「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method of a semiconductor device comprises a process where a gate insulating film 2 is formed on the surface of a silicon substrate 1 and a process that after hydroxyl groups 3 are adsorbed on the surface of the film 2, a polycrystalline silicon film 4, which is a polycrystalline semiconductor film is formed on the film 2 by a chemical phase growth method.例文帳に追加

シリコン基板１表面にゲート絶縁膜２を形成する工程と、ゲート絶縁膜２表面に水酸基３を吸着させた後に化学気相成長法でゲート絶縁膜２上に多結晶半導体膜である多結晶シリコン膜４を成膜する工程とを含む。 - 特許庁

In the same process as a process wherein the bit lines 6 is formed on a cell contact interlayer film 8 by etching, etching is so performed that the upper surface of the cell contact 9 which is not connected to the bit line 6 is made lower than the upper surface of the cell contact 9 connected to the bit line 6.例文帳に追加

そして、ビット線６をセルコンタクト層間膜８上にエッチングにより形成する工程と同一の工程において、ビット線６と接続しないセルコンタクト９の上面が、ビット線６と接続するセルコンタクト９の上面よりも低くなるようにエッチングする。 - 特許庁

To provide a surface hydrophobing method that not only enables a hydrophobic process on the surface of a layer easily and efficiently, but also enables it in a deeper area of the layer without losing consistency with the subsequent process, and to provide a semiconductor device and a method for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

その後の加工プロセスとの整合性を有し、層の表面をより簡便にかつ効率良く疎水化することができ、かつ、層のより深い領域を疎水化することができる表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The apparatus comprises a process chamber 16 for processing a substrate 7, a substrate holding device 15 for holding the substrate in the process chamber, a substrate transporting means 13 for transporting the substrate to the substrate holding device, and a rear surface inspecting device which inspects the rear surface of the substrate while the substrate transporting means transports the substrate.例文帳に追加

基板７を処理する処理室１６と、該処理室内で基板を保持する基板保持具１５と、該基板保持具に対して基板を移送する基板移載手段１３と、該基板移載手段が基板を移送する経路途中に基板の裏面検査を行う裏面検査装置とを具備した。 - 特許庁

To provide a production process for facilitating machining on the surface of a workpiece in following process by planarizing protrusions and recesses on the surface of the workpiece, e.g. a semiconductor substrate or a micromachine, being subjected to micromachining easily with higher planarity as compared with prior art even when the depth of the recesses is different.例文帳に追加

半導体基板やマイクロマシン等の微細な加工を施される加工対象物の表面の凹凸を従来よりも高い平坦度で凹部の深さが異なる場合においても簡易に平坦化し、後工程における当該表面への加工を容易にする製造方法を提供する。 - 特許庁

The drying method of the silicon wafer, wetted by water or the organic solvent, comprises a process for spraying water vapor against substantially whole surface of the silicon wafer and another process for spraying nitrogen gas or air against substantially the whole surface of the silicon wafer.例文帳に追加

水または有機溶剤で濡らされたシリコンウェハの乾燥方法であって、前記シリコンウェハの略全面に水蒸気をスプレーする工程と、窒素ガスまたは空気を前記シリコンウェハの略全面にスプレーする工程とを具備することを特徴とするシリコンウェハの乾燥方法。 - 特許庁

This manufacturing method of the surface rugged structure comprises a process for forming grooves by irradiating the surface of a silicon substrate with a laser beam, and a process for forming the ruggedness on the silicon substrate by selectively etching the grooves by chemical etching.例文帳に追加

シリコン基板の表面にレーザー光を照射することで溝を形成する工程と、化学エッチングにより溝を選択的にエッチングすることでシリコン基板の表面に凹凸を形成する工程を含むことを特徴とする表面凹凸構造の作製方法により上記課題を解決する。 - 特許庁

Further, the method for producing the substrate plate for immobilizing the cells comprises a process of arranging the fine particles as an array state on the surface of the solid substrate plate by an electrophoretic force and a process of fixing the fine particles on the solid substrate plate surface after arranging the fine particles on the solid substrate plate.例文帳に追加

さらに、微粒子を誘電泳動力により固体基板表面にアレイ状に配列させる工程と、微粒子の固体基板上への配列化の後、この微粒子を前記固体基板表面に固定化する工程と、を有する細胞固定用基板の製造方法。 - 特許庁

While a process residue of a previous process remains on an electronic part surface, a laser beam is projected to a rear surface side of a second substrate to selectively heat an adhesive resin layer on the second substrate, and the adhesive resin layer is cured o that an element to be transferred is bonded to the second substrate.例文帳に追加

電子部品表面に前工程の加工残渣が残存する状態で、第２の基板の裏面側からレーザ光を照射して第２の基板上の接着樹脂層を選択的に加熱し、当該接着樹脂層を硬化することにより転写対象となる素子を第２の基板に接着する。 - 特許庁

The method includes a process where a molded form is obtained by press-molding metal particles of a predetermined composition in a magnetic field, and a process where the molded form is sintered in a state that it is held in a sintering container whose area above 50% of an outside surface has a surface roughness Ra below 1.0 μm.例文帳に追加

所定組成の金属粉末を磁場中にて加圧成形して成形体を得る工程と、その外表面の５０％以上の領域が１．０μｍ以下の表面粗度Ｒａを有する焼結容器内に成形体を収容した状態で焼結する工程と、を備える。 - 特許庁

A partition plate 5 is arranged on the pressing surface of a lower mold 4 to extend nearly vertically in a partition plate arrangement process, packing spaces are formed on the pressing surface, and powdered tile raw materials 11, 12 of different colors are packed in the respective packing spaces in a powdered tile raw material packing process.例文帳に追加

仕切板配置工程で下型４のプレス面に略垂直方向に延びるよう仕切板５を配置し、そのプレス面上に複数の充填空間を形成し、粉状タイル原料充填工程で充填空間の各々に異色の粉状タイル原料１１，１２を充填する。 - 特許庁

Further, at the separation of the ceramic board A by being pinched between a small diametral roller and a large diametral roller, the large diametral roller is abutted against the disposed surface of the primary grooves 1 at the separating process of the primary breaking grooves 1 and the disposed surface of the secondary grooves 2 at the separating process of the secondary breaking grooves 2.例文帳に追加

さらに、同セラミックス基板を小径ローラと大径ローラとで挟持して分割する際に、一次ブレーク溝の分割工程では一次ブレーク溝の配設面を、二次ブレーク溝の分割工程では二次ブレーク溝の配設面を、大径ローラに当接させながら分割する。 - 特許庁

The method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor includes (1) a process for roughening the surface of non-roughening processing photoreceptor by colliding polishing particles including the particles whose average circularity is 0.900 or more, and (2) a process for removing adhered matters adhered on the surface.例文帳に追加

１）未粗面化処理感光体の表面を、平均円形度が０．９００以上の粒子を含む研磨粒子を衝突させることによって粗面化する工程、および２）表面に付着した付着物を除去する工程を含むことを特徴とする、電子写真感光体の製造方法。 - 特許庁

In a step for forming the recessed parts on the surface of the glass substrate in a production process of the micro-lens array, a process for forming the recessed parts is performed by etching the glass substrate after forming indentations or parts where residual stress remains by pressing the surface of the glass substrate with a pointed article.例文帳に追加

マイクロレンズアレイの製造工程中、ガラス基板表面に凹部を形成する工程において、当該凹部を形成する工程を、ガラス基板表面に尖状物で加圧して圧痕又は応力残留部を形成した後、当該ガラス基板のエッチングを行う工程とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the chip antenna is a manufacturing method of the chip antenna in which a metal pattern 2 is formed on a surface of a base body 1, and includes a process (S10) of individually forming the base body 1 and a process (S20) of forming the predetermined metal pattern 2 on an outer surface of the base body 1 by ink-jet printing.例文帳に追加

チップアンテナの製造方法は、基体１の表面に金属パターン２が形成されたチップアンテナの製造方法であって、基体１を個別に成形する工程（Ｓ１０）と、インクジェット印刷により基体１の外表面上に所定の金属パターン２を形成する工程（Ｓ２０）とを備える。 - 特許庁

A process to remove projected type exposure portions 51 of a columnar semiconductor defective portion is performed prior to a laminating process after a substrate removing process, wherein the semiconductor defective portion remains on a second main surface of a layer 50 subject to device forming, without being dissolved by selective chemical etching.例文帳に追加

基板除去工程後において素子化対象層５０の第二主表面に、選択化学エッチングにより溶解されずに残留した柱状半導体欠陥部の突起状露出部分１１を除去する突起除去工程を、貼り合わせ工程に先立って実施する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device is provided with a cleaning process, in which the surface oxide film 6 formed on the copper interconnection 3, is cleaned and a first process, in which the film 6 is substituted into carboxylate and a second process, in which the generated carboxylate is reduced and removed.例文帳に追加

銅配線３に形成された表面酸化膜６を清浄する清浄工程を有する半導体装置の製造方法であって、清浄工程は、表面酸化膜６をカルボン酸塩に置換する第１の工程と、生成されたカルボン酸塩を還元除去する第２の工程とを有する。 - 特許庁

In the method for manufacturing an optical waveguide including a process of thermally oxidizing at least a silicon substrate to form a thermal oxidation film to be a lower clad film on the surface of the substrate, the process of forming the thermal oxidation film is a process of forming a thermal oxidation film containing aluminum.例文帳に追加

少なくともシリコン基板を熱酸化して下側クラッド膜となる熱酸化膜を基板表面に形成する工程を有する光導波路基板の製造方法において、前記熱酸化膜の形成は、アルミニウムを含有する熱酸化膜を形成する光導波路基板の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method for an electrode of a nonaqueous electrolyte secondary battery includes a process a of producing thermal plasma, a process b of supplying a raw material of an active material to the thermal plasma, and a process c of obtaining the active material by accumulating particles produced in the thermal plasma on the surface of a current collector.例文帳に追加

熱プラズマを発生させる工程ａと、前記熱プラズマ中に活物質の原料を供給する工程ｂと、前記熱プラズマ中で生成した粒子を集電体の表面に堆積させて活物質層を得る工程ｃとを含む、非水電解質二次電池用電極の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a prepreg containing an inorganic filler by which yield in a production process and an inspection process can be improved and process load can be reduced and to provide a metal foil-clad laminate excellent in resin surface appearance using the prepreg.例文帳に追加

無機充填材を含有するプリプレグの製造方法において、製造工程や検査工程での歩留まりの向上や工程負荷の低減が可能となる製造方法、並びに、このプリプレグを用いた樹脂表面外観に優れる金属箔張積層板を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the piezoelectric elastomer composite material includes a process (A) for introducing a polymerization functional group 22 onto the surface of the piezoelectric ceramics powder 2, a process (B) for growing the polymer 21 from the polymerization functional group 22, and a process (C) for mixing the piezoelectric ceramics powder 2 with the elastomer base 3.例文帳に追加

また、本発明の圧電エラストマー複合材料の製造方法は(A)圧電セラミックス粉末２の表面に重合性官能基22を導入する工程、(B)重合性官能基22からポリマー21を成長させる工程、及び(C)圧電セラミックス粉末２とエラストマー基材３とを混合する工程を含む。 - 特許庁

This cross section form observation method includes a process for forming a protective film on a specimen surface by a deposition method; a process for forming a protective film for working on the protective film by using a FIB; and a process for cutting the specimen with the protective film for working formed thereon by using the FIB to observe its cross section.例文帳に追加

試料表面に蒸着法により保護膜を形成する工程と、前記保護膜上にＦＩＢを用いて加工用保護膜を形成する工程と、前記加工用保護膜の形成された試料をＦＩＢにより切断し、断面を観察する工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the liquid crystal display device has a process of forming transparent electrodes 7 for driving a liquid crystal on a counter substrate 11, a process of forming columnar spacers 10 on the transparent electrodes 7 and a process of forming an alignment layer 8 on the entire surface of the counter substrate 11.例文帳に追加

液晶表示装置の製造方法は、対向基板１１上に液晶駆動用の透明電極７を形成する工程と、透明電極７上に柱状スペーサ１０を形成する工程と、対向基板１１上全面に配向層８を形成する工程とをこの順に有する。 - 特許庁

A process of plating Sn on the sliding surface and a process of projecting the solid lubricant are singly performed in the order and, therefore, the ratio of mixing Sn and the solid lubricant can be controlled freely by controlling the amount of lamination of Sn or the solid lubricant on each process.例文帳に追加

Ｓｎをめっきする工程と、固体潤滑剤を投射する工程とが順次単独で実行されるため、各工程においてＳｎまたは固体潤滑剤の積層量を制御すれば、Ｓｎおよび固体潤滑剤の混合比率を自由に制御することができる。 - 特許庁

This manufacturing method includes a process of forming a dielectric film 5 including any of titanium, strontium, and barium as a constituent element on a substrate 1, a process of exposing the dielectric film 5 to the plasma of gas for etching including coloring, and a process of processing the plasma-exposed surface of the dielectric film 5 with oxidizing gas.例文帳に追加

基板１上にチタン、ストロンチウム及びバリウムのいずれかを構成元素として含む誘電体膜５を形成する工程、この誘電体膜５を塩素を含むエッチング用ガスのプラズマに曝す工程、誘電体膜５のプラズマ暴露面を酸化性ガスで処理する工程、を備える。 - 特許庁

A formation method of an insulation resin rough surface includes at least a process (a) where an insulation resin layer is vertically sandwiched by planar molds having fine shapes, a process (b) where the insulation resin layer is pressurized and cured, and a process (c) the molds are peeled off from the insulation resin layer.例文帳に追加

少なくとも（ａ）微細形状を有した面状の金型により前記絶縁樹脂層を上下から挟む工程と、（ｂ）前記絶縁樹脂層を加圧及び硬化させる工程と、（ｃ）前記金型及び前記絶縁樹脂層を引き剥がす工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

Before forming the mask oxide film 23 or between a process for forming the mask oxide film 23 and a process for implanting oxygen ions 16, a process is provided for implanting silicon ions 21 onto the surface of the silicon substrate 12 that faces the periphery of the embedded oxide film 13 to be obtained.例文帳に追加

マスク酸化膜２３を形成する以前又はマスク酸化膜２３を形成する工程と酸素イオン１６を注入する工程の間に、得ようとする埋込み酸化膜１３の周囲に対向するシリコン基板１２の表面にシリコンイオン２１を注入する工程を有する。 - 特許庁

A method for preparing it comprises a process wherein the activated carbon particles are immersed in the treating liquid, a process wherein a resin solution is stuck on the surface of the activated carbon particles and a process wherein at the same time when a coating layer is formed by heating and drying, the treating liquid is evaporated to form fine hols.例文帳に追加

その製造は、処理液を活性炭粒子に含浸せしめる工程と、活性炭粒子の表面に樹脂溶液を付着させる工程と、加熱乾燥によりコーティング層を形成すると同時に処理液を蒸発させて微細孔を形成する工程とを有する。 - 特許庁

The manufacturing method includes a hole-processing process to form the plurality of the through-holes by performing hole-processing and a spray process to form a sprayed film by performing a plasma spray treatment against a supply surface on the side facing to the plasma generation region after the hole-processing process.例文帳に追加

穴あけ加工を行なって、前記複数の貫通穴を形成する穴加工工程と、 前記穴加工工程の後に、プラズマの生成領域に対面する側の供給面に、プラズマ溶射処理によって、溶射膜を形成する溶射工程とを有することで上記課題を解決する。 - 特許庁

Moreover, a crucible 3 can be assembled by preliminarily adhering and fixing the seed crystal 1 with a graphite-based adhesive to the upper lid 4 of the graphite crucible 3, and then subjecting the surface of the adhered seed crystal 1 to a CMP process or a CMP process and a process of forming a silicon carbide by epitaxial growth.例文帳に追加

さらに、予め黒鉛坩堝３の上部蓋４と、種結晶１をグラファイト系接着剤により接着固定し、その後接着された種結晶１の表面にＣＭＰ処理、もしくはＣＭＰ処理及びエピタキシャル成長による炭化珪素皮膜を施して坩堝３を組み立ててもよい。 - 特許庁

The manufacturing method of the silicon wafer includes a process to lap a wafer cut down from a silicon single crystal ingot, a process to print a laser mark with a depth of no smaller than 10 μm on the rear surface of the lapped wafer, a process to etch the wafer wherein the laser mark has been printed.例文帳に追加

本発明によるシリコンウェーハの製造方法は、シリコン単結晶インゴットから切り出されたウェーハをラッピングする工程と、ラッピングされたウェーハの裏面に深さ１０μｍ以上のレーザマークを印字する工程と、レーザマークが印字された前記ウェーハをエッチングする工程を有している。 - 特許庁

The method includes: a process for providing the multifilament suture; a process for impenetrating the multifilament suturean to antibacterial solution ; and a process for performing antibacterial coating on at least a part of the surface of the impenetration multifilament suture.例文帳に追加

方法であって、マルチフィラメント縫合糸を提供する工程；このマルチフィラメント縫合糸を抗菌性溶液で浸透させる工程；およびこの浸透されたマルチフィラメント縫合糸の表面の少なくとも一部分上に抗菌性コーティングを付与する工程、を包含する方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the light guide plate using a base material made of thermoplastic resin includes a process of forming a pattern on at least one of the surfaces of the base material, and a process of giving curved surface shapes after that by a thermal bending process.例文帳に追加

熱可塑性樹脂からなる基材を用いた導光板の製造方法であって、前記基材の少なくとも一方の表面にパターンを形成する工程と、その後熱曲げ加工により曲面形状を付与する工程と、を有すること特徴とする導光板の製造方法である。 - 特許庁

The anti-reflection film is manufactured through: a process for preparing the solid particulate dispersion of an infrared absorption dye; a process for applying the above dispersion onto a transparent support to form an infrared-absorption layer thereon; and a process for forming a low-refractive index layer on the surface opposite to the infrared-absorption layer.例文帳に追加

赤外線吸収染料の固体微粒子分散物を調製する工程、固体微粒子分散物を透明支持体上に塗布して赤外線吸収層を形成する工程および低屈折率層を形成する工程により、反射防止フイルムを製造する。 - 特許庁

The production method therefor comprises a process for mixing the expanding material, fine aggregate, setting retarder and water to granulate, a process for drying the granulate, and a process for coating the surface of the granulate with the organic material to form the coating film.例文帳に追加

かかる膨張性骨材は、膨張材、細骨材、凝結遅延剤及び水を混合して造粒する工程と、その造粒体を乾燥させる工程と、乾燥させた造粒体の表面を有機物質でコーティングしてコーティング膜を形成する工程とから製造される。 - 特許庁

This method for producing a coated bioactive granule comprises successively repeating twice or more a first process for coating the surface of a particle containing a bioactive substance with a coating material and a second process for removing a volatile substance from the particle containing the bioactive substance coated with the coating material by the first process.例文帳に追加

生物活性物質を含有する粒子の表面に被膜材料を被覆する第１工程と、該第１工程によって被膜材料を被覆された生物活性物質を含有する粒子から揮発性物質を除去する第２工程とを順次２回以上繰り返す。 - 特許庁

The method for manufacturing the noncontact data carrier has a process for applying printing resist to the metallic foil surface of the base material, on which the resin base material and a metallic foil are laminated, the etching process and a process for removing only the resist from the antenna connection terminals 131, 132.例文帳に追加

また、本発明の非接触データキャリアの製造方法は、樹脂基材と金属箔が積層された基材の金属箔面上に印刷レジストを塗布する工程と、エッチングする工程と、アンテナ接続端子上のレジストのみを除去する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing a sealing material includes a coating process in which a sealing material consisting of an ultraviolet curing resin is coated on an opposed surface to a front substrate of a rear substrate and also a degassing process in which, in advance of the coating process, the sealing material is heated for a prescribed time under a reduced pressure atmosphere.例文帳に追加

背面基板における前面基板との対向面に、紫外線硬化性樹脂からなる封着材を塗布する塗布工程と、を有し、塗布工程に先立って、封着材を減圧雰囲気下で所定時間加熱する脱ガス工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the wooden part-containing wooden material comprises a process (a) of making a wooden part contact with an alkali binder (a1) and thiacloprid (a2) and a process (b) of pressing the wooden part-containing wooden material treated in accordance with the process (a) at a press contact surface temperature of 126°C to 240°C under compression.例文帳に追加

ａ）木質パーツを、ａ１）アルカリ性バインダー、およびａ２）チアクロプリドと接触させる工程と、ｂ）工程ａ）に従い処理した木質パーツを含む木質パーツ床を、加圧下、１２６℃〜２４０℃のプレス接触表面温度でプレスする工程とを含む、木質パーツ含む木質材料の製造方法。 - 特許庁

The method of forming the composite shock absorbing material 100 comprises a process for preparing the core material 110, a process for winding the wound material 120 on the core material 110, and a process for sticking the resin layer 130 to cover the surface of the core material 110 and wound material 120 to form the composite shock absorbing material 100.例文帳に追加

また、複合衝撃吸収材料１００の形成方法は、心材１１０を準備する工程と、心材１１０上に巻付材１２０を巻き付ける工程と、心材１１０および巻付材１２０の表面に樹脂層１３０を付着させてカバーして形成する工程とを含む。 - 特許庁

This culture soil 10 for raising seedlings is obtained by packing ground chaff 12 into a nursery box 14 in a chaff packing process 30, then evenly leveling the surface of the chaff 12 in a leveling process 32 and further compacting the chaff under a fixed pressure in a compacting process 34.例文帳に追加

育苗用培土１０は、籾殻充填工程３０において粉砕した籾殻１２を育苗箱１４に充填し、次いで均平工程３２において籾殻１２の表面を平らに均し、更に鎮圧工程３４において所定の圧力で鎮圧して得られる。 - 特許庁

Then, a plating process of forming a Ni layer on a lower base electrode by a plating process by electrolytic plating, and forming an upper base electrode by forming a Sn-plated layer on a surface of the Ni layer by applying a Sn plating process by electrolytic plating onto it is executed.例文帳に追加

次に、下地電極の上に電解めっきによるめっき処理によりＮｉ層を形成し、更に、その上に電解めっきによるＳｎめっき処理を施すことによりＮｉ層の表面にＳｎめっき層を形成して上地電極を形成するめっき工程を行う。 - 特許庁

The manufacturing method of the material for cement is composed of a crushing process for crushing the powder of the tricalcium phosphate and an adsorption process for immersing the powder obtained by the crushing process in the solution of the inositol phosphate and adsorbing the inositol phosphate to the surface of the powder.例文帳に追加

リン酸三カルシウムの粉体を粉砕する粉砕工程、及び、前記粉砕工程により得られた粉体をイノシトールリン酸の溶液中に浸漬して、イノシトールリン酸を前記粉体の表面に吸着させる吸着工程よりなることを特徴とするセメント用材料の製造方法。 - 特許庁

The method for coating a medical implement includes a process for supplying an aqueous dispersion containing a sulfonated polyester and a surface-active agent, a process for making the medical implement contact with the aqueous dispersion, and a process for drying the medical implement.例文帳に追加

一定の医療器具を被覆するための方法はスルホン化ポリエステルおよび界面活性剤を含有する一定の水性分散液を供給する工程、上記医療器具を上記水性分散液に接触させる工程、および上記医療器具を乾燥する工程を含む。 - 特許庁

This producing method of the artificial stone comprises the process of producing the fusion molding of the burned residue by melting and solidifying the burned residue discharged from the incinerator in the fusion furnace, the process of cutting the fusion molding to the prescribed thickness and the process of polishing the surface thereof.例文帳に追加

２）焼却炉から排出した焼却残渣を溶融炉で溶融固化して焼却残渣の溶融成形物を得る工程と、溶融成形物を所定の厚さに切断する工程と、表面を研磨する工程とを有することを特徴とする人造石の製造方法。 - 特許庁