「surface spin」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

A lightly-doped film 4 is formed on the heavily-doped film 3, by applying a dispersing agent with a dopant concentration which is lower than that of the earlier applied dispersant agent onto the entire light-receiving surface of the silicon substrate 1 by using a spin coating process.例文帳に追加

シリコン基板１の受光面全体にスピンコートによって、先に塗布した拡散剤よりもドーパント濃度の低い拡散剤を塗布して、低濃度膜４を高濃度膜３に重ねて形成する。 - 特許庁

To provide a tunnel junction element capable of implanting a carrier with a high spin polarization rate into a semiconductor layer exposed to air even if a tunnel insulation film is formed on a surface of the semiconductor layer.例文帳に追加

大気に曝した半導体層の表面上にトンネル絶縁膜を形成した場合であっても、半導体層にスピン偏極率の大きなキャリアを注入できるトンネル接合素子を提供すること。 - 特許庁

To reduce droplets that remain on a substrate so as to suppress the heating unevenness caused by droplets or watermarks, for example, during heat processing after exposure when carrying out spin cleaning of the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の表面をスピン洗浄するにあたり、基板上に残存する水滴を低減し、例えば露光後の加熱処理時における水滴あるいはウオータマークによる加熱むらを抑えること。 - 特許庁

A first chemical liquid L1 is supplied to the surface of a substrate, while the substrate is retained on a spin-chuck to rotate, and the substrate is subjected to chemical treatment with the 1st chemical liquid L1 for a prescribed treatment time T1.例文帳に追加

スピンチャック上に基板を回転保持させた状態で、基板表面に第１の薬液Ｌ1 を供給し、第１の薬液Ｌ1 による薬液処理を所定の処理時間Ｔ1 の間行う。 - 特許庁

The solution for forming a luminescent layer 83 is applied to the entire surface while covering the hole injection layer 81 and the barrier rib 7 using a spin coat method capable of obtaining a film pressure more uniform than the liquid-droplet discharge method.例文帳に追加

そして、発光層８３の溶液は、液滴吐出法よりも均一な膜圧が得られるスピンコート法を用いて、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って全面に塗布される。 - 特許庁

Then, by rotating the turntable by a spin motor at a prescribed rotary speed, the photoresist is extended toward the outer peripheral parts of the surface of the substrate and is formed into a thick film, such as a thick film of 10 μm or thicker.例文帳に追加

ついで、スピンモータによりターンテーブルを所定の回転速度で回転させることにより、フォトレジストを基板表面の外周部に向けて広げ、例えば厚み１０μｍ以上の厚膜に成膜する。 - 特許庁

The processing liquid is supplied from the side upper part of the wafer W held by a spin chuck 1 to a predetermined processing liquid supply position on the upper surface of the wafer W at the same incident angle.例文帳に追加

スピンチャック１に保持されたウエハＷの斜め上方からウエハＷの上面の予め定める処理液供給位置に同じ入射角で処理液を供給できるようにされている。 - 特許庁

Faults or impurities existing at the region near the surface of a semiconductor can be evaluated with high sensitivity, by conducting current detection electron spin resonance measurement using this p-n junction diode for evaluation.例文帳に追加

この評価用ｐｎ接合ダイオ−ドを用いて電流検知電子スピン共鳴測定を行うことによって、半導体表面付近に存在する欠陥や不純物の高感度な評価が可能になる。 - 特許庁

A peelable material 25 is formed on the whole surface of a sealing film 10 including the solder balls 11 so that thickness becomes larger than heights of the solder balls 11 by a printing method and a spin coating method.例文帳に追加

印刷法やスピンコート法等により、半田ボール１１を含む封止膜１０の表面全体に可剥離性材料２５をその厚さが半田ボール１１の高さよりも厚くなるように形成する。 - 特許庁

The retention device 2 for spin coating has a frame 21, a plate spring member 22 fixed to the inner peripheral surface 21A of the frame 21 and retaining sections 23 arranged in series on the plate spring member 22 and retaining a lens L.例文帳に追加

スピンコート用保持具２は、フレーム２１と、このフレーム２１の内周面２１Ａに固定された板ばね部材２２と、板ばね部材２２に一連に設けられレンズＬを保持する保持部２３とを備えている。 - 特許庁

In a state wherein the shield plate 3 is disposed opposite the surface of the wafer W held with the spin chuck 2, the nitrogen gas is supplied to between the wafer W and shield plate 3 from the nitrogen gas discharge port 15.例文帳に追加

遮断板３がスピンチャック２に保持されたウエハＷの表面に対向配置された状態で、窒素ガス吐出口１５からウエハＷと遮断板３との間に窒素ガスが供給される。 - 特許庁

To provide a vehicle capable of securely preventing wheel spin when accelerating by speedily controlling torque for a driving wheel with the optimum slide rate always even if a road surface condition is changed.例文帳に追加

路面状態が変化しても常に最適な滑り率で駆動輪に対するトルクを迅速に制御できるようにして、加速時におけるホイールスピンをより確実に防止することができる車両を提供する。 - 特許庁

Further, in a state wherein the shield plate 3 is disposed opposite the surface of the wafer held with the spin chuck 2, the silylation agent is supplied to between the wafer W and shield plate 3 from the silylation agent nozzle 11.例文帳に追加

また、遮断板３がスピンチャック２に保持されたウエハＷの表面に対向配置された状態で、シリル化剤ノズル１１からウエハＷと遮断板３との間にシリル化剤が供給される。 - 特許庁

To reduce a run of a hit golf ball by increasing a hitting angle while maintaining the amount of spin of the golf ball in an iron golf club head with a face surface for hitting the golf ball.例文帳に追加

ゴルフボールを打撃するフェース面を備えるアイアンゴルフクラブヘッドにおいて、ゴルフボールのスピン量を維持したまま、打ち出し角度を増大させることによって、打球されたゴルフボールのランを少なくする。 - 特許庁

A preliminary process for forming a resin layer 35a by spin- coating a resin agent 35 before forming a support structure of an optical element on a surface 34a of a sacrifice layer 34 for forming an actuator 6 is provided.例文帳に追加

アクチュエータ６を形成するための犠牲層３４の表面３４ａに光学素子のサポート構造を成形する前に、樹脂剤３５をスピンコートして樹脂層３５ａを形成する準備工程を設ける。 - 特許庁

In the method for manufacturing the optical recording medium for forming a resin layer 2A by spin-coating the surface of a disk-like substrate 1 with a resin material, that is an ultraviolet-light reaction curing resin 2, a substrate in a shape, where the outer periphery surface forms an acute angle to a surface coated by the resin material is used as the substrate 1.例文帳に追加

円盤状の基板１の表面に紫外光反応硬化型樹脂２である樹脂材料をスピンコートし、樹脂層２Ａを形成する光記録媒体の製造方法において、前記基板１として、前記樹脂材料でコートする表面に対して外周面が鋭角をなす形状の基板を使用する。 - 特許庁

A step for applying polymer solution on a substrate having irregularities on the surface by using a spin coat method, a step for curing the polymer solution applied on the surface of the substrate, thereby obtaining a resin film, and a step for peeling the resin film from the substrate are performed.例文帳に追加

表面に凹凸構造を有する基板上に、スピンコート法を用いてポリマー溶液を塗布する工程と、基板表面に形成されたポリマー溶液を硬化させて樹脂フィルムとする工程と、樹脂フィルムを前記基板から剥離する工程とを設ける。 - 特許庁

In a method of coating a photoresist, the photoresist of a viscosity of 1.4 Pa.s or higher or 1.6 Pa.s or lower is housed in a container, and the photoresist is poured on the surface of a substrate set on a turntable on a spin coater in an empty weight through a pourer so that the photoresist is not splashed on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板表面に粘度１．４Ｐａ・ｓ以上、１．６Ｐａ・ｓ以下のフォトレジストを容器に収容し、スピンコータのターンテーブルにセットした基板の表面に上記フォトレジストを注ぎ口から自重で、かつ基板表面での跳ね返りが生じないように注ぐ。 - 特許庁

In the resist film forming method in micromachining fields of the semiconductor device and the semiconductor manufacturing photomask, the surface of the substrate is pre-coated with resist the thickness of which is 1/5 or smaller than that which is a final target or 30 nm or smaller by spin coating method and is coated with resist with the film thickness which is the final target by the spin coating method.例文帳に追加

半導体デバイスや半導体製造用フォトマスク等の微細加工分野におけるレジスト膜の形成方法において、基板表面に、最終目標の膜厚の１／５以下、もしくは膜厚３０ｎｍ以下のレジストを、スピンコート法でプレコートした後、引き続いて、最終目標の膜厚のレジストをスピンコート法で本コートする。 - 特許庁

In the spin coating method, when coating an ultraviolet curing resin on a disk and performing spin coating, by partially irradiating the outer peripheral part with a halogen lamp, partially changing the surface temperature of the disk by the heat and lowering the viscosity of the resin, resin thickness distribution is uniformized and then ultraviolet curing is performed.例文帳に追加

ディスクに紫外線硬化樹脂を塗布し、スピンコートする際、外周部にハロゲンランプを部分的に照射し、その熱によりディスクの表面温度を部分的に変え樹脂の粘性を低くすることにより樹脂膜厚分布を均一にした後紫外線硬化することを特徴とするスピンコーティング方法及びその方法で製造された光ディスク。 - 特許庁

To eliminate accurate alignment of rotary direction between a spin chuck and a substrate, when carrying and fitting a substrate in a configuration where the spin chuck for retaining the substrate and rotating it for performing treatment onto the surface is supported only at the peripheral part of the reverse side of the substrate, to prevent a main part inside the reverse side from being contaminated, scratched, or the like.例文帳に追加

基板Ｗを保持してその表面に処理を行うために回転するスピンチャックを基板Ｗの裏面の周辺部のみを支持して裏面の内部の主要部分に汚れ、キズ等をつけないように構成したものにおいて、基板Ｗの搬送装着に際してのスピンチャックと基板Ｗとの回転方向の高精度な位置合わせを不要とする。 - 特許庁

The substrate-treating device comprises: a spin chuck for holding a substrate W for rotation; a treatment liquid nozzle 15 for supplying a treatment liquid to the substrate W; and a shielding plate 10 that opposes the upper surface of the substrate W.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Ｗを保持して回転するためのスピンチャックと、基板Ｗに処理液を供給するための処理液ノズル１５と、基板Ｗの上面に対向する遮断板１０とを備える。 - 特許庁

Namely, the hot water is supplied to the central part of the surface of the wafer W from a DIW nozzle 4 while the wafer W is rotated at a speed of of 300-1,500 rpm by means of a spin chuck 1.例文帳に追加

すなわち、スピンチャック１によってウエハＷが３００〜１５００ｒｐｍの回転速度で回転される一方で、その回転中のウエハＷの表面の中央部にＤＩＷノズル４から温水が供給される。 - 特許庁

Such a film can be formed by a spin coat method, so that a flat film can be formed on its surface, and a hydrogen barrier film 22 formed thereon is made uniform in thickness sufficient to keep hydrogen diffusion blocking performance.例文帳に追加

このような膜はスピンコート法で形成できるので容易にその表面が平坦な膜が得られ、従ってその上に形成される水素バリア膜２２の膜厚も一様となって水素拡散阻止能力が維持できる。 - 特許庁

To provide a flattened film-forming composition suppressing generation of striation of a film surface and forming a flattened film with excellent flatness in a coating by spin coating without using a surfactant.例文帳に追加

界面活性剤を用いることなく、スピンコーティングによる塗布において、膜表面のストリエーションの発生を抑え、また、平坦性に優れた平坦化膜を形成する平坦化膜形成用組成物を提供すること。 - 特許庁

To suppress roughness of a surface of a semiconductor layer, when manufacturing an SOI(spin-on-insulator) substrate by bonding a base substrate and a bond substrate together, while effectively utilizing a region where the bonding strength is reduced.例文帳に追加

ベース基板とボンド基板とを貼り合わせてＳＯＩ基板を作製する際の半導体層の表面の荒れを貼り合わせ強度の低下する領域を有効に活用しつつ抑制することを目的の一とする。 - 特許庁

A lyophilic part and a liquid-repellant part are formed in a prescribed pattern by using an organic film (14) on a substrate surface, and a functional thin film (13) is formed selectively in a lyophilic part on the substrate by a spin coating method.例文帳に追加

基板表面に有機分子膜（１４）を用いて、親液部と撥液部とを所定のパターンに形成するとともに、スピンコート法により前記基板上の親液部に選択的に機能性薄膜（１３）を形成する。 - 特許庁

A spin coater 1 drops a coating liquid from a nozzle 4 on the upper surface of a substrate 2 held on the main shaft of a rotation mechanism 3 and applies the coating liquid by actuating the mechanism 3 to rotate the substrate 2 at a high speed.例文帳に追加

スピンコータ１は、回転機構３の主軸に保持された基板２の上面にノズル４から塗布液を滴下し、回転機構３を作動させて基板２を高速回転させることにより塗布処理を行う。 - 特許庁

To provide a production method of a molding having a fine pattern formed accurately on the surface by holding a photopolymerizable composition formed in the shape of a thin film by spin coating.例文帳に追加

表面に微細パターンを有する成型体の製造方法において、スピンコート法等により薄膜に形成された光重合性組成物を保持し、精度よく微細パターンを有する成型体を製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide an encapsulating resin composition for pre-application purposes, which can be formed into a coating film having a uniform thickness when applied onto the surface of a semiconductor wafer by a spin coat method, and which can be used in wafer level underfill methods.例文帳に追加

スピンコート法により半導体ウェハー表面に塗布した場合において、厚みが均一な塗布膜を形成可能な、ウェハレベルアンダーフィル工法に用いられるプリアプライド用封止樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A undoped silicate glass(USG) film 26 is made to cover aluminum wiring 24 arranged on a field oxide film 22, and an organic SOG(spin-on- glass) layer 28 which is apt to be thick is made in the recess on the surface of the USG layer 26.例文帳に追加

フィールド酸化膜２２上に配置されたアルミ配線２４を覆うようにＵＳＧ層２６を形成し、ＵＳＧ層２６の表面の凹部に、厚肉を形成しやすい有機ＳＯＧ層２８を形成する。 - 特許庁

This quick connector includes a holding member having a first end part spin-welded to the inner surface of a hole formed in the tip part of a first conduit after a sealing member is provided on the end part of the first conduit.例文帳に追加

封止部材が第１の導管の端部部分に設けられた後に、第１の導管の端部部分に形成された孔の内面にスピン溶接された第１の端部部分を有する保持部材を備えている。 - 特許庁

To provide a sealing resin composition for pre-application, which can be formed into a coating film having a uniform thickness when applied onto the surface of a semiconductor wafer by a spin coat method, and which can be used in wafer level underfill methods.例文帳に追加

スピンコート法により半導体ウェハー表面に塗布した場合において、厚みが均一な塗布膜を形成可能な、ウェハレベルアンダーフィル工法に用いられるプリアプライド用封止樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

By this the next shower rinsing operation is done to the laundry in a loose state as the laundry huddled up on the inner periphery surface of the rotary tank during the spin-drying operation is loosen by the agitating power of a pulsator during the agitating operation.例文帳に追加

このため、脱水運転時に回転槽の内周面にかたまった洗濯物が撹拌運転時にパルセータの撹拌力でほぐれるので、洗濯物がほぐれた状態で次のシャワーすすぎ運転が行われる。 - 特許庁

To provide a spin coater for ensuring to close the top of an outer cup with an outer cup lid with the upper surface of an inner cup closed by an inner cup lid, by allowing the outer cup lid always to be free in up and down direction.例文帳に追加

基板の大型化に伴って回転塗布装置が大型化すると蓋体の閉塞性維持が困難になり、塗布液の使用量の増大により回収・排出が難しくなり、外気が浸入し易くなる。 - 特許庁

A wafer W is held horizontally by a spin chuck 1, and SPM (sulfuric acid/hydrogen peroxide mixture) is supplied from an SPM nozzle 2 to the surface of the wafer W while the wafer W is rotated at 100 rpm.例文帳に追加

スピンチャック１によってウエハＷを水平に保持し、そのウエハＷを１００ｒｐｍで回転させながら、ＳＰＭノズル２からウエハＷの表面にＳＰＭ（sulfuric acid／hydrogen peroxide mixture：硫酸過酸化水素水）を供給する。 - 特許庁

While a substrate W held nearly horizontally with a spin chuck 1 is rotated, pure water heated to ≥70°C, or warm water, is supplied to the back surface Wb of the substrate, and pure water dissolved with nitrogen in a supersaturated stage is supplied to the front surface Wf of the substrate as treating liquid.例文帳に追加

スピンチャック１に略水平に保持された基板Ｗを回転させた状態で、基板裏面Ｗｂに対して摂氏７０度以上に加熱された純水（温水）を供給する一方で、基板表面Ｗｆに対して窒素が過飽和に溶解された純水を処理液として供給する。 - 特許庁

A treater is constituted in a structure that an LCD substrate G received from a main arm 10a is held by a spin chuck 21 and after a developing liquid is fed to the surface of the substrate G, the substrate G is rotated, and at the same time a rinsing liquid is fed to the surface of the substrate G to perform a rinsing treatment of the substrate G.例文帳に追加

メインアーム１０ａから受け取ったＬＣＤ基板Ｇをスピンチャック２１により保持し、ＬＣＤ基板Ｇの表面に現像液を供給した後、ＬＣＤ基板Ｇを回転させると共に、ＬＣＤ基板Ｇの表面にリンス液を供給してリンス処理を行う。 - 特許庁

Above the spin chuck 1, a nozzle 2 for supplying sulfuric acid to the surface of the substrate W, a soft spray nozzle 3 for supplying a jet of droplets of oxygenated water to the surface of the substrate W, and a ultrasonic type distance measuring sensor 4 are movably set.例文帳に追加

スピンチャック１の上方には、基板Ｗの上面に硫酸を供給するためのノズル２と、基板Ｗの上面に過酸化水素水の液滴の噴流を供給するためのソフトスプレーノズル３と、超音波式距離測定センサ４とが移動可能に設けられている。 - 特許庁

A hydrophilic front surface and a hydrophobic front surface are intermingled on the inner wall surface of a top side cup 24 of a part of the cup 16 held by a spin chuck 10 to which the treatment liquid scattered from above the substrate collides with the cap and surrounds the side and the lower side of the rotating substrate W.例文帳に追加

スピンチャック１０に保持されて回転する基板Ｗの側方および下方を取り囲むように配設され基板上から周囲へ飛散する処理液を回収するためのカップ１６の、基板上から飛散した処理液が衝突する部分である上側カップ部２４の内壁面に親水性表面と疎水性表面とを混在させた。 - 特許庁

In forming a light absorbing layer 6 on a rise surface 5 of a Fresnel lens sheet 1 made by arranging a number of tooth-shaped Fresnel lenses comprising a Fresnel lens surface 4 playing a role of a convex lens and the rise surface 5 placed between the neighboring Fresnel lens surfaces 4, the method for manufacturing the Fresnel lens sheet is characterized by applying a light absorbent containing a dyestuff by a spin coating method.例文帳に追加

凸レンズの機能を奏するフレネルレンズ面４と、隣り合うフレネルレンズ面４の間に位置するライズ面５とによって構成された鋸歯状のフレネルレンズが多数配列されたフレネルレンズシート１のライズ面５に光吸収層６を形成するにあたり、染料を含む光吸収剤をスピンコート法によって塗付することを特徴とする。 - 特許庁

Liquid 8 is filled between the inner wall of the liquid storage tank 2 and the outer surface of the bag member 1, and is supplied to a spin coat (not shown in Figure) via the liquid discharge port 3 by varying the air pressure in the bag member 1.例文帳に追加

液体８は、液体貯蔵タンク２の内壁面と袋部材１の外表面との間に充填され、袋部材１内の気圧を変化させることで液体排出口３を介して図示しないスピンコートへ供給される。 - 特許庁

Selection of a polishing stop layer (formed on a surface of low k dielectrics), which has permittivity nearly equal to that of dielectrics positioned below is enabled by using spin coating, so that effective permittivity of an obtained structure is not significantly increased.例文帳に追加

スピン・コーティングの使用により、下にある誘電体とほぼ等しい誘電率を有する研磨停止層（低ｋ誘電体の表面に形成される）の選択が可能になるので、得られる構造の有効誘電率は著しくは増加しない。 - 特許庁

A cooling gas jet nozzle 3 for jetting a cooling gas against a substrate W, held on a spin base 23 and having a liquid film formed on the surface is scanned, thereby freezing the liquid film to remove the particles etc.例文帳に追加

スピンベース２３上に保持され、表面に液膜を形成されて回転する基板Ｗに対し、冷却ガスを吐出する冷却ガス吐出ノズル３をスキャンすることにより液膜を凍結させてパーティクル等を除去する。 - 特許庁

After a spin tunnel magnetoresistive effect film 110 composed of a first magnetic film 111, a tunnel film 112, and a second magnetic film 113 is formed on a substrate 101, a resist film 102 having a desired shape is formed on the top surface of the film 110.例文帳に追加

基板１０１上に第１の磁性膜１１１、トンネル膜１１２、および第２の磁性膜１１３からなるスピントンネル磁気抵抗効果膜１１０を成膜し、その上面に所望の形状をしたレジスト膜１０２を形成する。 - 特許庁