「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(80ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a nonvolatile memory device and the manufacturing method of the same capable of changing a side surface distance without complicating a process and capable of thinning a spacer for a gate stack side wall.例文帳に追加

プロセスを複雑化せずに側面間隔を変更でき、ゲートスタック側壁のスペーサを薄くできる不揮発性メモリ装置及び製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a new press working method and apparatus for metallic plate capable of securing certain degree of shear plane on a cutting surface and requiring no deburring process.例文帳に追加

切口面にある程度の剪断面を確保することができるとともに、バリ除去工程の必要のない新規な金属板のプレス加工方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In relation to the process temperature, a misty state medium having lubricating and small cooling properties is supplied between the peripheral surface 52, the cutting face 13 and the end cutting face 17.例文帳に追加

加工温度では、周面５２とすくい面１３及び前切れ面１７との間に潤滑性及び小さな冷却性を持つ霧状の媒体を供給した。 - 特許庁

The method for thermally molding the thermoplastic resin sheet operated as described achieves a multi-cavity molding process through restricting the drawdown of the sheet in a moldable region and the keeping of a presentable surface appearance.例文帳に追加

成形可能領域でのシートのドローダウンを抑制して、多数個取りを可能とし、表面外観を美麗に保持できる熱成形方法を提供することにある。 - 特許庁

To protect a substrate to be treated and to improve the quality of developing process by softening the impact of the developing solution to be fed from a nozzle to the surface of the substrate to be treated.例文帳に追加

ノズルより被処理基板の表面に供給される現像液の衝撃を和らげて被処理基板を保護し現像処理工程の質の向上させること。 - 特許庁

To provide a process for producing a coreless wiring board in which the surface of a substrate can be roughened easily, and to provide a coreless wiring board thus produced in which fluidity of underfill material is improved.例文帳に追加

基板表面の粗化が容易なコアレス配線基板の製造方法と、それによって得られるアンダーフィル材の流れ性が良好なコアレス配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a numeric control data and a numeric control method to accurately process or move a defined shape of a surface which is expressed in a desired style.例文帳に追加

所望の形式で表現された曲面の定義形状に対し、精度よく加工もしくは運動を行うための数値制御データおよび数値制御方式を提供する。 - 特許庁

To provide a new method for drying non-fried noodle by which swelling and unevenness caused on the top surface of a noodle ribbon in a drying process is prevented: and to provide a drying device.例文帳に追加

乾燥工程時に麺線上面の膨らみや凹凸の発生を防止することができる新規なノンフライ麺の乾燥方法及び乾燥装置の提供。 - 特許庁

In a jaw impression sampling process S51, an impression material is deposited on one surface of a dental tooth form tray and the shape of a gum part is transferred to the impression material to obtain a jaw impression member.例文帳に追加

Ｓ５１は、顎印象採取工程で、歯科用歯型トレイの一方側の面に印象材を盛り、歯肉部の形状を転写し、顎印象部材を得る。 - 特許庁

To provide a method for sticking a developer sealing member by which the sticking accuracy of the developer sealing member stuck to the sticking surface of a process cartridge can be enhanced.例文帳に追加

プロセスカートリッジの貼付面への現像剤封止部材の貼付精度を向上させることのできる現像剤封止部材の貼付方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a film formation process of a polymer thin film by which a thin film with a thickness of less than 10 μm is easily formed while securing surface flatness, and a polymer thin film thereof.例文帳に追加

１０μｍ未満の薄膜であってもその形成が容易であり、かつ表面平坦性が確保されている高分子薄膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

Next, a pump 22 is driven in a process of circulating the hot washing water and the washing of the inside surface is performed by allowing the hot washing water to pass the piping while the water pressure of the hot washing water is changed.例文帳に追加

次に、洗浄温水循環過程でポンプ２２を駆動させて洗浄温水の水圧を変化させながら通水させて内面の洗浄を行う。 - 特許庁

To provide an exterior film which is not-PVC and has a scratch resistance property as a PVC and is superior in a surface smoothness, and to provide its manufacturing process.例文帳に追加

非ＰＶＣでありながらＰＶＣのような耐傷付性を有するとともに、表面平滑性にも優れた外装用フィルム及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

After finish of the etching treatment to a specified number of wafers W, the anodized surface of the upper chamber part 5 in the process chamber 2 is wiped with cloth or the like wet with IPA or water.例文帳に追加

所定枚数のウェハＷに対するエッチング処理の終了後、プロセスチャンバー２における上部チャンバー部５のアナダイズ表面をＩＰＡや水を濡らした布などで拭く。 - 特許庁

Dust and chips attached on a ruptured surface are removed by carrying out first brushing in continuance to a rupturing (cracking) process of a large end part W2 of the connecting rod W.例文帳に追加

コネクティングロッドＷの大端部Ｗ２の破断（カチ割り）工程に続いて第１回目のブラッシングを行い、破断面に付着しているゴミ及び欠けを除去する。 - 特許庁

All of the grinding processes of silicon wafers except the final process are done in double-side grinding, whereby the quality of the surface shape of the wafer can be improved and the electronic circuit can be more miniaturized.例文帳に追加

最終回を除く全回のシリコンウェーハの研磨を両面研磨としたので、ウェーハ表面形状の高品質化が図れ、電子回路をより微細化できる。 - 特許庁

To provide a surface mounting type electronic component in the excellent productivity by realizing higher resistance for heat cycle without use of a jig to keep positional accuracy in the reflow process.例文帳に追加

高い耐ヒートサイクル性を実現し、かつ、リフロー時の位置精度を保つために治具を用いるといったこともなく、生産性良好な表面実装型電子部品を提供する。 - 特許庁

To form a novel, attractive and high quality coating film generating a gradation pattern or the like on the surface of a material to be coated by a series of a coating process having excellent productivity.例文帳に追加

生産性の良い一連の塗装工程によって、被塗物の表面にグラデーション模様等を現出させる斬新で見栄えの良い高品質の塗膜を形成する。 - 特許庁

To provide an optical hair removing apparatus capable of surely preventing the leakage of light by tightly sticking a light shielding part to a skin surface and executing a hair removal process under a high safety.例文帳に追加

遮光部を肌面に密着させて光漏れを確実に防止し、高い安全性の下で脱毛処理を行うことができる光脱毛機器を提供する。 - 特許庁

To provide a method for peeling a resist capable of improving the peelability of the resist existing on the surface of a substrate without requiring an ashing process, particularly the method for peeling the resist having the excellent peelability of the ion-implanted resist.例文帳に追加

灰化工程を必要とせず、基板の表面に存在するレジストの剥離性能を向上させることができるレジスト剥離方法を提供すること。 - 特許庁

This structure repairing method includes a process for pressing and fixing the net-like reinforcing body for arranging a pressure sensitive adhesive layer on one surface toward the outside of the repairing part with the pressure sensitive adhesive layer on the inside.例文帳に追加

一方の面に粘着剤層を設けた網状補強体を粘着剤層を内側にして補修部の外側に向けて押圧し固定する工程を含ませる。 - 特許庁

The developing device is constituted to execute the developing process by injecting a developer from plural blow-off ports 34 in a blow-off chamber 22 on the emulsion surface of a horizontally transported sheet of paper P.例文帳に追加

吹出しチャンバー２２の複数の吹出口３４から現像液が水平搬送されるペーパーＰの乳剤面へ噴射され現像処理されるようになっている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an engine block for restraining extension of time required for a manufacturing process, and properly adjusting lubricity on a cylinder inner circumference surface.例文帳に追加

製造工程に要する時間の延長を抑制しつつ、シリンダ内周面の潤滑性を適切に調節することのできるエンジンブロックの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface protecting film for a temperature conducting film which is free from the fusion or significant deformation of a base material film, even during a heating process at about 150°C.例文帳に追加

１５０℃前後の加熱工程時でも、基材フィルムが融解、または、大きく変形することがない透明導電性フィルム用の表面保護フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a solar cell which does not use a high-temperature process, such as thermal oxidation, and has the same surface passivation characteristic as thermal oxidation at low temperature.例文帳に追加

熱酸化法のような高温プロセスを用いず、低温で熱酸化法と同程度の表面パッシベーション特性をもつ太陽電池の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminated wafer which improves production efficiency, making to be low cost, and is applicable to the manufacturing process of a rear surface irradiation type CMOS image sensor etc.例文帳に追加

生産効率の向上、低コスト化が可能であり、且つ、裏面照射型CMOSイメージセンサー等の製造工程にも適用可能な、貼り合わせウェーハの製造方法の提供。 - 特許庁

The apparatus suitably performs a discharging process in which wettability is improved by applying an AC voltage from a power supply 13, thereby discharging and exposing the surface of a charging member 11.例文帳に追加

電源１３により交流電圧を印加することで、帯電部材１１表面を放電曝露させてぬれ性を促進させる放電処理を適宜実行する。 - 特許庁

Then, in the second process, concurrently with patterning of the barrier rib forming material layer 120, a positioning mark 113 is formed by a surface treatment of the rear substrate 103.例文帳に追加

そして、第２工程において、隔壁形成材料層１２０のパターニングと同時に、背面基板１０３の表面を加工して位置合わせマーク１１３を形成する。 - 特許庁

To process a substrate without allowing dust to be stuck thereon in equipment in which a processing liquid is applied to the surface of the substrate held by a mechanical spin chuck while rotating the substrate.例文帳に追加

メカ式スピンチャックで保持した基板表面へ処理液を供給し回転させて処理する装置において、基板に粉塵が付着しないように処理できる。 - 特許庁

In the precipitation process, the good solvent and the poor solvent are quickly substituted for each other on the surface of the mix body and the high polymer material performs polymer coagulation to precipitate minutely.例文帳に追加

析出工程では、合剤体の表面部で良溶媒と貧溶媒とが急速に置換するため、高分子材料がポリマー凝集を起こして微細に析出する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for inspecting a lustrous surface, which can carry out inspections online in a mass production process very accurately and very speedily.例文帳に追加

検査精度及び速度が格段に高く、大量生産工程のオンライン上で行うことができる光沢面検査装置及び方法の提供を目的とするものである。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing composition capable of achieving high-speed removal, while suppressing dishing, and of leaving a surface which has no wiring metal, after a short second-process polishing time.例文帳に追加

ディッシングを抑えながら高い除去速度が可能であり、短い第二工程研磨時間の後、配線金属のない表面を残す、ケミカルメカニカル研磨組成物を提供する。 - 特許庁

To mainly provide a charge application body which enables pattern formation of a fine structure and a fine pattern molding in a semiconductor surface in a simple process.例文帳に追加

本発明は、半導体表面に簡易なプロセスで、微細な構造のパターン形成が可能な電荷付与体、および微細なパターン形成体を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide an in-vehicle ambient monitoring system which is capable of automatically detecting irregularities such as sewers, curbstones in images obtained by a process of photographing the road surface around a vehicle.例文帳に追加

自車両周辺の路面の映った撮像画像中から側溝や縁石等の凹凸を自動的に検出できる車載用周辺監視システムを提供する。 - 特許庁

The cleaning process is performed by supplying a cleaning solution from a cleaning solution supply nozzle 63 to the surface of a semiconductor wafer W which is held to rotate with a spin chuck 62.例文帳に追加

スピンチャック６２によって回転可能に保持される半導体ウエハＷの表面に洗浄液供給ノズル６３から洗浄液を供給して洗浄処理を施す。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device in which formation of a recess in the periphery of the surface of an isolation film buried in a semiconductor substrate is controlled.例文帳に追加

半導体基板に埋め込まれた素子分離膜の表面周辺部に、窪みが形成されることを抑制する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a second process, sand blast etching is performed from the nozzle surface side in a mask pattern formed of a dry film and then through holes communicating with the pressurized liquid chambers are made thus completing the ink jet head.例文帳に追加

第２の工程は、ノズル面側からドライフィルムで形成されたマスクパターンでサンドブラストエッチングを行い、加圧液室と連通する貫通孔を完成させる。 - 特許庁

To provide a heat treatment furnace by which reduction of impurity contamination on a semiconductor wafer for heat treatment and influence on the surface quality are reduced by reducing particles in the heat treatment process of the semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエーハを熱処理する際に不純物を低減し、熱処理される半導体ウエーハへの不純物汚染や表面品質の影響を低減する。 - 特許庁

It also implements a seal sticking process of sticking a sealing member 5 as a conductive seal on the surface of the base material frame 1.例文帳に追加

そして、内部パターン配線の一部と電気的に接続するように、導電性シールとしてのシール材５を基材フレーム１の表面に貼付するシール貼付工程を実施する。 - 特許庁

To enhance a flexural strength, to require no detoxification process, to maintain a gettering effect at the time of polishing the grinding surface of a wafer, in order to prevent a lowering in quality of a device.例文帳に追加

ウェーハの研削面を研磨する場合において、抗折強度を高めつつ、無毒化処理を不要とし、ゲッタリング効果を維持してデバイスの品質を低下させないようにする。 - 特許庁

The method of manufacturing the absorbent article 1 comprises a process of applying the low-viscosity fluid by using a non-contact type application device 10 on the surface to be in contact with the skin of a user.例文帳に追加

使用者の肌に接する面に、非接触式塗布装置１０を用いて低粘度流体を塗布する工程を有する吸収性物品１の製造方法である。 - 特許庁

To provide a metallic tone-coated paper exhibiting an equivalent print density as compared with that of conventional general coated paper, having a high smoothness and glossiness of its surface, and equipped with a box-forming process aptitude.例文帳に追加

従来の一般的塗工紙に比べて印刷強度が同等で、表面の平滑性、光沢度が高く、製函加工適性も備えたメタリック調塗工紙の提供。 - 特許庁

Here, the first measuring path 71 and second measuring path 72 set in the measuring path setting process have a spiral shape on the surface of the master ball 7.例文帳に追加

ここで、測定経路設定工程にて設定される第１測定経路７１および第２測定経路７２は、マスターボール７の表面において螺旋形状である。 - 特許庁

To provide a woven and knit fabric giving a sense of flexible twist yarn touch and having a surface with clear and twilled lines and good stretchability, and a method for producing a longitudinal stretch woven fabric being warped without setting and sizing in producing the longitudinal stretch yarn and remarkably excellent in process rationality.例文帳に追加

しなやかな撚糸タッチ感が得られ、綾線の鮮明な表面性と良好なストレッチ性を兼ね備える織編物を提供するものである。 - 特許庁

During a first reading process, the spacer part 43 is contacted with a rear surface of a first transparent plate, thereby keeping a certain distance between the first transparent plate and an image reading part 3.例文帳に追加

第１読取処理時には、スペーサ部４３が第１透明板の裏面に接触することにより当該第１透明板と画像読取部３との距離を一定に保つ。 - 特許庁