「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent a protrusion-like underfill from remaining on the end surface of a semiconductor device composed of a group III-V semiconductor after a laser lift-off process.例文帳に追加

レーザーリフトオフ工程後に、III −Ｖ族半導体で構成された半導体素子の端面に突起状のアンダーフィルが残るのを防止すること。 - 特許庁

During this process, chemical substances such as the aldehydes 15 and the malodorous components 16 are adsorbed by the catechin deposited on the fiber surface of the filter medium 11.例文帳に追加

このとき、アルデヒド類１５等の化学物質や悪臭成分１６は、濾材１１の繊維表面に担持されたカテキンによって吸着される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which solves problems in a pattern forming process from a viewpoint of surface hydrophobing treatment.例文帳に追加

パターン形成工程での問題に対して表面疎水化処理の観点から解決を図る半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A semiconductor wafer with a formed CCD is sputtered prior to a dicing process, and a TiO_2 film is formed on the surface of the microlens array.例文帳に追加

ダイシング工程に先立って、ＣＣＤが形成された半導体ウエハにスパッタを施して、マイクロレンズアレイの表面にＴｉＯ_２膜を形成する。 - 特許庁

After the chamfering process and the resin sealing, resin burrs 13 provided on the side surface of the lead frame 1 are eliminated in the package external region 5.例文帳に追加

面取り加工及び樹脂封止の後に、パッケージ外部領域５においてリードフレーム１の側面に設けられた樹脂バリ１３を除去する。 - 特許庁

To manufacture a metal separator with a simple and economical process and to enable to make the surface of the metal separator hydrophilic certainly.例文帳に追加

簡単且つ経済的な工程で、金属セパレータを製造するとともに、前記金属セパレータの表面を確実に親水化することを可能にする。 - 特許庁

In a fourth process, the semiconductor substrate side surface 23 of the semiconductor apparatus 3 is dry-etched, and the semiconductor substrate is retreated to the thickness direction.例文帳に追加

第４工程では、半導体装置３の半導体基板側表面部２３をドライエッチングして、半導体基板を厚み方向に後退させる。 - 特許庁

To provide a substrate processing equipment of a small footprint which allows a surface treatment with ozone and that with a process liquid.例文帳に追加

オゾンによる表面処理と処理液による表面処理とを行うことができ、しかもフットプリントの小さな基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Specifically disclosed is a metal material 10 mainly composed of iron whose surface layer is carburized by a process using a fullerene as a carbon source.例文帳に追加

フラーレン類を炭素源として用いる処理により、その表面層が浸炭処理されている、鉄を主成分とする金属材料１０とする。 - 特許庁

This wiring layer eliminates variance of finish with a surface state and the cuttability of the laser dicing process can be improved.例文帳に追加

上記配線層を設けたことによって、仕上がりが表面状態によってばらつくことはなく、レーザーダイシング工程の切断性を改善できる。 - 特許庁

The handling process of metal oxide nanoparticles comprises the step of mixing metal oxide nanoparticles, solvent, and a surface treating agent.例文帳に追加

金属酸化物ナノ粒子と、溶媒と、表面処理剤とを混合する工程を含む金属酸化物ナノ粒子の処理プロセスについて記述する。 - 特許庁

Then an aluminum nitride crystal particle G in the surface layer 2a is dissolved and removed in a process with sodium hydroxide, to form an anchor A.例文帳に追加

その後、水酸化ナトリウム処理により、前記表層２ａ内の窒化アルミニウム結晶粒子Ｇを溶解除去して、アンカーＡを形成する。 - 特許庁

The surface finish obtained as a result of a uniaxial compression process can be essentially equal to that obtained from conventional compression.例文帳に追加

一軸圧縮プロセスの結果として得られる表面仕上げは、従来の圧縮から得られる表面仕上げと本質的に等しくあり得る。 - 特許庁

On a surface where the reinforcing member 40 abuts against the release fork 8, a metal coating is formed by a shot peening process using a shot material of a nonferrous metal.例文帳に追加

そして、補強部材４０のレリーズフォーク８との当接面に、非鉄のショット材を用いたショットピーニングによる金属被膜を形成する。 - 特許庁

To provide an inexpensive surface heat generating body which can be maintained at an arbitrary temperature without using a temperature controller, and wherein a mounting process is simple.例文帳に追加

温度制御機器を使用せずに、任意の温度に保つことができ、取り付け工程が簡単で安価な面状発熱体を提供する。 - 特許庁

At such a time, a facing removing process for grinding or peeling a facing layer in molding which is formed on the surface is performed to the foundation roll body.例文帳に追加

このとき上記素地ロール体は表面に形成された成型時の表皮層を研磨若しくは剥離する表皮除去加工を施す。 - 特許庁

Since the surface of the resistor 26 is covered with a thin film 28 in the early stage of the process, the variation of the resistance value of the resistor 26 can be suppressed.例文帳に追加

プロセスの初期段階でポリシリコン抵抗体２６の上部を誘電体薄膜で被覆するので、抵抗値のばらつきを抑制できる。 - 特許庁

The first part of the signal is reflected by the reference impedance discontinuous surface, and the second part is reflected by the interface of the process product.例文帳に追加

前記信号の第１部分が基準インピーダンス不連続面によって反射され、第２部分がプロセス製品の界面によって反射される。 - 特許庁

The stamping process includes a step of pressing a shape obtained, by inverting a desired optical element and a patterned stamping block with respect to the surface of a light-emitting diode.例文帳に追加

スタンピングは、所望の光学エレメントを逆にした形状及びパターンスタンピングブロックを発光ダイオードの面に対してプレスする工程を含む。 - 特許庁

To provide a method for producing a stainless steel strip having high strength and high hardness and also excellent in punchability and surface properties by a simple process.例文帳に追加

高強度高硬度で、かつ打抜き性および表面性状に優れたステンレス鋼帯を簡素な工程で製造する方法を提供する。 - 特許庁

To perform diamond coating controlled in film quality to a relatively thin film on a rugged surface of an industrial cutting tool by a hot filament CVD (Chemical Vapor Deposition) process.例文帳に追加

熱フィラメントＤＶＤ法より工業用刃物に凹凸面の比較的薄膜に膜質制御されたダイヤモンドコーティングを行うこと。 - 特許庁

To provide a hose having a structure with a wire (a linear body) helically wound around an outer circumference and an smooth inner surface, and simple in manufacturing process.例文帳に追加

外周に螺旋状にワイヤ（線状体）が巻回された構造を持ち、内面が平滑で、製造工程が簡易なホースを提供する。 - 特許庁

The casting process entails the use of a mold 10 having a cavity 12 with a continuous aluminum-containing solid facecoat 16 on its surface 14.例文帳に追加

鋳造方法は、表面１４上に連続アルミニウム含有固体フェースコート１６を備えるキャビティ１２を有する鋳型１０の使用を伴う。 - 特許庁

To visually check for presence/absence of non-tapped tiles by marking a surface of a tile unit simultaneously with a tile tapping process in a tiling work.例文帳に追加

タイル張り付け工事における叩き工程と同時にタイルユニット表面に印を付けて、叩き忘れの有無の目視確認を可能にする。 - 特許庁

The colored film forming process S2 can be constituted with a primary electrolysis colored film forming process forming the colored film directly on the surface of the triangle scale body, or can be constituted with an anodic oxidation film forming process forming an anodic oxidation film on the surface of the triangle scale body and a secondary electrolysis coloring process depositing a metal of a coloring component on the anodic oxidation film of the triangle scale body.例文帳に追加

着色被膜形成工程Ｓ２は、三角スケール本体の表面に直接的に着色被膜を形成する一次電解発色被膜形成工程から構成してもよく、或いは三角スケール本体の表面に陽極酸化被膜を形成する陽極酸化被膜形成工程と、三角スケール本体の陽極酸化被膜に着色成分の金属を析出させる二次電解着色工程とから構成してもよい。 - 特許庁

Besides, the image forming method comprises a latent image forming process, a developing process, a transfer process and a cleaning process, and the surface of the latent image carrier is ground while maintaining the relation between the surface roughness Rz and the wear velocity W of the latent image carrier shown by the aforesaid inequality.例文帳に追加

Ｒｚ（ｎｍ）＜３．６×Ｗ＋３０Ｒｚ：原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による８０μｍ長さでの１０点平均粗さＷ ：磨耗速度（ｎｍ／１０００回転）、ただし１＜Ｗ＜２０又は、潜像形成工程と、現像工程と、転写工程と、クリーニング工程とを具備し、前記潜像担持体の表面粗さＲｚ及び磨耗速度Ｗを前記式の関係を保たせながら、前記潜像担持体の表面を研磨することを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

According to one embodiment, the method has steps of: providing a substrate containing a metal-containing barrier layer having the oxidized surface layer; exposing the oxidized surface layer to a flow of a first process gas containing plasma-excited argon gas to activate the oxidized surface layer; and applying substrate bias electric power during the step of exposing the oxidized surface layer to the flow of the first process gas.例文帳に追加

一の実施例によると、当該方法は、酸化表面層を有する金属含有バリア層を含む基板を供する工程、前記酸化表面層を活性化させるために、プラズマ励起されたアルゴン気体を含む第1処理気体流へ前記酸化表面層を曝露する工程、及び、前記の第1処理気体流へ酸化表面層を曝露する工程中に基板バイアス電力を印加する工程を有する。 - 特許庁

To provide an evaluation method of a silicon substrate where surface defect observation due to etching after device film peeling is facilitated, by creating a clear surface for observing crystal defects on a semiconductor substrate and surface defects due to a device process, and it can be made clear that defects on the surface are caused by crystal itself or stress and contamination due to the process.例文帳に追加

半導体基板上の結晶欠陥やデバイスプロセス起因の表面欠陥を観察するための綺麗な表面を作成することによってデバイス膜剥離後のエッチングによる表面欠陥観察がし易くなり、表面にある欠陥が結晶起因の欠陥か、又はプロセス起因のストレスや汚染による欠陥なのかを明らかにすることができるようにしたシリコン基板の評価方法を提供する。 - 特許庁

The method of evaluating the positive electrode active material includes a surface treatment process of dissolving the surface of a positive electrode active material whose component density changes from the surface into the inside into an acid solution and a computation process of analyzing elements in the acid solution into which the surface of the positive electrode active material is dissolved and computing the coverage from the results of analysis.例文帳に追加

この正極活物質の評価方法は、表面から内部に向かって構成する元素の濃度に変化がある正極活物質の表面を、酸溶液に溶解させる表面処理工程と、表面処理工程を行った後、正極活物質の表面を溶解させた酸溶液に対して元素分析を行い、測定結果から被覆率を算定する算定工程と、を備えるものである。 - 特許庁

The method of manufacturing the dressing board includes an abrasive grain formation process where the abrasive grains are electrodeposited onto the surface of an abrasive layer formation board to form the abrasive grain layer, a dresser chip formation process where the dresser chip is formed by cutting the abrasive grain layer in a suitable shape and a dresser chip mounting process where the dresser chip is bonded onto the surface of the substrate by the bonding means.例文帳に追加

このドレッシングボードの製造方法は、砥粒層形成板の表面に砥粒を電着して砥粒層を形成する砥粒層形成工程と、該砥粒層を適宜の形状に切断してドレッサーチップを形成するドレッサーチップ形成工程と、該ドレッサーチップを基板の表面に固着手段によって固着するドレッサーチップ装着工程と、を含んでいる。 - 特許庁

The method of manufacturing the silicon carbide monocrystalline substrate includes: a process (A) of preparing a silicon carbide monocrystalline substrate having a main surface that is mechanically polished; a process (B) of chemically mechanically polishing the main surface of the silicon carbide monocrystalline substrate; and a process (C) of evaluating an alteration layer that is formed by the chemical mechanical polishing by spectral ellipsometry.例文帳に追加

本発明の炭化珪素単結晶基板の製造方法は、機械研磨が施された主面を有する炭化珪素単結晶基板を用意する工程（Ａ）と、前記炭化珪素単結晶基板の前記主面に化学機械研磨を施す工程（Ｂ）と、前記化学機械研磨によって形成される変質層を、分光エリプソメトリによって評価する工程（Ｃ）と、を包含する。 - 特許庁

This method for manufacturing the cushion layer for the polishing pad includes: a process for molding a mixture containing energy ray curing resin into a sheet shape; a process for performing patterning of hardened parts and unhardened parts by a photolithography method on one surface of the obtained sheet; and a process for forming irregularities on one surface of the sheet by removing the unhardened parts.例文帳に追加

研磨パッド用クッション層の製造方法であって、エネルギー線硬化性樹脂を含む混合物をシート状に成型加工する工程、得られたシートの片面上にフォトリソグラフィー法により硬化部分と未硬化部分のパターニングを施す工程、及び未硬化部分を除去することによりシートの片面上に凹凸形状を形成する工程を含む研磨パッド用クッション層の製造方法。 - 特許庁

The method of generating cracks after heating a polycrystalline silicon rod R by carrying out quenching includes: a local cooling process which injects a cooling fluid spottedly on a part of a surface of the polycrystalline silicon rod R; and a whole cooling process of causing the cooling fluid to contact to the whole outer surface of the polycrystalline silicon rod R after the local cooling process.例文帳に追加

多結晶シリコンロッドＲを加熱した後に急冷することによりクラックを発生させる方法であって、冷却流体を多結晶シリコンロッドＲの表面の一部にスポット状となるように噴射する局部冷却工程、局部冷却工程の後に、多結晶シリコンロッドＲの外表面の全体に冷却流体を接触させる全体冷却工程を有する。 - 特許庁

To provide a cleaning agent used in a cleaning process after a flattening polishing process in a manufacturing process of a semiconductor device having a copper interconnection, wherein corrosion and oxidation of the copper interconnection and surface roughening of the flattened interconnection on a substrate due thereto, are suppressed and impurities on a semiconductor device surface can effectively be removed, and to provide a cleaning method using the same.例文帳に追加

銅配線を備えた半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、銅配線の腐蝕や酸化、それに起因する平坦化された基板上配線の表面荒れの発生が抑制され、且つ、半導体デバイス表面の不純物を有効に除去し得る洗浄剤及びそれを用いた洗浄方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the rotor 10 of the torque converter 1, which is structured of a turbine shell 11, a plurality of turbine blades 13 fixed to the inner peripheral surface 11a of the turbine shell 11 and a driven plate 25 of a lock-up device 7 fixed to a back surface 11b of the turbine shell 11, is provided with a first process, a second process and a third process.例文帳に追加

このトルクコンバータ１の回転体１０の製造方法は、トルクコンバータ１のタービンシェル１１と、タービンシェル１１の内面１１ａに固定される複数のタービンブレード１３と、タービンシェル１１の背面１１ｂに固定されるロックアップ装置７のドリブンプレート２５とから構成される回転体１０の製造方法であって、第１工程と、第２工程と、第３工程とを備えている。 - 特許庁

The manufacturing method of the electronic device includes a process for forming concave-convex parts on the surface of the substrate; a process for forming a conductive seed layer on a surface to be plated of the substrate; and a process for selectively forming an electroplating inhibitor in the convex part of the substrate, performing the electroplating processing on the seed layer as a common electrode, and forming the plating film.例文帳に追加

基材の表面に凹凸部を形成する工程と、 前記基材のめっきすべき表面に導電性のシード層を形成する工程と、 前記基材の凸部に選択的に電解めっき阻害物質を形成し、前記シード層を共通電極として電解めっき処理を施してめっき膜を形成する工程とを含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 特許庁

The method of inspecting the quality of the inorganic pigment is provided with a measuring process of measuring the electric conductivity of a solution containing a compound having a hydrogen bondable functional group and the inorganic pigment subjected to a surface treatment by a surface treating agent, and a discriminating process of discriminating the quality of the inorganic pigment based on the measured value of the electric conductivity obtained in the measuring process.例文帳に追加

水素結合性の官能基を有する化合物と、表面処理剤で表面処理された無機顔料と、を含む溶液の導電率を測定する測定工程と、前記測定工程において得られた導電率の測定値に基づいて、前記無機顔料の品質を判別する判別工程と、を備えることを特徴とする無機顔料の品質検査方法。 - 特許庁

In the method for forming rugged surface whose cross-section has nonlinear symmetric shape, the rugged surface is obtained by a process of forming energy-sensitive negative type resin composition material including polymerizable monomer or oligomer of at least one kind, a process of applying active energy rays via a mask patterned with three or more gradations and a process of performing post-heating without etching operation.例文帳に追加

少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物質を形成する工程、３値以上の階調パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を放射する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程により得られる表面凹凸の断面形状が、非線対称である表面凹凸形成方法。 - 特許庁

This field effect semiconductor device is manufactured by a process, where an amorphous silicon film 12 is formed on a substrate 11 with an insulating surface, a crystallization process where the amorphous silicon film 12 is crystallized into a crystalline silicon film, and an oxidation process where the surface of the crystalline silicon film is oxidized in a water vapor containing atmosphere to form a gate insulating film.例文帳に追加

絶縁表面を有する基板上に非晶質珪素膜を形成する工程と、前記非晶質珪素膜を結晶化し、結晶性を有する珪素膜を形成する結晶化工程と、水蒸気を含む雰囲気中で、前記結晶性を有する珪素膜の表面を酸化させ、ゲイト絶縁膜を形成する酸化工程と、を有する絶縁ゲイト型電界効果半導体装置。 - 特許庁

This method for producing a particle-formed water-absorbing agent comprising a process of surface-crosslinking for performing the surface-crosslinking of water-absorbing resin particles obtained at least through a polymerization process for polymerizing an aqueous solution of an unsaturated monomer, in the presence of an organic crosslinking agent is provided by mixing a peroxide in its reaction system in processes after the polymerization process.例文帳に追加

本発明に係る粒子状吸水剤の製造方法は、不飽和単量体水溶液を重合する重合工程を少なくとも経て得られる吸水性樹脂粒子を有機架橋剤の存在下で表面架橋する表面架橋工程を含む粒子状吸水剤の製造方法であって、上記重合工程以降の工程で、反応系に過酸化物を混合するものである。 - 特許庁

The manufacturing method of the magnetic recording medium includes; a process which forms a mold layer on the base board; a pattern-forming process which forms patterns for forming spaces, whose lower part surface areas are different from the upper part surface areas corresponding to the lower part surfaces; and a process which fills the spaces with a magnetic body material to form the magnetic dots.例文帳に追加

基板上に鋳型層を形成する工程と、前記鋳型層をパターニングして、前記鋳型層に下部面の面積と前記下部面に対応する上部面の面積とが異なる空間を形成するパターンを形成する工程と、前記空間に磁性体物質を満たして磁性体ドットを形成する工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

The method of subjecting the acoustic resonator to batch processing includes a process step of depositing a first electrode on the surface of a substrate, a process step of depositing a layer of a dielectric material on the first electrode and depositing a second electrode on the layer of the piezoelectric material and a process step of reducing the thickness of the substrate (200) by removing the material from the base surface of the substrate (200).例文帳に追加

本発明による音響共振器をバッチ処理するための方法は、基板の表面上に第１の電極を堆積させる工程と、第１の電極上に圧電材料の層を堆積させ、圧電材料の層上に第２の電極を堆積させる工程と、基板（２００）の底面から材料を除去して基板（２００）の厚さを少なくする工程を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing a composite structure includes a process for arranging a removable adhesive material 14 in contact with a first surface of a reusable composite structure 12; a process for arranging a first surface of a disposal composite structure 16 in contact with the removable adhesive material 14 to form an assembly 10 of the composite structures; and a process for hardening the assembly 10 of the composite structures.例文帳に追加

除去可能な接着材料１４を再利用可能な複合構造１２の第一の面に接して配設すること、使い捨て可能な複合構造１６の第一の面を前記除去可能な接着材料１４に接して配設することで複合構造アセンブリ１０を形成すること、および前記複合構造アセンブリ１０を硬化することを含む複合構造を製造方法。 - 特許庁

The method is to comprise a process of manufacturing a first semiconductor layer including a layer where a lattice constant is different from a substrate on the substrate, a process of forming a porous layer on the surface of the first semiconductor layer, and a process of laminating a second semiconductor layer that is the same as the lattice constant of a first semiconductor layer surface, before forming a porous layer on the porous.例文帳に追加

本発明は、基板上に基板とは格子定数の異なる層を含んだ第一の半導体層を作製する工程と、該第一の半導体層の表面に多孔質層を形成する工程と、該多孔質上に多孔質化する前の該第一の半導体層表面の格子定数と同じ第二の半導体層を積層する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process of etching the first and second surfaces of a semiconductor board oppositely disposed to each other using an acid solution, a process of forming a protective film on the first surface of the semiconductor board after the etching with the acid solution, and a process of etching the second surface of the semiconductor board with an alkaline solution after the formation of the protective film.例文帳に追加

半導体基板の第１の面および第１の面の反対側にある第２の面を酸溶液を用いてエッチングする工程と、酸溶液を用いたエッチング後に半導体基板の第１の面上に保護膜を形成する工程と、保護膜の形成後に半導体基板の第２の面をアルカリ溶液を用いてエッチングする工程とを含む太陽電池の製造方法である。 - 特許庁