a solution containing aluminum ions and having acidity to contact the surface of the magnet base 2.例文帳に追加

かかる構成の希土類磁石1は、磁石素体2の表面に、アルミニウムイオンを含み酸性を有する水溶液を接触させる工程を経て製造することができる。 - 特許庁

To provide a magnesium plate provided with pure magnesium or a magnesium alloy on the surface and used for press working, wherein its production process is prevented from being complicated.例文帳に追加

表面に純マグネシウムまたはマグネシウム合金を備え、プレス加工に用いられるマグネシウム板において製造工程が煩雑となることを抑制することを課題としている。 - 特許庁

To form a plating film with high quality and high performance, by simplifying a surface treatment process in a direct electroless nickel plating method for a magnesium alloy material.例文帳に追加

マグネシウム合金素材に対する直接的無電解ニッケルめっき方法における表面処理プロセスを簡略化し、高品質で高機能のめっき皮膜を形成する。 - 特許庁

The surface modifying method of an aromatic polyether polymer molded product includes a process of performing acid treatment on the aromatic polyether polymer molded product.例文帳に追加

芳香族ポリエーテル系重合体成形品を酸処理する工程を含むことを特徴とする芳香族ポリエーテル系重合体成形品の表面改質方法。 - 特許庁

To provide a metal fine particle-carrying resin particle which efficiently displays the activity of the metals (especially precious metals) deposited on the resin particle surface and its preparation process.例文帳に追加

樹脂粒子表面に担持された金属(特に貴金属)の活性を効率的に発揮することができる金属微粒子担持樹脂粒子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transport mechanism which prevents the surface of a workpiece after finishing work from drying and thoroughly satisfactorily removes contamination in a cleaning process.例文帳に追加

加工後の被加工物表面の乾燥を防ぐことができ、洗浄工程においてコンタミネーションを充分良好に除去することができる搬送機構を提供する。 - 特許庁

To surely remove a lost form pattern with a simple process and constitution, and to prevent the roughness on a cast surface of a cast product as less as possible.例文帳に追加

簡単な工程および構成で、消失性模型を確実に除去することができ、鋳造品の鋳肌面の荒れを可及的に防止することを可能にする。 - 特許庁

To form a glass ceramic body which is easily cleanable, is smooth in spite of no need for additional manufacturing process steps, such as polishing and coating, and therefore has an easy-to-clean surface.例文帳に追加

清掃(掃除)が簡単で、研磨や被覆等の付加的製造工程を要せずとも円滑な、従って清掃が容易な面の備わるガラスセラミック体を作成する。 - 特許庁

To provide an optical element which has a functional film formed on its surface, which is not damaged nor deformed even through a reflow process.例文帳に追加

表面に機能性膜を形成した光学素子であって、表面の機能性膜がリフロー工程を経ても破損、もしくは変形することのない光学素子を提供する。 - 特許庁

To provide a cutting process of a work which can suppress the occurrence of undulating in the cut surface of the work and the occurrence of buckling at the time of cutting the work.例文帳に追加

工作物の切断面におけるうねりの発生と工作物の切断時における挫屈の発生とを抑制することができる工作物の切断方法を提供する。 - 特許庁

The lens centering and edging processing device has a body for processing 1 equipped with a pair of bell holders 2 and 3 positioned opposing and a processing means 4 to process the peripheral surface of a lens 300.例文帳に追加

レンズ芯取り加工装置は、対向する一対のベルホルダ2,3及びレンズ300の外周面を加工する加工手段4を加工本体1に備える。 - 特許庁

To provide a surface-mounting electronic part simpler in structure and higher in reliability, and to provide a method of manufacturing the electronic device through a simple process at a low cost.例文帳に追加

構造的により簡単で信頼性が高い表面実装型の電子素子、並びに前記電気素子を簡易な工程で安価に製造できる方法を提供する。 - 特許庁

On one principal surface of the substrate 50, there is provided, through the selective plating process, a fitting hole forming member 60 having holes M_1-M_4 for fitting optical fibers F_1-F_4 respectively.例文帳に追加

基板50の一方の主面には光ファイバF_1〜F_4をそれぞれ嵌合させる孔M_1〜M_4を有する嵌合孔形成部材60を選択メッキ処理により設ける。 - 特許庁

To obtain a wet processing method and a device capable of uniformly and surely processing the surface of a work in a short time and reducing defects in process.例文帳に追加

短時間で均一に、かつ確実に表面処理ができ、後工程等における製品不良の発生を削減できる被処理物のウエット処理方法及びその装置を得ること。 - 特許庁

The electric field by the microwave accelerates electrons, generates a plasma in the plasma processing chamber 101, and excites the gas to process the surface of an object to be processed.例文帳に追加

このマイクロ波の電界により電子が加速され、プラズマ処理室101内にプラズマが発生し、処理用ガスが励起されて被処理基体112の表面を処理する。 - 特許庁

A semiconductor display section and other circuit blocks are integrally formed on a substrate including an insulating surface by making use of a TFT manufacturing process that realizes high mobility.例文帳に追加

絶縁表面を有する基板上に、高移動度を実現するTFT作製プロセスを用いて、半導体表示部および他の回路ブロックを一体形成する。 - 特許庁

In a filling process, a thermosetting resin 4 in a liquid state is filled in a cavity formed in the coil assembly and between the coil assembly and the molding surface.例文帳に追加

充填工程において、コイル組付体の内部、及びコイル組付体と成形面との間に形成されたキャビティ内に、液状態の熱硬化性樹脂4を充填する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device, which can process the surface of a substrate with high uniformity, and is excellent in conservativeness, such as maintenance, without complicating the device structure.例文帳に追加

装置構造を複雑化することなく、基板表面に均一性の高い処理を施すことができ、メンテナンス等の保守性のよいプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To carry out a plurality of signal process by one delay element circuit in a clock recording pulse generator for the recording signal control at the time when pit data are written onto a disk surface.例文帳に追加

ディスク表面にピットデータを書き込む際の記録信号制御のためのクロック記録パルス発生装置において、一つの遅延素子回路で複数の信号処理を行う。 - 特許庁

After a wet process in which a highly corrosive liquid or water is used has been completed, a surface of the sacrifice anode 115 is covered by a protective film or the sacrifice anode itself is removed.例文帳に追加

腐食の危険性が高い薬液や水等を用いるウェットプロセス完了後、犠牲陽極115の表面を保護膜で被覆あるいは犠牲陽極自身を除去する。 - 特許庁

To provide a process for producing a silicon wafer in which a defect is eliminated from the surface layer of the wafer for forming a device without sacrifice of productivity or production cost of the wafer.例文帳に追加

ウエハの生産性や生産コストを損なうことなく、デバイスが形成されるウエハ表層部に欠陥が存在しないシリコンウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a core drill at a low cost, by connecting a previously molded tool steel-made cutting edge chip to a chip connection surface in a lower end of a core unit and simplifying a production process.例文帳に追加

コア体下端のチップ接合面に予め成形された工具鋼製の切刃チップを接合し、生産工程を簡素化して安価なコアドリルを提供する。 - 特許庁

After finishing the heat treatment process in the wet oxygen atmosphere, the wafer may be subjected to oxide film removal cleaning so as to remove an oxide film formed on the wafer surface.例文帳に追加

ウェット酸素雰囲気下での熱処理工程の終了後に、ウェーハ表面に形成された酸化膜を除去するため酸化膜除去洗浄を行ってもよい。 - 特許庁

After that, a partial etching process of flattening the surface of the wafer W by partially etching it with active seed gas G by SF6 gas in a partial etching device 2 is carried out.例文帳に追加

しかる後、局部エッチング装置2においてウエハW表面をSF6ガスに因る活性種ガスGで局部エッチングして平坦化する局部エッチング工程を実行する。 - 特許庁

To provide a lens barrel base capable of facilitating plating processing on an internal wall surface for an antireflection process, and to provide a method for manufacturing a lens barrel using the same.例文帳に追加

反射防止処理のためのめっき処理を内壁面に容易に施すことができる鏡筒基体及びそれを用いた鏡筒の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a plastic molded product which is extensively applicable to various kinds of plastic materials in a simple process without roughening its surface.例文帳に追加

表面を粗面化することなく、より簡易な工程で且つ様々なプラスチック材料に対して広範囲に適用可能なプラスチック成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the sticking process, at least one surface of the conductive contact pad is exposed and remains in an accessible state for electrical connection.例文帳に追加

さらに、接着する過程は、導電性接触パッドの少なくとも一つの表面が露出されていて電気的な接続のためにアクセス可能な状態に留まるようにする。 - 特許庁

Then, a chemical treatment process is performed to soak the panel 1 in a chemicals-dissolved fluid 17 to remove a fixed quantity of the surface of the substrate by chemical reaction to reduce the thickness.例文帳に追加

続いて化学処理工程を行ない、表示パネル1を薬液17に浸漬し、化学反応により基板の表面を一定量除去して肉厚を薄くする。 - 特許庁

例文

The method comprises a process wherein laver is processed into dry laver 8, which is then submerged in water and kept underwater, in such a condition as to lie along the inner surface of a water tank 2 and is fed to abalones A as feed.例文帳に追加

海苔を加工して乾海苔8とし、同乾海苔8を水槽2内面に沿った状態で水中に沈めて保持し、乾海苔8を飼料としてアワビAに与える。 - 特許庁




  
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