「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

The width of the penetration groove 3b is set narrower than that of a slit 3, so that a fluorescent surface is not exposed through the penetration groove at a fluorescent surface exposing process to be carried out later.例文帳に追加

後に実行される蛍光面の露光工程の際に貫通溝３ｂを介して蛍光面が露光されないようにするために、貫通溝３ｂの幅は、スリット３のスリット幅よりも狭く設定されている。 - 特許庁

As the forming body, one having at least one roughened surface is used, and in the arrangement process, the forming body is arranged so that the roughened surface comes into contact with the support member and/or other forming bodies.例文帳に追加

そして、成形体としては、少なくとも一つの面が粗面であるものを用い、配置工程においては、成形体を、その粗面が支持部材及び／又は他の成形体と接するように配置する。 - 特許庁

Under a state that a mask 15 is positioned on the formed alignment mark 7, an exposure process is applied to a back surface of the main substrate 1 through the mask 15 to form a pattern on the back surface of the main substrate 1.例文帳に追加

そして、形成されたアライメントマーク７とマスク１５とが位置決めされた状態で、マスク１５を介して本体基板１の裏面側に露光させ、本体基板１の裏面側にパターンを形成する。 - 特許庁

The manufacturing method of a conductive film comprises a film-hardening process to make a film-hardening solution react on the surface of a film having surface resistance of 1-1,000Ω/square.例文帳に追加

それによって、均一で高い導電性と高い透光性とを同時に有する導電性膜、とくに電磁波シールド膜、を提供すること、並びにそれらを装備した画像表示装置を提供すること。 - 特許庁

To prevent a rotary bearing member of an aerodynamic bearing from deforming in an assembling process of fixing the inner circumferential surface of a holding member holding a rotary polygon mirror and the outer circumferential surface of the rotary bearing member.例文帳に追加

回転多面鏡を保持する保持部材の内周面と、空気動圧軸受の回転軸受部材の外周面とを固定する組立工程において、回転軸受部材の変形を防止する。 - 特許庁

To provide an optical element and a processing method for the same capable of manufacturing a curved surface mirror for optical element in a low surface roughness and high shape precision at a low cost, only according to the forming without employing any one of various types of polishing processes during a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程中に各種研磨工程を一切用いず、型成形のみにより光学素子用曲面鏡を低面粗度および高形状精度且つ安価に製造できるようにする。 - 特許庁

The surface-treated product is characterized in that the surface of an object 3 to be treated such as a bolt and a nut is covered with a thin film composed of a corrosion resistant substance or a sacrificial substance by a sputtering process.例文帳に追加

本発明に係る表面処理物は、スパッタリング法によってボルトやナット等の被処理体３の表面に耐食性物質又は犠牲物質からなる薄膜が被覆されたことを特徴とする。 - 特許庁

In the step (d), a gap d is created in between the lower surface of the main body 21 and the upper surface of the printed circuit board 1, and, in a releasing process (e, f), fingers 31, 32 prevent the electronic component 2 from inclination or fall.例文帳に追加

この工程で本体部２１の下面とプリント板１の上面との間に間隔ｄが確保され、開放工程（ｅ、ｆ）で指部３１および３２が部品２を傾斜、転倒させない。 - 特許庁

As a 1st working process, grooves 18 having inclined planes 20, 22 respectively on a front surface 12 and a rear surface 14 that correspond to cutting positions of a work 10 are formed by using metallic molds 16a, 16b.例文帳に追加

第一の作業工程として、加工物１０の切断位置に該当する表面１２と裏面１４とに傾斜面２０，２２を有する溝１８を金型１６ａ，１６ｂによって形成する。 - 特許庁

Female serration is formed by intruding a processing jig to the inside circumferential surface of a preparatory hole formed in the flange 13 so that a mounting hole 15 is provided, and the mounting surface 14 is subjected to a finishing process.例文帳に追加

上記取付フランジ１３に形成した下孔の内周面に加工用治具を押し込んで雌セレーションを形成して取付孔１５とした後、上記取付面１４に仕上加工を施す。 - 特許庁

To provide a polishing device and a polishing process capable of simultaneously satisfying flatness of a surface of a polishing object such as a wafer and uniformity of polishing quantity within a polishing objective surface.例文帳に追加

ウェーハなどのような被研磨対象の表面の平坦性と、被研磨対象面内での研磨量の均一性とを同時に満足させることができる研磨装置および研磨方法を提供すること。 - 特許庁

According to an embodiment, a semiconductor device manufacturing method comprises a process of exposing a surface of an n-type semiconductor region and a surface of a semiconductor layer, which have relatively different impurity concentrations from each other.例文帳に追加

実施形態によれば、半導体装置の製造方法は、相対的に不純物濃度が異なるｎ形半導体領域の表面と半導体層の表面とを露出させる工程を有する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a substrate for a probe card capable of simplifying a process by leading out a conductive part from the rear surface side to the front surface side of the substrate without depending on multilayer wiring, and designing wiring easily.例文帳に追加

多層配線を行うことなく基板の裏面側から表面側に導電部を導き出し、工程の簡略化が可能で配線の設計も容易なプローブカード用基板の製造方法を得る。 - 特許庁

The vulcanization jig 2 is used in a process for vulcanizing the low cover R along with a molding bladder 25 to discharge the air between the outer surface of the bladder and the inner surface of the low cover.例文帳に追加

ローカバーＲの加硫工程に成形用のブラダー２５とともに使用される加硫治具２を以下のように形成して、加硫処理までにブラダーの外面とローカバーの内面との間のエアーを放出する。 - 特許庁

Further, it also includes a colorant scraping process for removing excess water colorant 3 on the surface leaving the water colorant 3 in a depression part on the surface of the wood material 51 with a scraping roll 31.例文帳に追加

また、掻取ロール３１により、木質材５１の表面の凹部内に水性着色剤３を残しつつ、表面上の余分な水性着色剤３を取り除く着色剤掻取工程とを備える。 - 特許庁

To provide a selective oxidation process capable of selectively oxidizing a silicon surface at a high oxidation rate while suppressing oxidation of a metal material exposed on a surface of a workpiece as much as possible.例文帳に追加

被処理体の表面に露出したメタル材料の酸化を極力抑制しながら、高い酸化レートでシリコン表面を選択的に酸化することが可能な選択酸化プロセスを提供する。 - 特許庁

Thus, even in the case that electrostatic charges are produced in the manufacture process and the surface of the wafer of the small sized surface acoustic wave element not connected to an external circuit is charged, the discharge is caused in the discharge electrode 140.例文帳に追加

これによって、製造過程において、静電荷が発生し、回路に接続されていない状態の弾性表面波素子のウェーハ表面上が帯電しても、放電は放電用電極で起こる。 - 特許庁

To obtain a peeling liner which can control the change with the passage of time of peel strength in relation to the adhesive surface of a superposition surface side mold releasing treatment layer even when a special production apparatus is not installed in a production process.例文帳に追加

特別な製造装置が製造工程中に設けられていなくても、重面側離型処理層の粘着面に対する剥離強度の経時変化を抑制できる剥離ライナーを得る。 - 特許庁

To provide a washing brush capable of preventing the surface of a glass substrate from being scratched in a washing process of removing abrasives and impurities stuck to the surface of the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板の表面に付着した研磨剤や不純物を除去する洗浄工程において、ガラス基板の表面にキズをつけてしまうのを防止可能な洗浄用ブラシを提供すること。 - 特許庁

(2) At the first process, the temperature of the first area of the inner surface of the mold distant from the injection gate 55 is made higher than the temperature of the second area of the inner surface of the mold near to the injection gate 55.例文帳に追加

（２）第１の工程で、金型内部表面の射出ゲート５５から遠い第１の領域の温度を前記金型内部表面の射出ゲート５５に近い第２の領域の温度より高くする。 - 特許庁

The method for manufacturing an electroceramic component (1), for example a varistor (1), includes a process of having surface regions (5, 6) of an electroceramic body (2) irradiated with laser, before application of metallization sections (3, 4) onto the surface regions (5, 6).例文帳に追加

電気セラミック部品（１）、例えばバリスタ（１）のための製造方法が、表面部分（５；６）にメタライズ部（３；４）を塗布する前の電気セラミック体（２）の表面部分（５；６）のレーザ照射を有することによる。 - 特許庁

The surface surface grinding process is a method to grind work W to obtain a specific machining allowance by revolving a grinding stone through a stone rotational electric motor 8 and moving the stone in the direction of stone core.例文帳に追加

砥石３を砥石回転用電動モータ８により回転すると共に砥石軸芯方向に移動することにより、ワークＷを所定の取代だけ平面研削する平面研削方法である。 - 特許庁

The output shaft is formed with serrations 19 on the internal peripheral surface thereof and with annular unformed portions 25 by applying counter sinking process to the serrations 19 on an internal peripheral surface of the one end portion at a side to be welded.例文帳に追加

前記出力軸は、内周面にセレーション１９が形成されていると共に、溶接側の一端部の内周面にセレーション１９をざぐり加工によって円環状の非形成部２５を形成した。 - 特許庁

To provide a method for forming a film comprising a metal which has a uniform and conformal thickness and a smooth surface on the surface of a substrate by an ALD (Atomic Layer Deposition) process using specified metal precursors.例文帳に追加

特定の金属先駆物質を用いたＡＬＤ法により、基板表面に、均一で共形的な厚さと平滑な表面とを有する金属含有皮膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

The surface of the lower layer electrode dA is flattened by polishing process, and the upper electrode dB formed as a film on a layer by spattering is a flat film following a surface state of the lower layer electrode dA.例文帳に追加

下層電極dＡの表面は研磨処理で平坦化されており、この上層にスパッタで成膜される上層電極dＢは、下層電極dＡの表面状態に倣った平坦膜となっている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing vertical magnetic recording medium which includes a process of forming a flat substrate surface having no abnormal protrusions when forming a magnetic film on the surface of a substrate.例文帳に追加

基板の表面に磁性膜等を形成する場合に、異常突起等の発生がない平滑な基板表面を形成する工程を含む、垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the second plugging process, a grasping device 3 having a chuck part 31 for grasping the side surface 12 of the ceramic honeycomb molded body 1 and a grasping device 3 having a surface pressing part 32 for pressing the end part 11 is used.例文帳に追加

第２栓詰め工程では、セラミックハニカム成形体１の側面１２を把持するためのチャック部３１と、端面１１を押圧するための面押部３２とを有する把持装置３を用いる。 - 特許庁

To provide a process for producing an ocular lens having a highly hydrophilic lens surface, by which the surface of the obtained lens can be continuously kept hydrophilic for a long time, without applying a complicated treatment to the lens.例文帳に追加

煩雑な処理を施すことなく、得られたレンズの表面における親水性が長時間持続せしめられ得る、高親水性レンズ表面を有する眼用レンズの製造方法を、提供すること。 - 特許庁

In a process of sticking the label 20 to the surface 12 to be stuck, the relative positions of stuck surface 12 and label 20 are adjusted so that the index 50 and index 60 match with each other in the plan view.例文帳に追加

被貼付面１２にラベル２０を貼付する工程では、指標５０と指標６０とが平面視で合致するように被貼付面１２とラベル２０との相対的な位置が調整される。 - 特許庁

(II) The method for providing the short fiber stock cotton for the nonwoven fabric by blending the photo-stabilizer dissolved with water in a used oil agent and adding/attaching on the surface of the spun fiber surface in the spinning process of the fibers.例文帳に追加

（ＩＩ）：繊維の紡糸工程おいて、使用する油剤中に水溶化した該光安定剤を配合して、紡糸された繊維表面に添着させ、不織布用短繊維原綿に供する方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a display, including a process by which a translucent base 2 can be affixed to a display surface of a display body 1 while applying little load to the display surface and the translucent base 2.例文帳に追加

ディスプレイ本体１の表示面や透光性基板２へほとんど負荷を加えることなく、該表示面に透光性基板２を接着できる工程を備えたディスプレイの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mounting structure that is improved in strength of connection between a surface-mounted device as an upper layer and a surface-mounted device as a lower layer without performing post-process reinforcement such as resin reinforcement.例文帳に追加

樹脂補強等の後工程補強を行うことなく、上層の表面実装デバイスと下層の表面実装デバイスとの接続強度を向上させた実装構造体を提供する。 - 特許庁

A foam molded article 5 with a functional surface 702 of a given surface precision requirement is produced by foaming a resin foam material L in a cavity 4 of a foam molding die 1 in a foam molding process.例文帳に追加

発泡成形方法により、発泡成形金型１のキャビティ４で発泡樹脂原料Ｌを発泡させ、所定の面精度が要求される機能面７０２を備える発泡成形品５を作製する。 - 特許庁

A vanishing layer vanishes when a prescribed process is performed, and is formed in advance in each sheet so that the vanishing layers may continue and pass through a laminate from the top surface to the bottom surface when the sheets are laminated upon another.例文帳に追加

各シートに所定の処理によって消失する消失層を予め形成しておき、積層時には各シートの消失層が連続化して積層体の上下面に貫通する状態とする。 - 特許庁

To provide a surface-treated copper foil exhibiting excellent black color which can be worked by the customary copper etching process, and to provide a conductive mesh for PDP produced from such a surface-treated copper foil.例文帳に追加

良好な黒色を持ち、且つ、通常の銅エッチングプロセスで加工可能な表面処理銅箔、及び、そのような表面処理銅箔で製造されたＰＤＰ用導電性メッシュを提供する。 - 特許庁

A dielectric oxide coat 12 is formed on the surface of an aluminum anode member 10 whose surface is extended, by a conversion process, and the aluminum anode member 10 is divided into two regions by an insulator 13.例文帳に追加

表面を拡面化したアルミ陽極体１０の表面に、化成処理によって誘電体酸化皮膜１２を形成し、絶縁体１３によってアルミ陽極体１０を二つの領域に区分する。 - 特許庁

The surface of the semiconductor substrate is hydrated by applying oxygen plasma treatment on the semiconductor substrate, on which the green filter is formed, to hydrate the surface thereof and, thereafter, blue resin is applied to form a blue filter through the same process.例文帳に追加

緑色フィルタが形成された半導体基板上に酸素プラズマ処理を施して表面を親水化した後に青色樹脂を塗布して同様の工程にて青色フィルタを形成する。 - 特許庁

When conforming to an original manufacturing process, either a surface the quality of which is to be guaranteed is a front side or a rear side is predicted and, as necessary, the surface and back faces of the metallic plate are reversed in the middle of manufacturing the metallic plate.例文帳に追加

本来の製造工程に従った場合に、品質を保証すべき面が、表か裏かを予測して、必要な場合に、前記金属板の製造途中で、金属板の表裏面を反転させる。 - 特許庁

A first vertical hole 30 is excavated through a first excavation process where the first vertical hole 30 is excavated down to a lower side of a boundary surface 28 between a contaminated layer 20 and an impermeable layer 22 by penetrating a ground surface layer 18 as well as the contaminated layer 20.例文帳に追加

第１掘削工程により、地盤表層１８と汚染層２０を貫通して、汚染層２０と不透水層２２との境界面２８の下方まで第１縦穴３０が掘削される。 - 特許庁

Next, there is provided a grinding process in which the ingot is sliced to make a glass substrate 11, the glass substrate 11 is polished, and the wire is exposed to the front surface and the rear surface to be a through electrode 10.例文帳に追加

次に、このインゴットをスライスしてガラス基板１１を形成し、このガラス板１１を研磨し、表面と裏面にワイヤーを露出させて貫通電極１０とする研削工程とを備える。 - 特許庁

In a close adhesion process, a film like base material having a flat surface and harder than the polyurethane sheet is pressed to the surface of the skin layer of the polyurethane sheet becoming the holding plane to be closely brought into contact therewith to form a close adhesion material.例文帳に追加

密着工程では、保持面となるポリウレタンシートのスキン層の表面に平坦な表面を有しポリウレタンシートより硬いフィルム状基材を加圧して密着させ、密着体を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that can prevent the separation of an enforcing sheet from an adhering surface in a semiconductor process subsequent to the bonding together of the surface of a semiconductor wafer and the enforcing sheet.例文帳に追加

半導体ウエハ表面と補強板との貼り合わせ後の半導体プロセスにおいて、貼り合わせ面からの剥離を防止することのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The fabric inspection machine enables the front surface A and the back surface B of the textile T to be simultaneously visually observed by one inspector to rationalize the process thereof and to reduce the cost by remodeling a fabric inspection machine.例文帳に追加

検反機を改造する事により、一人の検査員で反物Ｔの表面Ａと裏面Ｂを同時に目視可能にし工程の合理化と経費の削減を可能にする検反機である。 - 特許庁

The surface treating process uses an etching solution prepared by adding an additive to a solution having a nature to dissolve the lead frame, and the additive is adsorbed to the lead frame surface to inhibit the solution from dissolving it.例文帳に追加

表面処理工程は、リードフレームを溶解する性質を有する溶液に、リードフレームの表面に吸着して前記溶液による溶解を妨げる添加剤を添加したものをエッチング液として用いる。 - 特許庁

In this copper foil for a laser drilling process, a surface layer composed of either or both of an alloy essentially consisting of Sn and Cu or metallic Sn is formed on the surface on the side to be irradiated with laser in copper foil.例文帳に追加

銅箔のレーザ照射側の表面に、SnとCuを主体とする合金または金属Snの何れか若しくは両方からなる表面層が形成されているレーザ穴あけ加工用銅箔である。 - 特許庁