「surface spin」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To improve the cleaning quality of the lower surface (rear surface) of a disk, particularly a wafer, without increasing the weight of a spin table of a spin cleaner so much.例文帳に追加

スピン洗浄装置のスピンテーブルの重量をさほど増加させることなく、円板体特にウェーハの下面（裏面）洗浄品質を向上させる。 - 特許庁

In a spin coater 102, the surface of a substrate is spin coated with the liquid which is supplied from a coating liquid storage section 105 and contains thin-film components.例文帳に追加

スピンコータ１０２では、塗布液保管部１０５から供給される、薄膜成分を含む液体を基板上にスピンコートする。 - 特許庁

To effectively attach dimples to a whole spherical surface of a golf ball and provide a uniform spin.例文帳に追加

ゴルフボールの全球面にディンプルを効果的に取り付け、均一なスピンを得る。 - 特許庁

To provide a spin etching method capable of preventing a cleaning processing solution to an object to be subjected to spin etching processing from going round the back surface of the object.例文帳に追加

スピンエッチング処理される被処理体への洗浄処理液の裏面回り込みを防止するスピンエッチング方法を提供する。 - 特許庁

When the spin base 7 is rotated, the atmosphere between the upper surface of the spin base 7 and the lower surface of the wafer W is discharged to the outside the spin base 7 by centrifugal force and is depressurized, and the space below the wafer W becomes a negative pressure space.例文帳に追加

スピンベース７が回転されると、スピンベース７の上面とウエハＷの下面との間の雰囲気が、遠心力によって、スピンベース７の外方へと吐き出されて減圧され、ウエハＷの下方の空間が負圧空間となる。 - 特許庁

To provide a spin coat apparatus capable of sufficiently reducing nonuniformity of a film thickness caused by a foreign matter on a surface to be coated, and a spin coat method.例文帳に追加

被塗布面上の異物に起因する膜厚ムラを十分に低減させることができるスピンコート装置およびスピンコート方法を提供する。 - 特許庁

To provide a spin cup of a wafer cleaning/drying device, which can facilitate the temperature adjustment of the inner peripheral surface of the spin cup.例文帳に追加

スピンカップ内周面の温度調節を容易に行うことができるウエハ洗浄乾燥装置のスピンカップを提供することを目的とする。 - 特許庁

The application apparatus has at least a slit coater part, a spin coater part and a mechanism for turning the resist application surface downward and moving the substrate to the spin coater part.例文帳に追加

該塗布装置は、少なくとも、スリットコーター部とスピンコーター部、レジスト塗布面を下向きにして基板をスピンコーター部へ移動する機構を備える。 - 特許庁

Corpuscles 4 are sprayed on the surface of the carbon nano-tube 2 or deposited on it by a spin coating.例文帳に追加

カーボンナノチューブ２の表面に、微粒子４を吹きつけ又はスピンコートにより堆積する。 - 特許庁

A spin coating apparatus includes a wafer chuck 2, a rotation device 3, a nozzle 8, and a rear surface protection disc 21.例文帳に追加

ウェハチャック２と回転装置３とノズル８と裏面保護円盤２１とを備えている。 - 特許庁

A W film 114a is stacked over the entire surface, and an SOG(spin-on-glass) 115 is formed (h).例文帳に追加

全面にＷ膜１１４ａを堆積し、ＳＯＧ膜１１５を形成する（ｈ）。 - 特許庁

Generally, the solution of the dichroism pigment is applied on the polymer surface by a spin coating method.例文帳に追加

一般に、二色性色素の溶液を、スピンコーティング法によりポリマー表面に塗布する。 - 特許庁

Mizukiri is a game of throwing a stone with spin toward the water surface to make it skip over the water. 例文帳に追加

水面に向かって回転をかけた石を投げて、水面で石を跳ねさせる遊び。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Next, a positive hole filling layer 5 and a luminous layer 6 are formed over the whole surface of the substrate through spin coating.例文帳に追加

次に、正孔注入層５、発光層６を基板全面にスピンコートで形成する。 - 特許庁

When the processing liquid is discharged during the processing using the processing liquid, pure water is injected from a spin cup cleaning unit 26 to clean the processing liquid which stuck to the inside surface of a spin cup 22.例文帳に追加

薬液を吐出する薬液処理時に、スピンカップ洗浄手段26から純水を吐出し、スピンカップ22内面に付着した薬液を洗浄する。 - 特許庁

On the inner surface of the barrel wall part 15b of a washing and spin-drying tub 15 in which washing and spin-drying are carried out, a plurality of tub projecting parts 18 are formed.例文帳に追加

洗濯および脱水を可能とした洗濯兼脱水槽１５について、その胴壁部１５ｂの内面に、複数の槽凸部１８を設けた。 - 特許庁

An interlayer insulating film 15 containing a SOG (Spin On Glass) film 13 is formed on the surface of the semiconductor substrate 10 including the surfaces of the metallic layers 6.例文帳に追加

当該金属層６上を含めた半導体基板１０の表面上にはＳＯＧ(Spin On Glass)膜１３を含む層間絶縁膜１５を形成する。 - 特許庁

Then, the substrate W is placed on a spin holding part 12 and rotated by the action of a spin driving mechanism 13, and the surface of the solution film is flattened and dried.例文帳に追加

その後、基板Ｗをスピン保持部１２に載置してスピン駆動機構１３の作用により回転させ、液膜表面を平坦化させつつ乾燥させる。 - 特許庁

THe fixing solution 019 is sufficiently dropped until surface tension acts on the surface of the spin chuck 003.例文帳に追加

このとき定着液０１９はスピンチャック００３の表面に表面張力が働くまで、十分に滴下させる。 - 特許庁

A substrate processing apparatus includes a spin chuck horizontally holding a substrate W without contacting with an upper surface and a lower surface of the substrate W, a process liquid supply mechanism supplying the process liquid to the upper surface and the lower surface of the substrate W held by the spin chuck, and an annular member 4 enclosing the substrate W held by the spin chuck.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Ｗの上面および下面に非接触で当該基板Ｗを水平に保持するスピンチャックと、スピンチャックに保持された基板Ｗの上面および下面に処理液を供給する処理液供給機構と、スピンチャックに保持された基板Ｗを取り囲む環状部材４とを備えている。 - 特許庁

The magnetic structure analyzer is composed of a spin polarized ion producing part for producing spin polarized ions, a spin polarized ion beam line for throwing the spin polarized ions from the spin polarized ion producing part on the surface of the sample by desired energy, a vacuum tank for holding the sample and the measuring instrument positioned in the vacuum tank to measure the spin polarized ions scattered by the irradiation of the sample.例文帳に追加

スピン偏極イオンを発生させるスピン偏極イオン発生部と、前記スピン偏極イオン発生部からのスピン偏極イオンを所望のエネルギーで試料表面に入射させるスピン偏極イオンビームラインと、試料を保持する真空槽と、前記真空槽内に位置して、前記試料に照射されて散乱したスピン偏極イオンを計測する計測器よりなる。 - 特許庁

To more efficiently form an excellent surface film while adopting a spin coat system.例文帳に追加

スピンコート方式を踏襲しつつ、一層、効率よく良好な表面膜を形成できるようにする。 - 特許庁

In a spin cleaning unit 21, the surface of an amorphous silicon film on a glass substrate is cleaned by fluorine.例文帳に追加

スピン洗浄ユニット21でガラス基板上のアモルファスシリコン膜の表面をフッ酸にて洗浄する。 - 特許庁

An opposing rod 14 is arranged on the upper surface of a wafer W held by a spin chuck 2.例文帳に追加

スピンチャック２により保持されたウエハＷの上面に対向棒１４が対向配置される。 - 特許庁

Thereafter, a boron (B) application diffusion source is applied by spin coating to the surface of the silicon substrate 20.例文帳に追加

次に、ボロン（Ｂ）の塗付拡散源をシリコン基板２０の表面にスピンコートにより塗布する。 - 特許庁

A resist layer 7 is formed on the surface of the substrate 3 by coating a resist by a spin or spray method.例文帳に追加

基板３表面に、スピンまたはスプレー法でレジストを塗布し、レジスト層７を形成する。 - 特許庁

A substrate opposing surface which faces a surface of the substrate held by the spin chuck 17 is provided on the undersurface of the shield plate 14.例文帳に追加

遮断板１４の下面には、スピンチャック１７に保持される基板の表面と対向する基板対向面が形成されている。 - 特許庁

To surely remove the coating solvent wrapping around the rear surface of a substrate held by a spin chuck through suction, while the front surface of the substrate is coated with the solvent without forming the trace of the spin chuck on the rear surface.例文帳に追加

スピンチャックに吸着保持された基板表面のコーティング中に基板裏面に廻り込んだコーティング溶剤を、スピンチャック形状の痕を形成することなく確実に除去することができる基板回転処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a spin coater that is capable of stabilizing the temperature of an ultraviolet-curable resin composition upon spreading in each spin coating process in a short time, and of spreading the ultraviolet-curable resin composition over the surface of a disc substrate in a uniform thickness over multiple spin coating processes without performing large numbers of unproductive spin coating processes and to provide a temperature controlling method of the spin coater.例文帳に追加

各回の展延時の紫外線硬化樹脂組成物の温度を短時間で安定化でき、複数回に亘るスピンコート処理において、大量の捨て処理を行うことなく、ディスク基板上に紫外線硬化樹脂組成物を均一な厚さに展延することができるスピンコート装置及び該スピンコート装置の温度制御方法等の提供。 - 特許庁

Further, a projected amount of the guide pin from the surface of the to-be-washed object is selected smaller when the number of revolutions of the spin table is lower than the projected amount, when the number of revolutions of the spin table is higher.例文帳に追加

また、スピン テーブルの回転数が低いときの方が回転数が高いときよりも前記被洗浄物表面からのガイドピ ン突出量を少なくする。 - 特許庁

To provide a spin coater and a coating method of an SOG (spin on glass) liquid capable of suppressing evaporation of organic components from the SOG liquid dripped on the surface of a substrate.例文帳に追加

基板の表面上に滴下したＳＯＧ液からの有機成分の蒸発を抑制することができるようにしたスピンコータ及びＳＯＧ液の塗布方法を提供する。 - 特許庁

To prevent superposition between a surface uneveness image and a spin image, which is a problem in the case of using a ferromagnetic or antiferromagnetic probe, so as to take out only the spin image.例文帳に追加

強磁性あるいは反強磁性探針を用いた場合の問題点である、表面凹凸像とスピン像との重ね合わせを防ぎ、スピン像のみを取り出す。 - 特許庁

It is hereby possible that the rear surface of the wafer sticks fast to the spin chuck using the fixing solution as a medium.例文帳に追加

これによってウェハの裏面は定着液を媒体としてスピンチャックと密着することが可能となる。 - 特許庁

A chemical solution 4 is dropped from a chemical nozzle 11 onto a surface of a wafer 3 placed on a spin chuck 12.例文帳に追加

スピンチャック１２に載置したウエハ３の表面に、薬液ノズル１１から薬液４が滴下される。 - 特許庁

With respect to an arbitrary projection surface, the first region of the projection where the projected lower spin state variable layer 102 is projected on the normal line direction of the flat surface of the spin state fixed layer 104, does not coincide with the second region of the projection where the upper spin state variable layer 106 is projected to the above surface of projection.例文帳に追加

任意の投影面に対し、下部スピン状態可変層１０２をスピン状態固定層１０４の平面の法線方向に投影した射影である第１領域と、同様に上記投影面に対して上部スピン状態可変層１０６を投影した射影である第２領域とが一致していない。 - 特許庁

A resist 86 is spin-coated on a main surface of a semiconductor substrate that includes trenches 50 in which projection parts 70 are disposed.例文帳に追加

凸部７０が配列された溝５０を含む半導体基板主面にレジスト８６をスピンコートする。 - 特許庁

A push-pull plate 2 is opposingly arranged on the surface of the wafer W held by a spin chuck 10.例文帳に追加

スピンチャック１０により保持されたウエハＷの表面に対して、プッシュプルプレート２を対向配置する。 - 特許庁

The spin accumulation sensor has a three-terminal design that allows a free layer to be provided on an air bearing surface.例文帳に追加

自由層をエアベアリング面に設けることを可能にする三端子設計を有するスピン蓄積センサ。 - 特許庁

By using pressure of N2 gas, the material solution is spin-coated on a surface of a substrate 200 from a nozzle 110.例文帳に追加

Ｎ_2ガスによる圧力で、ノズル１１０から原料溶液を基板２００表面にスピン塗布する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 1 is equipped with: a spin chuck 4; a SC1 nozzle 5 for supplying SC1 having a high temperature (e.g. 80°C) toward a surface of a wafer W held by the spin chuck 4; a vapor nozzle 6 for supplying water vapor to the surface of the wafer W held by the spin chuck 4; and a cup 8 accommodating the spin chuck 4.例文帳に追加

この基板処理装置１は、スピンチャック４と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に向けて、高温（たとえば８０℃）のＳＣ１を供給するためのＳＣ１ノズル５と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に水蒸気を供給するための蒸気ノズル６と、スピンチャック４を収容するカップ８とを備えている。 - 特許庁

An upper end of a process cup 40 enclosing a periphery of the spin base 21 is placed lower than a holding surface 21a of the spin base 21 and a cleaning liquid is supplied from a discharge head 31 to the holding surface 21a while the spin base 21 is being rotated at a speed ranging from 250 rpm to 350 rpm (a first rotation number).例文帳に追加

スピンベース２１を２５０ｒｐｍ〜３５０ｒｐｍ（第１の回転数）にて回転させつつ、スピンベース２１の周囲を取り囲む処理カップ４０の上端をスピンベース２１の保持面２１ａよりも低くして吐出ヘッド３１から保持面２１ａに洗浄液を供給する。 - 特許庁

To prevent a rear surface of an applied surface where a coating liquid is applied by a spin coating method from being contaminated with the coating liquid more securely.例文帳に追加

スピン塗布法により塗布液が塗布される塗布面の裏面がその塗布液により汚染されることをより確実に防止すること。 - 特許庁

The die attach paste application means is a spin-coating means (30A) for spin-coating the die attach paste supplied to the rear surface of the wafer, or a screen printing means (30B) which screen-prints the die attach paste on the rear surface of the wafer.例文帳に追加

ダイアタッチペースト塗布手段は、ウェーハの裏面に供給されたダイアタッチペーストをスピンコートするスピンコート手段（３０Ａ）であるか、またはダイアタッチペーストをウェーハの裏面にスクリーン印刷するスクリーン印刷手段（３０Ｂ）である。 - 特許庁

A spin-on-glass film is applied on the wafer 120, and a spin-on-glass solvent is jetted in a sealed vessel containing the wafer 120 for the vapor of solvent to be saturated in the vessel, and the wafer 120 is so rotated that the spin-on-glass film redissolves for flattened the surface of the spin-on-glass film.例文帳に追加

ウェーハ１２０上にスピンオングラス膜を塗布して、ウェーハ１２０を含む密閉された容器内にスピンオングラス溶剤を噴射して、溶剤の蒸気が容器内に飽和されるようにし、ウェーハ１２０を回転させてスピンオングラス膜が再溶解されるようにし、スピンオングラス膜の表面を平坦化させる。 - 特許庁

A substrate processing apparatus is equipped with a spin chuck 2, that holds a substrate 1 for rotation, a motor 3 which rotates with the spin chuck 2, a processing liquid feed nozzle 7 which feeds a processing liquid onto the surface of the substrate 1 which rotates as hold by the spin chuck 2, and a speed change gear 4 which links the spin chuck 2 to the motor 3.例文帳に追加

基板処理装置は、基板１を保持した状態で回転するスピンチャック２と、このスピンチャック２を回転駆動するためのモータ３と、スピンチャック２に保持されて回転する基板１の表面に処理液を供給するための処理液供給ノズル７と、スピンチャック２とモータ３を連結する変速機４とを備える。 - 特許庁