「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

This method of detecting the poison of the platinum catalyst has a process for vaporizing a sample by the first heating, a process for heating the vaporized sample by the second heating, a process for bringing the heated vaporized sample into contact with the platinum catalyst, and a process for anlayzing a surface of the platinum after the contact, and the processes are carried out in order.例文帳に追加

第１の加熱により試料を気化させる工程、上記気化した試料に対してさらに第２の加熱を行う工程、上記さらに加熱された気化した試料を白金触媒に接触させる工程、上記接触後の白金触媒の表面分析を行う工程を順次行うことを特徴とする、白金触媒毒の検出方法。 - 特許庁

Saddle stitching binding printed matter to which the square back process is performed can be created using a saddle stitching binding means capable of performing the saddle stitching binding process to a printed sheet for a job to be processed and a fabrication means capable of performing the square back process to form a flat surface on the back portion of the sheet to which the saddle stitching binding process is performed.例文帳に追加

処理すべきジョブのために、印刷処理が行われたシートの中綴じ製本処理が実行可能な中綴じ製本手段と、中綴じ製本処理が行われたシートの背の部分に平坦面を形成するスクエアバック処理を実行可能な加工手段とを用いて、スクエアバック処理が行われた中綴じ製本印刷物を作成可能にする。 - 特許庁

The manufacturing process of the molded product with the skin material includes a mold clamping process for clamping a movable mold 41 and a fixed mold 42 in a state that the skin material 13 is set to the mold surface 41a of the movable mold 41, an injection process for injecting a molten resin in a cavity 45 and an expansion process for expanding the volume of the injected molten resin.例文帳に追加

表皮材付成形品の製造工程は、表皮材１３を可動金型４１の型面４１ａにセットした状態で、可動金型４１と固定金型４２とを型締めする型締め工程と、キャビティ４５に溶融樹脂を射出する射出工程と、射出された溶融樹脂を体積膨張させる膨張工程とを備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes: a resist pattern forming process of applying the above resist pattern thickening material to cover the surface of a resist pattern after the resist pattern is formed on the objective surface to be worked; and a patterning process of patterning the surface to be worked by etching by using the thickened resist pattern as a mask.例文帳に追加

被加工表面上にレジストパターンを形成後、レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することによりレジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device 1 comprises a process where the semiconductor element 10 is mounted on one surface of the board 2 and a process where the semiconductor element 10 is sealed up with molding resin 3 on the one surface of the board 2 and positioning pins 4 are formed on the other surface of the board 2 integrally with the molding resin 3.例文帳に追加

また、本発明は、基板２の一方面に半導体素子１０を実装する工程と、基板２の一方面において半導体素子１０をモールド樹脂３で封止するとともに、その封止と同一工程で基板２の他方面にモールド樹脂３と一体的な位置決めピン４を形成する工程とを備えている半導体装置１の製造方法である。 - 特許庁

This method of manufacturing a heat resistant roll is a method of manufacturing a heat resistant roll which is equipped with a roll containing not less than 5 wt.% clay and includes a grinding process (S101) in which the surface of the roll is ground, and a surface treating process (S102) in which the surface of the ground roll is smoothed while it is kept wet.例文帳に追加

本発明に係る耐熱ロールの製造方法は、粘土を５重量％以上含有するロール部を備えた耐熱ロールの製造方法であって、前記ロール部のロール表面を研削する研削工程（Ｓ１０１）と、研削された前記ロール表面を湿らせた状態でならす表面処理を行う表面処理工程（Ｓ１０２）と、を含む。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device of this invention sequentially includes: at least a process A in which one surface of a semiconductor substrate, on which a circuit is formed on the other surface, is ground; and a process B in which protective tape is applied to an outer periphery of the grounded surface of the semiconductor substrate so as to protrude outwardly from an outer peripheral end of the semiconductor substrate.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、一方の面に回路が形成された半導体基板の他方の面を研削する工程Ａと、前記半導体基板の他方の面の外周部に、該半導体基板の外周端より外側にはみ出すように保護テープを貼付する工程Ｂと、を少なくとも順に有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method protecting a wafer surface from contamination by the adhesion of dust or the like such as cutting chips by sticking a surface protective sheet for dicing on the wafer surface and collectively cutting the protective sheet for dicing together with a wafer in a process conducting pickup after dicing and picking up chips without forming cracks and breakings in a chip after a dicing process.例文帳に追加

ダイシングを行い、その後にピックアップする工程において、ダイシング用表面保護シートをウエハ表面に貼り付け、ウエハと一括して切断することにより、ウエハ表面を切削クズ等のダスト等の付着による汚染から保護し、且つ、ダイシング工程後に、チップに割れや欠けを生じることなくピックアップする方法を提供する。 - 特許庁

The element manufacturing method includes a process of forming a nanotube-coating film on the surface of a conductive substrate and a process in which the nanotubes are made to nap, by making a roller relatively move and the conductive substrate, in a state where the nanotube-coating film is placed, in contact with or in proximity to the surface of the roller having unevenness on the surface.例文帳に追加

本発明では、導電性基板の表面にナノチューブ塗布膜を形成する工程と、表面に凹凸を有するローラの前記表面に、前記ナノチューブ塗布膜を当接または近接させた状態で前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させることで前記ナノチューブを起毛させる工程と、を有する素子製造方法を提供する。 - 特許庁

The image data processing method includes a haze value measuring process for measuring the haze value corresponding to each of the respective surface positions of the wafer using a wafer surface inspection device and a noise removing process for removing a noise component by performing the processing of image data along the measuring direction of the haize value with respect to the image data comprising the haze value corresponding to each of the surface positions of the wafer.例文帳に追加

ウェーハ表面検査装置を用いて、ウェーハ表面の各位置に対応したヘイズ値を測定するヘイズ値測定工程と、ウェーハ表面の各位置に対応したヘイズ値からなる画像データに対し、ヘイズ値の測定方向に沿って画像データ処理を行ってノイズ成分を除去するノイズ除去工程とを含む画像データの処理方法である。 - 特許庁

To reliably discriminate a main surface of a magnetic disk substrate, where a defect is detected in a magnetic recording layer in the defect inspection of a process for manufacturing the magnetic disk substrate, in a subsequent film-forming process, and to reduce costs by preventing the use of an expensive material for a substrate surface obviously not to be used as a recording surface.例文帳に追加

磁気ディスク基板の製造工程における欠陥検査で磁気記録層に不適切な欠陥が検出された磁気ディスク基板の主表面を、後の成膜工程において確実に判別することができ、初めから記録面として用いられないことが判っている基板面にまで高価な材料を用いることを回避してコストの削減を図ること。 - 特許庁

The particle is preferably manufactured by a method including a process for producing silica having a specific surface area ratio (Ss/Ss_0) of 2 or less by calcining a silica particle obtained by a hydrolysis-condensation reaction of an alkoxysilane at 650-1,180°C and a process for forming a surface layer containing a fluorine-containing polymer on the surface of the silica.例文帳に追加

該粒子は、アルコキシシランの加水分解・縮合反応により得られたシリカ粒子を６５０〜１１８０℃で焼成することによって、比表面積比（Ｓｓ／Ｓｓ_０）が２以下であるシリカを製造する工程と、該シリカにフッ素含有ポリマーを含む表面層を形成させる工程とを有する製造方法により製造することが好ましい。 - 特許庁

A mark for controlling a manufacturing process is given to a region where no laser beams for laser scribing for each layer are applied of a peripheral region of a surface opposite to a surface where a light transmission substrate is formed, or a side surface, the mark is read in succeeding manufacturing processes, the read mark is utilized, and each manufacturing process is controlled.例文帳に追加

透光性基板の成膜される面とは反対側の面の周縁領域または側面の、各層に対するレーザースクライブのためのレーザー光が照射されない領域に、製造工程の管理のためのマークを付し、以後の各製造工程において、前記マークを読取り、読取られたマークを利用して各製造工程の管理を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The thin film transistor manufacturing method comprises a first process of laminating, at least, silicon films 2 and 3 which are formed thick as prescribed under different conditions on one surface of a transparent substrate 1, and a second process of forming a thin film transistor on the other surface of the transparent substrate 1 opposite to its other surface where the silicon films 2 and 3 are formed.例文帳に追加

透光性基板１の一方の面に、所定の厚みとなるように、成膜条件の異なる少なくとも２つのシリコン膜２，３を積層する工程と、その後、前記シリコン膜２，３が形成されていない、前記透光性基板の他方の面に、薄膜トランジスタを形成する工程と、を備えた薄膜トランジスタの製造方法である。 - 特許庁

This method/system is provided with a reduction-dissolving process S2 for bringing a surface of a radioactive chemical having a radioactive oxide skin on its surface into contact with a reducing decontaminant solution dissolved with a mono-carboxylic acid and a dicarboxylic acid, and an oxidation-dissolving process S6 for bringing the surface of the radioactive chemical into contact with an oxidizing decontaminant solution dissolved with an oxidant.例文帳に追加

表面に放射性の酸化皮膜を有する放射化部品の表面をモノカルボン酸とジカルボン酸が溶解した還元性の除染液に接触させる還元溶解工程Ｓ２と、前記放射化部品の表面を酸化剤が溶解した酸化性の除染液に接触させる酸化溶解工程Ｓ６とを備えている構成とする。 - 特許庁

Surface of a copper film 3 is changed to cuprous oxide (Cu_2O)5 insoluble to water by polishing the wafer surface by using a cleaning agent having pH adjusted to 7-12 immediately after a barrier metal film polishing process in the Cu-CMP process when copper interconnections are formed, and an antioxidation film 6 is formed by making an oxidation inhibitor adhere to the surface of Cu_2O5.例文帳に追加

銅配線形成時のＣｕ−ＣＭＰ工程におけるバリアメタル膜研磨工程直後に、ｐＨを７〜１２に調整した洗浄剤を用いてウエハ表面を研磨することで、銅膜３表面を水に不溶な酸化第一銅（Ｃｕ_２Ｏ）５に変化させると共に、Ｃｕ_２Ｏ５表面に酸化防止剤を付着させて酸化防止膜６を形成する。 - 特許庁

This method manufactures the nonwoven fabric by spinning a fiber in semimolten state onto a forming surface 12, comprises a process preparing the forming surface 12 having many projections 13 to which the semimolten state fiber get twisted and a process spinning the fiber in sintered state to the forming surface 12.例文帳に追加

本発明の不織布の製造方法は、成形面１２上に半溶融状態の繊維を紡出することにより形成される不織布の製造方法であって、半溶融状態の繊維が絡まる突起物１３が複数形成された成形面１２を準備する工程と、前記成形面１２に半溶融状態の繊維を紡出する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

A manufacturing method for the circuit board comprises a process of sticking a reinforcing plate on one metal layer formation surface through a peelable organic body layer after forming the metal layer of <5 μm in thickness on at least one surface of the flexible film, and a process of peeling the flexible film off the reinforcing plate after forming a circuit pattern on the surface where the reinforcing plate is not stuck.例文帳に追加

可撓性フィルムの少なくとも一方の面に厚さ５μｍ未満の金属層を形成した後、該金属層形成面側の一表面に補強板を剥離可能な有機物層を介して貼り合わせ、次いで補強板が貼り合わされていない面に回路パターンを形成してから、該可撓性フィルムを該補強板から剥離する回路基板の製造方法。 - 特許庁

This manufacturing method for the friction plate for the clutch comprises a containing process of containing plural friction material segments 2 circularly on one surface 70a of a holding member 4, and an application process of putting an application surface of a core plate 8 to be close to one surface 70a of the holding member 4, and energizing the friction segments 2 held by the holding member 4 to be applied.例文帳に追加

クラッチ用摩擦板の製造方法は、保持部材４の一面７０ａに複数個の摩擦材セグメント２を円周状に収納する収納工程と、コアプレート８の貼付表面と保持部材４の一面とを近接させるとともに保持部材に保持された摩擦材セグメントをコアプレートの貼付表面に付勢して貼付する貼付工程と、を有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the solar cell includes a process for coating one surface of a semiconductor substrate with a mask material by using an ink jet coating method, and a process for coating a surface that opposes one surface of the substrate with dopant liquid.例文帳に追加

半導体基板の一面上にマスク材をインクジェット塗布法を用いて塗布する工程と、この基板の一面に対向する面上にドーパント液を塗布する工程とを含む太陽電池の製造方法であって、マスク材は溶媒としてジエチレングリコールまたはエチレングリコールをマスク材の溶媒全体に対して４０〜７０体積％含む太陽電池の製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method of a strip electrode with electrode pastes 21, 22 coated on either surface of a strip collector sheet 10, respectively, includes a first coating process coating the electrode paste 21 on a first surface 11 of the collector sheet 10, and a second coating process coating electrode paste 22 on a second surface 12 of the collector sheet 10.例文帳に追加

帯状の集電体シート１０の両面に電極ペースト２１、２２が塗工された帯状電極の製造方法において、集電体シート１０の第１面１１に電極ペースト２１を塗工する第１塗工工程と、集電体シート１０の第２面１２に電極ペースト２１を塗工する第２塗工工程とを有している。 - 特許庁

The method for producing it comprises a process for obtaining the surface-modified carbon material by the sulfonic group by reacting the carbon material with a source of the sulfonic group, and a process for obtaining the surface-modified carbon material by the sulfonic group and the fluorine atom by reacting the surface-modified carbon material by the sulfonic group with fluorine gas.例文帳に追加

その製造方法は、炭素材料とスルホン酸基供給源とを反応させてスルホン酸基により表面修飾された炭素材料を得る工程と、続いて前記スルホン酸基により表面修飾された炭素材料とフッ素ガスとを反応させてスルホン酸基とフッ素原子とに表面修飾された炭素材料を得る工程とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the electric casting mold has the process (step S11) of processing the surface of the material of a master mold to obtain the master mold having a fine surface uneven shape and the process (step S12) of forming an electrodeposition layer on the surface of the master mold and peeling the electrodeposition layer from the master mold to obtain the electric casting mold as a negative mold.例文帳に追加

電気鋳造金型を製造する方法は、マスター型の素材の表面を加工することにより微細な表面凹凸形状を有するマスター型を得る工程（ステップＳ１１）と、マスター型の表面上に電着層を形成し、当該電着層をマスター型から剥離してネガティブ型としての電気鋳造金型を得る工程（ステップＳ１２）と、を有する。 - 特許庁

The control part 41 gradually increases or decreases the surface temperature of the heating member 31 by repeating on/off of the energization state to the heat source 33 in each of a temperature rise process C21 in which the surface temperature of the heating member 31 increases toward the upper limit temperature and a temperature drop process C12 in which the surface temperature drops toward the lower limit temperature.例文帳に追加

加熱部材３３の表面温度が上限温度へ向かって上昇する温度上昇過程Ｃ２１と、下限温度へ向かって低下する温度低下過程Ｃ１２とのそれぞれにおいて、制御部４１が、熱源３３への通電状態を繰り返しオン・オフして、加熱部材３１の表面温度を段階的に上昇あるいは低下させる。 - 特許庁

The partial strengthening method of the metallic material comprises a first press process of forming an uneven surface by imparting plastic strain through a plastic flow of the material to the top and bottom surfaces of the area to be strengthened of the metallic material, and a second press process of forming a flat surface by imparting plastic strain through an additional plastic flow on the uneven surface formed before.例文帳に追加

本発明の金属材料の部分強化方法は、金属材料の被強化部位の表裏面に材料の塑性流動による塑性ひずみを付与して凹凸面を形成する第１プレス工程と、形成された凹凸面にさらに塑性流動による塑性ひずみを付与して平面を形成する第２プレス工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a measuring apparatus for determining the stop of a flow process due to the friction force between can surfaces in a can-manufacturing process, and the ease of scratching in the surface of a canned product to a paint film in a transport in advance.例文帳に追加

製缶工程での缶表面同士の摩擦力による流れ工程の停止や製缶された商品の表面の塗装膜に対する輸送時のキズの付きやすさを前もって知るための計測装置を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon substrate for magnetic recording medium which reduces cost reduction while having sufficient impact resistance and excellent surface flatness without complicating working process and deposition process of a magnetic recording layer.例文帳に追加

充分な耐衝撃性を有し、加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかもコストダウンを可能とする磁気記録媒体用Ｓｉ基板を提供すること。 - 特許庁

After the process for forming the Cu film 3 or the Ag film 4, a process for forming Ni film 5 on the surface of the Cu film 3 or the Ag film 4 by electroplating is preferably provided.例文帳に追加

また、Ｃｕ膜３またはＡｇ膜４を形成する工程の後には、Ｃｕ膜３またはＡｇ膜４の表面上にＮｉ膜５を電解めっきによって形成する工程を有していることが好ましい。 - 特許庁

It is suitable to continuously perform a first process of heating coagulating agent-added soymilk at 80-85°C to make a dried bean curd film on a surface, and a second process of heating the soymilk at ≥90°C to make bean curd.例文帳に追加

凝固剤添加豆乳を、８０〜８５℃に加熱して表面に湯葉膜を作らせる第一工程と、その後に９０℃以上に加熱して豆腐を作らせる第二工程を連続的に行うことが好適である。 - 特許庁

A method of forming a resist pattern is executed by the immersion lithography process including a process for removing adhered water on the surface of a wafer subjected to immersion exposure with a water purge agent including at least a nonaqueous solvent prior to the heating after exposure before development.例文帳に追加

現像前の露光後加熱に先立って、液浸露光したウェハ表面の付着水を少なくとも非水溶剤を含む水パージ剤で除去する工程を含む液浸リソグラフィプロセスによるレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a sheath-core composite conductive fiber which is superior in conductivity in a surface resistance measuring method and durability of conductivity, and has good passableness in the spinning process and the post process, and has excellent chemical resistance.例文帳に追加

表面抵抗測定法における導電性と導電性の耐久性に優れ、紡糸工程および後工程の通過性が良好で、耐薬品性にも優れた芯鞘複合型導電性繊維を得ることである。 - 特許庁

The toner confirmation window is provided preferably on the top surface of the developing unit or process cartridge or on a position where the inner side can be viewed from the outside in a state in which the developing unit and the process cartridge is fitted to the apparatus main body.例文帳に追加

トナー確認窓は、現像ユニットやプロセスカートリッジの上面に設けるとよく、また現像ユニットやプロセスカートリッジを装置本体に取り付けた状態で、内部を外部から目視できる位置に設けるとよい。 - 特許庁

To enable the parallel action of a preparation process and a sticking process for strip members through real-mode synchronization control when a plurality of the strip members are aligned circumferentially and stuck to an outer peripheral surface of a molding drum.例文帳に追加

複数の短冊状部材を成型ドラムの外周面の周方向に並べて貼り付けるときに、リアルモードの同期制御により短冊状部材の準備工程及び貼り付け工程の並行動作を可能にする。 - 特許庁

To provide an apparatus and process capable of executing the process in the cycle time of a high speed by avoiding the undesirable condensation of gaseous precursors in atomic layer deposition which is a method for depositing an extremely thin film on a surface.例文帳に追加

非常に薄い膜を表面にめっきする方法である原子層めっきにおいて前駆物質ガスの望ましくない凝縮を回避し、プロセスが高速のサイクル時間で実施できる装置とプロセスを提供する。 - 特許庁

A direct dye is added just before the entrance 61A of a chest 6A in a raw material pulp-preparation process for a surface layer A of a liner, and a basic dye is added into a seed box 71A just before a paper making process P.例文帳に追加

ライナーの表層Ａの原料パルプ調成工程におけるチェスト６Ａの入口直前６１Ａで直接染料を添加し、抄紙工程Ｐ直前の種箱７１Ａで塩基性染料を添加する。 - 特許庁

The manufacturing method has a process for depositing the silicon film in a recessed part formed on a main surface side of a semiconductor substrate 10 and a process for heat-treating the silicon film 50 where the seam part 51 is formed at 1,000°C or above.例文帳に追加

半導体基板１０の主表面側に形成された凹部にシリコン膜を堆積する工程と、シーム部５１が形成されたシリコン膜５０に１０００℃以上にて熱処理を施す工程とを備える。 - 特許庁

In a process A, a high projection 22A is formed on the surface of an insulating substrate 11, and in the process B, the projection 22A is covered by a film 25 to form a tent 26A with a high height using the projection 22A as a strut.例文帳に追加

工程Ａにおいて絶縁基板１１の表面上に背の高い突起２２Ａを形成し、工程Ｂにおいて突起２２Ａをフィルム２５を用いて覆い、突起２２Ａを支柱とする背の高いテント２６Ａを形成する。 - 特許庁

For the protective layer 6, a spraying process and a dipping process are performed in a vacuum state, where the epoxy-based coating material is sprayed to the entire surface of the float body or the float body is dipped into a vessel filled with the epoxy-based coating material.例文帳に追加

保護層６は、フロート体の表面全体にエポキシ系コート材を吹き付ける、或いは、エポキシ系コート材が満たされた容器内にフロート体を浸漬する、吹き付け工程及び浸漬工程を真空状態で行う。 - 特許庁

To obtain high-precision shape tolerance with respect to a heat dissipation member while obtaining a both-surface heat dissipation structure even when eliminating the need for a process of removing resin burrs of a mold resin and a process for obtaining the high-precision shape tolerance.例文帳に追加

モールド樹脂の樹脂バリの除去の工程、および高精度の形状公差を得るための工程を不要としても、両面放熱構造を得ると共に放熱部材について高精度の形状公差を得る。 - 特許庁

To obtain a thermoplastic resin composition capable of preventing the degradation of a thermoplastic resin in a melt kneading process and molding process and fully exhibiting the reinforcing effect of wollastonite by treating the surface of a fibrous β-wollastonite with a specific phosphate ester.例文帳に追加

溶融混練や成形工程における熱可塑性樹脂の分解を防止することができ、繊維状β−ワラストナイトの補強効果を十分に発揮することができる熱可塑性樹脂組成物を得る。 - 特許庁

A metal test piece 2 is cut out of a sample 1 in a cutting process P1, and a complementary layer formed of a plating layer 3 is formed on the most surface layer of the metal test piece 2 in a plating layer preparing process P2.例文帳に追加

図２に示すように、金属試験片２を試料１から切断工程Ｐ１により切り取り、メッキ層作製工程Ｐ２により金属試験片２の最表層にメッキ層３からなる補完層を形成する。 - 特許庁

The formation method of an insulating film has: a process for forming a fluorocarbon film on a substrate; and a process for bringing the surface into contact with processed gas including inorganic fluorinating gas, such as SF_6, NF_3, SiF_4, PF_5, and BF_3.例文帳に追加

基板上にフルオロカーボン膜を形成する工程、および、その表面と、ＳＦ_6、ＮＦ_3、ＳｉＦ_4、ＰＦ_5およびＢＦ_３などの無機フッ化ガスを含む処理ガスとを接触させる工程を有する絶縁膜の形成方法。 - 特許庁

To efficiently evaporate condensed water condensed on the surface of an object to be sterilized in a drying process, to shorten the time needed for the drying process, to save energy and to increase the number of times of sterilization work per day.例文帳に追加

被滅菌物表面で凝縮した凝縮水を乾燥工程において効率よく蒸発させ、乾燥工程に要する時間を短縮し、省エネと１日当たりの滅菌作業回数を増加させることである。 - 特許庁

A method for suppressing generation of the solder balls in the reflow soldering process of the surface mounting components is obtained, by allowing a part of an aperture portion 5-2 of a metal mask 5 used in the solder printing process to be cut (narrow) with respect to a land 4.例文帳に追加

はんだ印刷工程に用いられるメタルマスク５の開口部５−２を、ランド４に対して一部を削除（狭小）することで、表面実装部品のリフローはんだ付け工程におけるはんだボールの抑制を図る。 - 特許庁

Prior to a plating process, the manufacturing method comprises a mask jig mounting process of mounting a mask jig 18 on a mask part 4 different from an electrode scheduled part 3 where it is scheduled to form an electrode 21 in an inner surface 1n of a base body 1.例文帳に追加

メッキ工程に先立って、基体１の内表面１ｎのうち電極２１を形成する予定の電極予定部３とは異なるマスク部４に、マスク治具１８を装着するマスク治具装着工程を備える。 - 特許庁