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surface processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9599件



例文

The thinned part of the polishing pad and the transparent part of the platen allows optical access to the surface of a wafer for simultaneous process monitoring.例文帳に追加

前記薄厚化された研磨パッドと前記透明プラテン部分とによって、同時プロセスモニタリングのためのウエハ表面への光学的アクセスが可能となる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device for effectively removing abrasive particles which remain on a surface after a flattening process by CMP.例文帳に追加

CMPによる平坦化工程後に表面上に残った研磨粒子を効果的に除去する半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

On the substrate having an insulating surface, a semiconductor display part and other circuit blocks are integrally formed by using a TFT manufacturing process realizing high mobility.例文帳に追加

絶縁表面を有する基板上に、高移動度を実現するTFT作製プロセスを用いて、半導体表示部および他の回路ブロックを一体形成する。 - 特許庁

In the process of cooling that is specified in MDL, the formation of batonnet is aligned in one direction by performing the zone cooling and, thereby, the monostable positions are uniformized in the surface.例文帳に追加

MDL化時の冷却において、ゾーンクーリングを行うことでバトネの形成を一方向にそろえることで単安定位置を面内で均一にする。 - 特許庁

例文

This process removes both the crust and bulk resist layers at a high strip rate, and leaves the work piece surface substantially residue free with low silicon loss.例文帳に追加

このプロセスは、高剥離レートでクラストとバルクレジスト層の両方を除去し、ワークピースの表面には実質的に残留物が残らず、また、シリコン損失も少ない。 - 特許庁


例文

To improve yield of a semiconductor device by suppressing minute foreign materials from sticking to a semiconductor wafer surface, in a wet etching process for a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエハのウェットエッチング工程において、半導体ウエハ表面への微小異物の付着を抑制し、半導体デバイスの歩留まり向上を図る。 - 特許庁

To provide a solar cell structure and a method of manufacturing a solar cell wherein the surface electrode forming process for a group III-V compound solar cell can be simplified.例文帳に追加

III-V族化合物太陽電池セルの表面電極形成プロセスを簡略化できる太陽電池セル構造及び太陽電池セル作製方法を提供する。 - 特許庁

As the result, the chemical inner surface treatment is made unnecessary in a manufacturing process of the roll cover 40 and the productivity of the roll cover 40 can be extremely enhanced.例文帳に追加

この結果、ロールカバー40の製造工程では化学的内面処理が不要となり、ロールカバー40の生産性を著しく向上させることが可能である。 - 特許庁

The impervious layer forming process is performed by sticking powder of silicate or aluminum silicate including alkaline metal to the excavation surface 1.例文帳に追加

また、遮水層形成工程は、掘削面1にアルカリ金属を含むケイ酸塩またはアルミノケイ酸塩の粉体を付着させることにより行うこととした。 - 特許庁

例文

To obtain a uniform coating film by suppressing drying irregularity by performing recipe investigation for suppressing the gradient of surface tension in a drying process.例文帳に追加

乾燥過程における表面張力勾配を抑制するための処方検討を行うことで乾燥ムラを抑制し、均一な塗膜を得ることを課題とする。 - 特許庁

例文

In the second press process, the flat surface can also be formed by imparting hydrostatic pressure to the pressing direction and shearing force to the planar direction simultaneously.例文帳に追加

また、第2プレス工程ではプレス方向へ静水圧を負荷すると同時に平面方向へ剪断力を付与して平面を形成することもできる。 - 特許庁

To provide a process for producing stable modified sol to be used for a component of a hard coat agent to be applied to the surface of plastic lenses or for other applications.例文帳に追加

プラスチックレンズの表面に施されるハードコート剤の成分、又はその他の用途に用いる安定な変性されたゾルの製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing process of a ramp having a surface hardness of 2.6 GPa or more is characterized by molding a polyacetal resin at a mold temperature of 75 to 135°C.例文帳に追加

ポリアセタール樹脂を金型温度を75〜135℃として成形することを特徴とする表面硬さが2.6GPa以上であるランプの製造方法。 - 特許庁

To provide metallic net material in which good corrosion proof effect on the cut surface exposed in machining is acquired although it can be made by simple process.例文帳に追加

簡素な工程で作製できるものでありながら、加工時に露出する切断面に対する良好な防食効果が得られる金属製網材を提供する。 - 特許庁

At a high compression process, after a given carboxylic acid-contained water solution is applied on the inner wall surface of a mold, the gear rotor sintered substance is inserted in the mold.例文帳に追加

温間圧縮工程では、金型の内壁面に所定のカルボン酸を含む水溶液を塗布した後に、ギアロータ焼結体をその金型に挿入する。 - 特許庁

As a result of the thin barium-doped layer and the reduced bubble growth, the inner surface of the crucible is uniformly minimally textured during a CZ process.例文帳に追加

バリウムドープされた薄い層及び減少した気泡成長の結果として、るつぼの内側表面は、CZ工程の間に、均一に最小限に組織化される。 - 特許庁

Thereafter, a recess 13 is formed by removing, by an etching process, a part of the principal surface of the semiconductor substrate 1Sub using the photoresist pattern PR2 as an etching mask.例文帳に追加

その後、フォトレジストパターンPR2をエッチングマスクとして、半導体基板1Subの主面の一部をエッチングにより除去して窪み13を形成する。 - 特許庁

To ensure surface flatness of a fuel cell separator obtained by carbonization and firing after molding process of resin material in plate shape.例文帳に追加

樹脂材料を板状に成形加工した後に炭化焼成することにより得られる燃料電池セパレータの平面性を確保できるようにする。 - 特許庁

The blade 22 simultaneously transfers the electric charges 26 from the electrifying power source 24 to the photoconductive surface 14 of the drum 12 to repeat the electrophotographic process.例文帳に追加

それと同時に、ブレード22は、電子写真プロセスを繰返すために、帯電用電源24からドラム12の光導電面14へと電荷26を移送する。 - 特許庁

An electrode 7 is formed by electroless plating wet process on the surface in a groove 5 formed on a laminated substrate 4 comprising piezoelectric members 2, 3 attached with each other.例文帳に追加

圧電部材2,3を張り合わせた積層基板4に形成されている溝5内の表面には電極7をウエットプロセスの無貫解メッキ法により形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the antireflection base material for silica fine particles includes a process for reducing the concentration of carbon atom on the surface of a glass substrate to 9.5% or less by cleaning.例文帳に追加

洗浄によって、ガラス基板表面の炭素元素濃度を9.5%以下にする工程を含むシリカ微粒子用反射防止基材の製造方法。 - 特許庁

An aluminum clad material 4 is arranged to the external surface of the heat-sink body 1 via a brazing material 3 and an assembly thereof is integrated with the vacuum brazing process.例文帳に追加

ヒートシンク本体1の外面にろう材3を介してアルミニューム製のクラッド材4を配置し、その組立体を一体に真空ろう付けする。 - 特許庁

To provide a laminated nonwoven fabric containing wet heat gelled fibers excellent in processability during a nonwoven manufacturing process and at the time of fixing of a filler and having a good surface state.例文帳に追加

不織布製造中およびフィラーを固着させる際の加工性に優れた、表面状態の良好な湿熱ゲル化繊維を含む不織布を提供する。 - 特許庁

To provide a method for directly immobilizing various saccharides on a solid surface without mediating any linker such as a compound, antibody or lipid, by a single united process.例文帳に追加

一つの統一された方法で、化合物、抗体、脂質等のリンカーを介さずに、様々な糖類を直接固体表面上に固定化する方法の提供。 - 特許庁

To provide a color cathode-ray tube equipped with a shadow mask having sufficient mask curved-surface strength and providing good image quality, and a production process thereof.例文帳に追加

十分なマスク曲面強度を有したシャドウマスクを備えているとともに画像品位の良好なカラー陰極線管およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the electroforming process, the first electroformed surface 18 is used for electroforming the boundary 32 while the orifice area 34 is not electroformed.例文帳に追加

電鋳プロセスにおいて、まず先に第1鋳造表面18が境界32を電鋳するために用いられ、このときオリフィス領域34の電鋳は行われない。 - 特許庁

CATIONIC COLLOIDAL SILICA AND ITS MANUFACTURING PROCESS AND SURFACE COATING AGENT FOR INKJET RECORDING MEDIA AND INKJET PRINTING PAPER USING THE CATIONIC COLLOIDAL SILICA例文帳に追加

カチオン性コロイダルシリカおよびその製造方法、並びに、当該カチオン性コロイダルシリカを用いたインクジェット記録媒体用表面塗工剤およびインクジェット用紙 - 特許庁

In the film formation process, a polyimide film comprising a resin matrix of polyimide and the additive dispersed in the matrix is formed on the surface of the porous substrate.例文帳に追加

成膜工程においては、ポリイミドからなる樹脂マトリックス中に添加物が分散されてなるポリイミド膜を多孔質基板の表面に形成する。 - 特許庁

After this process, the nucleus alloy having nickel hydroxide and/or nickel oxide on its surface is heated under a reduced pressure or a reducing atmosphere.例文帳に追加

この工程の後、表面に水酸化ニッケルおよび/または酸化ニッケルを有する核合金を減圧下または還元雰囲気中で加熱処理する。 - 特許庁

After the process for depositing the blocking material, dopant ions are implanted, whereby the blocking mask material partially or completely blocks the top surface of the fin from these dopant ions.例文帳に追加

ブロッキングマスク材料の堆積工程後に、ドーパントイオンが注入され、ブロッキングマスク材料が、部分的または完全に、フィンの上面をドーパントイオンからブロックする。 - 特許庁

This method for producing the microorganism includes a silicic acid layer-forming process for forming the silicic acid layer comprising silicic acid on the cell surface of the microorganism.例文帳に追加

本発明の微生物の作製方法は、微生物の細胞表面にケイ酸からなるケイ酸層を形成するケイ酸層形成工程を含む。 - 特許庁

When the apparatus is in the initial toner installation mode of replenishing the toner to the developing unit after replacing the toner container, a process of refreshing the surface of the toner carrier is applied.例文帳に追加

トナーコンテナ交換後の現像器へトナーを補給する初期トナーインストールモード時に、前記トナー担持体表面のリフレッシュ工程を実施するようにした。 - 特許庁

By using the photomask, a photoresist layer having a wavy surface can be produced by exposing a semiconductor wafer once in the photolithographic process.例文帳に追加

したがって、このフォトマスクを使用して、フォトリソグラフィ・プロセス中に、半導体ウェハの1回の露光で、波形表面を有するフォトレジスト層を生成することができる。 - 特許庁

In a third process, a first conductor protecting film which has a second opening is formed on a conductor film surface, and the second opening is filled with a second insulating film.例文帳に追加

第3の工程では、導電体膜表面に、第2開口部を有する第1導電体保護膜を形成し、第2開口部を第2絶縁膜で埋める。 - 特許庁

An antioxidant film consisting of a metal excellent in oxidation resistance is provided on the inside surface of a pipe-shaped material of the material, and the resulting material is then proposed to drawing process.例文帳に追加

材料となるパイプ形状の素材の内周面に、耐酸化性に優れた金属からなる酸化防止被膜を設け、伸線工程に供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin film element that can omit a process of removing residues left on a surface peeled from a sacrificial layer.例文帳に追加

犠牲層から剥離した面に残った残留物を除去するための工程を省略することのできる薄膜素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a flattening process, pressing is performed with an elastic member 17 present between a ceramics surface plate 15 for sandwiching a printed board 1 and a press board 16.例文帳に追加

また、フラッタニングの工程において、プリント基板1を挟みこむセラミック定盤15とプレス板16との間に弾性部材17を介在させてプレスを行う。 - 特許庁

To obtain a process for producing an SOI wafer by smart cut method in which the surface is planarized after stripping, and the thickness of a thin film SOI layer is made uniform.例文帳に追加

スマートカット法によるSOIウェーハの作製で、剥離後の表面を平坦化し、SOI層を薄膜化して、SOI層の膜厚を均一化する。 - 特許庁

To provide a washing method for removing the compd. caused by a slaking phenomenon on the surface of a glass substrate disk even after a final polishing process.例文帳に追加

最終研磨工程を経た後にもガラス基板ディスク表面のスレイキング(slaking)現象による化合物を除去する洗浄法を提供する。 - 特許庁

To cut an upper edge in a curved surface shape by discriminating a program corresponding to the vertical cutting in a process of cutting a workpiece to be cut by a plasma torch.例文帳に追加

被切断材をプラズマトーチによって切断する過程で、垂直切断に対応するプログラムを判別して上縁を曲面状に切断する。 - 特許庁

In the blast material 10, the risk of the injury due to splashing when performing the blasting process can be suppressed by the coating layer 13 on the surface of the blast material.例文帳に追加

得られたブラスト材10は、ブラスト工法の実行時に跳ね返りによる危害のおそれを、ブラスト材表面の被覆層13によって抑えることができる。 - 特許庁

Then a surface recovering process is carried out (Fig. 2(b)) while the first and second gate insulating films 101 and 102 partly overlap with each other as mentioned above.例文帳に追加

そして、第1及び第2のゲート絶縁膜101,102が上記のように一部重畳した状態で、表面回復処理を行う(図2(b))。 - 特許庁

The life testing method is applied to the ball bearing having at least an orbital ring which is made of a steel for bearings and whose orbital surface is subjected to a hardening process.例文帳に追加

少なくとも軌道輪が軸受用鋼よりなり、軌道輪の軌道面に硬化処理が施された転がり軸受の寿命試験方法である。 - 特許庁

The wiredrawing process by the polycrystalline diamond dies is to be finished at the stage when a drawn mark on the surface of the wire rod 1 generated by wiredrawing is minute.例文帳に追加

多結晶ダイヤモンドダイスによる伸線工程を、伸線される線材1の表面に生じるキズが微小な段階で終結するようにする。 - 特許庁

Correction pattern image data is used to process image data input to a projector and the distortion of the projection image due to the curved surface distortion of a screen is corrected.例文帳に追加

補正パターン画像データを用いて、プロジェクタに入力された画像データを処理して、スクリーンの曲面歪みに起因する投写画像の歪みを補正する。 - 特許庁

In the measuring process, using a glow discharge light emission analysis method, concentration distribution of a component element in the depth direction from the surface of the sample S is measured.例文帳に追加

測定工程では、グロー放電発光分析法を用いて、試料Sの表面からの深さ方向における成分元素の濃度分布を測定する。 - 特許庁

To produce a porous carbon material having high specific surface area in high yield at a low cost by an oxidizing gas activation method which can be easily incorporated in a process.例文帳に追加

低コストで工程化が容易な酸化性ガス賦活法により、比表面積の大きい多孔質炭素材料を歩留まりよく製造すること。 - 特許庁

To provide a cutting line processing device for sheet glass which can process stable cutting lines on a surface of a piece of sheet glass, and a cutting line processing method thereof.例文帳に追加

本発明は、板ガラスの表面に安定した切線を加工することができる板ガラスの切線加工装置及び切線加工方法を提供する。 - 特許庁

Open holes 3a are crushed when forming the recesses 6 by thermal emboss process and open holes 4a are contracted in their diameters or closed at a surface of the recesses 6.例文帳に追加

凹部6の表面では、熱エンボス加工による凹部6の形成時に開孔3aが押し潰され、開孔4aが縮径ないし閉塞されている。 - 特許庁

例文

To provide a developing device which prevents the developer leakage as a result of a surface layer stripping on an image carrier, a process cartridge, and an image forming device.例文帳に追加

現像剤担持体の表層剥れによる現像剤漏れを防止することが可能な現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁




  
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