「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing a diamond electron source which includes a top end portion as a diamond electron discharging point includes a process A in which a top end shape of the sharp top portion is rectified to a spherical surface by using a focused ion beam processing unit and a process B in which a process-damaged layer formed by the process A is removed by plasma.例文帳に追加

本発明が提供するダイヤモンドの電子放射点として先鋭部を有するダイヤモンド電子源の製造方法は、該先鋭部の先端形状を集束イオンビーム加工装置を用いて球面形状に補正する工程Ａと、該工程Ａによって形成された加工変質層をプラズマによって除去する工程Ｂとを有することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing process of this lens comprises a process of forming a pattern on a supporting body by a difference in wettability, a process of adhering a liquid containing a material for forming a lens 2 on the part having a specific wettability on the surface of the supporting body 1, and a process of forming the lens by curing the liquid containing the material for forming the lens 2.例文帳に追加

支持体の表面に濡れ性の違いによるパターンを形成する工程と、前記支持体表面の特定の濡れ性を有する部位にレンズを形成するための材料を含む液体を付着させる工程と、前記レンズを形成するための材料を含む液体を硬化させてレンズを形成する工程とを含むレンズの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing process of the molded product with the skin material includes a mold clamping process for clamping a movable mold 41 and a fixed mold 42 in a state that the skin material 13 is set to the mold surface 41a of the movable mold 41, an injection process for injecting a molten resin in a cavity 45 and an expansion process for expanding the volume of the injected molten resin.例文帳に追加

表皮材付成形品の製造工程は、表皮材１３を可動金型４１の型面４１ａにセットした状態で、可動金型４１と固定金型４２とを型締めする型締め工程と、キャビティ４５に溶融樹脂を射出する射出工程と、射出された溶融樹脂を体積膨張させる膨張工程とを備えている。 - 特許庁

This method of manufacturing a heat resistant roll is a method of manufacturing a heat resistant roll which is equipped with a roll containing not less than 5 wt.% clay and includes a grinding process (S101) in which the surface of the roll is ground, and a surface treating process (S102) in which the surface of the ground roll is smoothed while it is kept wet.例文帳に追加

本発明に係る耐熱ロールの製造方法は、粘土を５重量％以上含有するロール部を備えた耐熱ロールの製造方法であって、前記ロール部のロール表面を研削する研削工程（Ｓ１０１）と、研削された前記ロール表面を湿らせた状態でならす表面処理を行う表面処理工程（Ｓ１０２）と、を含む。 - 特許庁

A manufacturing method for the circuit board comprises a process of sticking a reinforcing plate on one metal layer formation surface through a peelable organic body layer after forming the metal layer of <5 μm in thickness on at least one surface of the flexible film, and a process of peeling the flexible film off the reinforcing plate after forming a circuit pattern on the surface where the reinforcing plate is not stuck.例文帳に追加

可撓性フィルムの少なくとも一方の面に厚さ５μｍ未満の金属層を形成した後、該金属層形成面側の一表面に補強板を剥離可能な有機物層を介して貼り合わせ、次いで補強板が貼り合わされていない面に回路パターンを形成してから、該可撓性フィルムを該補強板から剥離する回路基板の製造方法。 - 特許庁

This method/system is provided with a reduction-dissolving process S2 for bringing a surface of a radioactive chemical having a radioactive oxide skin on its surface into contact with a reducing decontaminant solution dissolved with a mono-carboxylic acid and a dicarboxylic acid, and an oxidation-dissolving process S6 for bringing the surface of the radioactive chemical into contact with an oxidizing decontaminant solution dissolved with an oxidant.例文帳に追加

表面に放射性の酸化皮膜を有する放射化部品の表面をモノカルボン酸とジカルボン酸が溶解した還元性の除染液に接触させる還元溶解工程Ｓ２と、前記放射化部品の表面を酸化剤が溶解した酸化性の除染液に接触させる酸化溶解工程Ｓ６とを備えている構成とする。 - 特許庁

Surface of a copper film 3 is changed to cuprous oxide (Cu_2O)5 insoluble to water by polishing the wafer surface by using a cleaning agent having pH adjusted to 7-12 immediately after a barrier metal film polishing process in the Cu-CMP process when copper interconnections are formed, and an antioxidation film 6 is formed by making an oxidation inhibitor adhere to the surface of Cu_2O5.例文帳に追加

銅配線形成時のＣｕ−ＣＭＰ工程におけるバリアメタル膜研磨工程直後に、ｐＨを７〜１２に調整した洗浄剤を用いてウエハ表面を研磨することで、銅膜３表面を水に不溶な酸化第一銅（Ｃｕ_２Ｏ）５に変化させると共に、Ｃｕ_２Ｏ５表面に酸化防止剤を付着させて酸化防止膜６を形成する。 - 特許庁

This manufacturing method for the friction plate for the clutch comprises a containing process of containing plural friction material segments 2 circularly on one surface 70a of a holding member 4, and an application process of putting an application surface of a core plate 8 to be close to one surface 70a of the holding member 4, and energizing the friction segments 2 held by the holding member 4 to be applied.例文帳に追加

クラッチ用摩擦板の製造方法は、保持部材４の一面７０ａに複数個の摩擦材セグメント２を円周状に収納する収納工程と、コアプレート８の貼付表面と保持部材４の一面とを近接させるとともに保持部材に保持された摩擦材セグメントをコアプレートの貼付表面に付勢して貼付する貼付工程と、を有する。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device 1 comprises a process where the semiconductor element 10 is mounted on one surface of the board 2 and a process where the semiconductor element 10 is sealed up with molding resin 3 on the one surface of the board 2 and positioning pins 4 are formed on the other surface of the board 2 integrally with the molding resin 3.例文帳に追加

また、本発明は、基板２の一方面に半導体素子１０を実装する工程と、基板２の一方面において半導体素子１０をモールド樹脂３で封止するとともに、その封止と同一工程で基板２の他方面にモールド樹脂３と一体的な位置決めピン４を形成する工程とを備えている半導体装置１の製造方法である。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device of this invention sequentially includes: at least a process A in which one surface of a semiconductor substrate, on which a circuit is formed on the other surface, is ground; and a process B in which protective tape is applied to an outer periphery of the grounded surface of the semiconductor substrate so as to protrude outwardly from an outer peripheral end of the semiconductor substrate.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、一方の面に回路が形成された半導体基板の他方の面を研削する工程Ａと、前記半導体基板の他方の面の外周部に、該半導体基板の外周端より外側にはみ出すように保護テープを貼付する工程Ｂと、を少なくとも順に有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method protecting a wafer surface from contamination by the adhesion of dust or the like such as cutting chips by sticking a surface protective sheet for dicing on the wafer surface and collectively cutting the protective sheet for dicing together with a wafer in a process conducting pickup after dicing and picking up chips without forming cracks and breakings in a chip after a dicing process.例文帳に追加

ダイシングを行い、その後にピックアップする工程において、ダイシング用表面保護シートをウエハ表面に貼り付け、ウエハと一括して切断することにより、ウエハ表面を切削クズ等のダスト等の付着による汚染から保護し、且つ、ダイシング工程後に、チップに割れや欠けを生じることなくピックアップする方法を提供する。 - 特許庁

The element manufacturing method includes a process of forming a nanotube-coating film on the surface of a conductive substrate and a process in which the nanotubes are made to nap, by making a roller relatively move and the conductive substrate, in a state where the nanotube-coating film is placed, in contact with or in proximity to the surface of the roller having unevenness on the surface.例文帳に追加

本発明では、導電性基板の表面にナノチューブ塗布膜を形成する工程と、表面に凹凸を有するローラの前記表面に、前記ナノチューブ塗布膜を当接または近接させた状態で前記ローラと前記導電性基板とを相対移動させることで前記ナノチューブを起毛させる工程と、を有する素子製造方法を提供する。 - 特許庁

The image data processing method includes a haze value measuring process for measuring the haze value corresponding to each of the respective surface positions of the wafer using a wafer surface inspection device and a noise removing process for removing a noise component by performing the processing of image data along the measuring direction of the haize value with respect to the image data comprising the haze value corresponding to each of the surface positions of the wafer.例文帳に追加

ウェーハ表面検査装置を用いて、ウェーハ表面の各位置に対応したヘイズ値を測定するヘイズ値測定工程と、ウェーハ表面の各位置に対応したヘイズ値からなる画像データに対し、ヘイズ値の測定方向に沿って画像データ処理を行ってノイズ成分を除去するノイズ除去工程とを含む画像データの処理方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the solar cell includes a process for coating one surface of a semiconductor substrate with a mask material by using an ink jet coating method, and a process for coating a surface that opposes one surface of the substrate with dopant liquid.例文帳に追加

半導体基板の一面上にマスク材をインクジェット塗布法を用いて塗布する工程と、この基板の一面に対向する面上にドーパント液を塗布する工程とを含む太陽電池の製造方法であって、マスク材は溶媒としてジエチレングリコールまたはエチレングリコールをマスク材の溶媒全体に対して４０〜７０体積％含む太陽電池の製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method of a strip electrode with electrode pastes 21, 22 coated on either surface of a strip collector sheet 10, respectively, includes a first coating process coating the electrode paste 21 on a first surface 11 of the collector sheet 10, and a second coating process coating electrode paste 22 on a second surface 12 of the collector sheet 10.例文帳に追加

帯状の集電体シート１０の両面に電極ペースト２１、２２が塗工された帯状電極の製造方法において、集電体シート１０の第１面１１に電極ペースト２１を塗工する第１塗工工程と、集電体シート１０の第２面１２に電極ペースト２１を塗工する第２塗工工程とを有している。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes: a resist pattern forming process of applying the above resist pattern thickening material to cover the surface of a resist pattern after the resist pattern is formed on the objective surface to be worked; and a patterning process of patterning the surface to be worked by etching by using the thickened resist pattern as a mask.例文帳に追加

被加工表面上にレジストパターンを形成後、レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することによりレジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The particle is preferably manufactured by a method including a process for producing silica having a specific surface area ratio (Ss/Ss_0) of 2 or less by calcining a silica particle obtained by a hydrolysis-condensation reaction of an alkoxysilane at 650-1,180°C and a process for forming a surface layer containing a fluorine-containing polymer on the surface of the silica.例文帳に追加

該粒子は、アルコキシシランの加水分解・縮合反応により得られたシリカ粒子を６５０〜１１８０℃で焼成することによって、比表面積比（Ｓｓ／Ｓｓ_０）が２以下であるシリカを製造する工程と、該シリカにフッ素含有ポリマーを含む表面層を形成させる工程とを有する製造方法により製造することが好ましい。 - 特許庁

A mark for controlling a manufacturing process is given to a region where no laser beams for laser scribing for each layer are applied of a peripheral region of a surface opposite to a surface where a light transmission substrate is formed, or a side surface, the mark is read in succeeding manufacturing processes, the read mark is utilized, and each manufacturing process is controlled.例文帳に追加

透光性基板の成膜される面とは反対側の面の周縁領域または側面の、各層に対するレーザースクライブのためのレーザー光が照射されない領域に、製造工程の管理のためのマークを付し、以後の各製造工程において、前記マークを読取り、読取られたマークを利用して各製造工程の管理を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The thin film transistor manufacturing method comprises a first process of laminating, at least, silicon films 2 and 3 which are formed thick as prescribed under different conditions on one surface of a transparent substrate 1, and a second process of forming a thin film transistor on the other surface of the transparent substrate 1 opposite to its other surface where the silicon films 2 and 3 are formed.例文帳に追加

透光性基板１の一方の面に、所定の厚みとなるように、成膜条件の異なる少なくとも２つのシリコン膜２，３を積層する工程と、その後、前記シリコン膜２，３が形成されていない、前記透光性基板の他方の面に、薄膜トランジスタを形成する工程と、を備えた薄膜トランジスタの製造方法である。 - 特許庁

This method manufactures the nonwoven fabric by spinning a fiber in semimolten state onto a forming surface 12, comprises a process preparing the forming surface 12 having many projections 13 to which the semimolten state fiber get twisted and a process spinning the fiber in sintered state to the forming surface 12.例文帳に追加

本発明の不織布の製造方法は、成形面１２上に半溶融状態の繊維を紡出することにより形成される不織布の製造方法であって、半溶融状態の繊維が絡まる突起物１３が複数形成された成形面１２を準備する工程と、前記成形面１２に半溶融状態の繊維を紡出する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To reliably discriminate a main surface of a magnetic disk substrate, where a defect is detected in a magnetic recording layer in the defect inspection of a process for manufacturing the magnetic disk substrate, in a subsequent film-forming process, and to reduce costs by preventing the use of an expensive material for a substrate surface obviously not to be used as a recording surface.例文帳に追加

磁気ディスク基板の製造工程における欠陥検査で磁気記録層に不適切な欠陥が検出された磁気ディスク基板の主表面を、後の成膜工程において確実に判別することができ、初めから記録面として用いられないことが判っている基板面にまで高価な材料を用いることを回避してコストの削減を図ること。 - 特許庁

The method for producing it comprises a process for obtaining the surface-modified carbon material by the sulfonic group by reacting the carbon material with a source of the sulfonic group, and a process for obtaining the surface-modified carbon material by the sulfonic group and the fluorine atom by reacting the surface-modified carbon material by the sulfonic group with fluorine gas.例文帳に追加

その製造方法は、炭素材料とスルホン酸基供給源とを反応させてスルホン酸基により表面修飾された炭素材料を得る工程と、続いて前記スルホン酸基により表面修飾された炭素材料とフッ素ガスとを反応させてスルホン酸基とフッ素原子とに表面修飾された炭素材料を得る工程とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the electric casting mold has the process (step S11) of processing the surface of the material of a master mold to obtain the master mold having a fine surface uneven shape and the process (step S12) of forming an electrodeposition layer on the surface of the master mold and peeling the electrodeposition layer from the master mold to obtain the electric casting mold as a negative mold.例文帳に追加

電気鋳造金型を製造する方法は、マスター型の素材の表面を加工することにより微細な表面凹凸形状を有するマスター型を得る工程（ステップＳ１１）と、マスター型の表面上に電着層を形成し、当該電着層をマスター型から剥離してネガティブ型としての電気鋳造金型を得る工程（ステップＳ１２）と、を有する。 - 特許庁

The control part 41 gradually increases or decreases the surface temperature of the heating member 31 by repeating on/off of the energization state to the heat source 33 in each of a temperature rise process C21 in which the surface temperature of the heating member 31 increases toward the upper limit temperature and a temperature drop process C12 in which the surface temperature drops toward the lower limit temperature.例文帳に追加

加熱部材３３の表面温度が上限温度へ向かって上昇する温度上昇過程Ｃ２１と、下限温度へ向かって低下する温度低下過程Ｃ１２とのそれぞれにおいて、制御部４１が、熱源３３への通電状態を繰り返しオン・オフして、加熱部材３１の表面温度を段階的に上昇あるいは低下させる。 - 特許庁

The partial strengthening method of the metallic material comprises a first press process of forming an uneven surface by imparting plastic strain through a plastic flow of the material to the top and bottom surfaces of the area to be strengthened of the metallic material, and a second press process of forming a flat surface by imparting plastic strain through an additional plastic flow on the uneven surface formed before.例文帳に追加

本発明の金属材料の部分強化方法は、金属材料の被強化部位の表裏面に材料の塑性流動による塑性ひずみを付与して凹凸面を形成する第１プレス工程と、形成された凹凸面にさらに塑性流動による塑性ひずみを付与して平面を形成する第２プレス工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To obtain high-precision shape tolerance with respect to a heat dissipation member while obtaining a both-surface heat dissipation structure even when eliminating the need for a process of removing resin burrs of a mold resin and a process for obtaining the high-precision shape tolerance.例文帳に追加

モールド樹脂の樹脂バリの除去の工程、および高精度の形状公差を得るための工程を不要としても、両面放熱構造を得ると共に放熱部材について高精度の形状公差を得る。 - 特許庁

To obtain a thermoplastic resin composition capable of preventing the degradation of a thermoplastic resin in a melt kneading process and molding process and fully exhibiting the reinforcing effect of wollastonite by treating the surface of a fibrous β-wollastonite with a specific phosphate ester.例文帳に追加

溶融混練や成形工程における熱可塑性樹脂の分解を防止することができ、繊維状β−ワラストナイトの補強効果を十分に発揮することができる熱可塑性樹脂組成物を得る。 - 特許庁

The manufacturing method has a process for depositing the silicon film in a recessed part formed on a main surface side of a semiconductor substrate 10 and a process for heat-treating the silicon film 50 where the seam part 51 is formed at 1,000°C or above.例文帳に追加

半導体基板１０の主表面側に形成された凹部にシリコン膜を堆積する工程と、シーム部５１が形成されたシリコン膜５０に１０００℃以上にて熱処理を施す工程とを備える。 - 特許庁

In a process A, a high projection 22A is formed on the surface of an insulating substrate 11, and in the process B, the projection 22A is covered by a film 25 to form a tent 26A with a high height using the projection 22A as a strut.例文帳に追加

工程Ａにおいて絶縁基板１１の表面上に背の高い突起２２Ａを形成し、工程Ｂにおいて突起２２Ａをフィルム２５を用いて覆い、突起２２Ａを支柱とする背の高いテント２６Ａを形成する。 - 特許庁

To provide a composite plate capable of preventing generation of a defect such as crack, knot hole and partial deficiency in a surface layer by interposing a material for covering defects in between and capable of reducing process steps of manufacturing, and also provide a process for manufacturing the composite plate.例文帳に追加

欠点隠蔽材を介在させることにより、表層にクラック、節穴、部分欠損等の欠点が現出しないようにし、工程数の減少も可能とした複合板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the separation process ATP is separated using a beads carrier to which the molecule specifically bonded to ATP is fixed and the separated beads carrier is collected on the surface of the electrode in the measuring process.例文帳に追加

分離工程においては、ＡＴＰに特異的に結合する分子を固定化したビーズ担体を用いてＡＴＰを分離し、測定工程においては分離した前記ビーズ担体を前記電極の表面に集める。 - 特許庁

As a result, secure smoothness of motion of images displayed on a display surface can be secured by the main side process A, while effective utilization of processing ability of a CPU can be secured by the subsidiary side process B.例文帳に追加

その結果、メイン側処理Ａによって表示画面に表示させる画像の動きの確実な円滑性を確保しつつ、サブ側処理ＢによってＣＰＵの処理能力の有効な利用も確保することができる。 - 特許庁

Next, in a process shown in Figure 1 (b), liquid 16 (pure water) soluble in etchant in a wet etching process which is stated later and forms a small contact angle with the resist mask 13 is applied on the surface of the wafer W.例文帳に追加

次に、図１（ｂ）に示す工程で、基板表面上に、後に述べるウェットエッチング工程で用いるエッチング液に可溶であり、且つ、レジストマスク１３に対して接触角の小さい液体１６（純水）を塗布する。 - 特許庁

The method for manufacturing the ceramic structure comprises a process of forming the recesses 12 on a ceramic green sheet 1 by pressing a die 10 on the surface of the ceramic green sheet 1 and a process of calcining the ceramic green sheet 1.例文帳に追加

【解決手段】セラミックグリーンシート１の表面に型１０を押圧してセラミックグリーンシート１に凹部１２を形成する工程と、該セラミックグリーンシート１を焼成する工程とを含むセラミック構造体の製造方法である。 - 特許庁

An outer joint member 1 made of steel material is preliminarily formed into an almost specific shape through a hot forging or sub hot forging process and its inside diameter surface 1a and guide groove 1b are formed through a cold forging process.例文帳に追加

外側継手部材１は、鋼材料から熱間鍛造又は亜熱間鍛造によってほぼ所定形状に予備形成され、内径面１ａおよび案内溝１ｂを冷間鍛造加工によって成形される。 - 特許庁

An inner joint member 2 made of steel material is preliminarily formed into an almost specific shape through a hot forging or sub forging process and its outside diameter surface 2a and guide groove 2b are formed through a cold forging process.例文帳に追加

また、内側継手部材２は、鋼材料から熱間鍛造又は亜熱間鍛造によってほぼ所定形状に予備成形され、外径面２ａおよび案内溝２ｂを冷間鍛造加工によって成形される。 - 特許庁

To provide a process for producing a rubber product capable of forming rubber membranes having a good membrane thickness by the use of a deproteinized natural rubber latex having been stabilized with a surface active agent, and a heat coagulable latex to be used in the process.例文帳に追加

界面活性剤によって安定化された脱蛋白天然ゴムラテックスを用いて、良好な膜厚を有するゴム膜を形成し得るゴム製品の製造方法と、それに用いる熱凝固性ラテックスを提供する。 - 特許庁

The method is based on a modified thermophoresis process wherein a temperature gradient is produced in a mixture of particles and the most conductive particles are selectively deposited on a warm surface in the modified thermophoresis process.例文帳に追加

方法は、修正熱泳動プロセスに基づき、修正熱泳動プロセスにおいて、粒子の混合物内に温度勾配が生成され、最も伝導性が高い粒子が、暖かい表面上に選択的に堆積する。 - 特許庁

The method is characterized by having a process of applying a lubricant containing a molybdenum disulfide and graphite on at least one part of a surface of the light metal material, and a process of plastic working the material.例文帳に追加

軽合金製素材の少なくとも表面の一部に、二硫化モリブデンと黒鉛を含んだ潤滑剤を塗布して潤滑膜を形成する工程と、前記素材を塑性加工する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a seamless steel tube by Mannesmann piercing process by which thickness deviation and deterioration of biting ability are prevented and the generation of inside surface flaws is decreased in the manufacture of the seamless steel tube by Mannesmann piercing process.例文帳に追加

マンネスマン穿孔法による継目無鋼管の製造において、偏肉、噛み込み性の悪化を防ぎ、かつ内面疵の発生を低減させるマンネスマン穿孔法による継目無鋼管の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a first etching process, the surface of a crystal material is wet-etched using a first etching composite containing a buffered hydrofluoric acid as a main component to perform an etching process over a wide area by a required etching quantity.例文帳に追加

第１エッチング工程において、バッファード弗酸を主成分として含有する第１エッチング組成物を用いて水晶材料の表面をウエットエッチングし、広い範囲で必要なエッチング量だけエッチング加工する。 - 特許庁

Since the conductive film is formed on all of the surface, a density of electric charges accumulated in a gate electrode can be reduced in processing with plasma (plasma process) like anisotropic etching, and the damage due to the plasma process can be reduced.例文帳に追加

導電性膜が全面に形成されていることにより、異方性エッチング等のプラズマによる処理（プラズマプロセス）においてゲート電極に蓄積される電荷密度を低減でき、プラズマプロセスによる損傷を低減できる。 - 特許庁

The porous body made of nickel used in a washing process in the surface treatment process of the aluminum material has a pore size of 510-1,020 μm and has a density of 0.26-0.34 g/cm^3.例文帳に追加

アルミニウム材料の表面処理工程における水洗工程で使用する、孔径が１０２０〜５１０μmで、且つ密度が０．２６〜０．３４ｇ／ｃm^3の範囲内のニッケルからなる多孔質体であることを特徴とする。 - 特許庁

The laser processing method is a laser processing method for forming a scribe groove by irradiating a laser beam along a scribe intended line of a brittle material substrate surface, and it includes a preliminary working process, and a scribe process.例文帳に追加

このレーザ加工方法は、脆性材料基板表面のスクライブ予定ラインに沿ってレーザ光を照射し、スクライブ溝を形成するレーザ加工方法であって、予備加工工程と、スクライブ工程と、を備えている。 - 特許庁

In the irradiation process, the second surface 10b upward directed by the rotation process of the sample 20 is irradiated with the converged ion beam, and a membrane region 20a is formed at the sample 20 in the extending direction of the contact.例文帳に追加

照射工程において、回転工程により上面を向いた第２面１０ｂに対して集束イオンビームを照射し、コンタクトの延在方向に沿うように試料２０に薄膜領域２０ａを形成する。 - 特許庁