「surface spin」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To realize a web developing mechanism without disordering an array of strands without releasing the strands from the cylindrical web when a spin ning head is rotated inside the web, the strands are laminated on an inside surface of the web, and the laminate is developed from the cylindrical shape to a planar shape.例文帳に追加

円筒形状のウェブの内側で紡糸ヘッドを回転させてウェブの内側面にストランドを積層してから積層体を円筒形状から平面形状に展開する際に、ウェブからストランドが剥離することなく、ストランドの配列を乱すことのないウェブ展開機構を実現する。 - 特許庁

However, a surface-roughed section comprising irregular parts is present on both the surfaces 16B, 16C of the rubber material 16, and the base plate 14, the rubber material 16, the weight 18, the magnetic field generation member 20, and the spin valve type GMR element 22 are stored in a magnetic shield cap 30.例文帳に追加

但し、ゴム材１６の両表面１６Ｂ、１６Ｃそれぞれに、凹凸部分により構成される粗面部が存在し、これらベースプレート１４、ゴム材１６、錘１８、磁場発生部材２０及びスピンバルブ型ＧＭＲ素子２２が磁気シールドキャップ３０に収納されている。 - 特許庁

To decrease the liquid stagnation of a coating agent occurring on the edge of a substrate and to obtain a substrate body having a coating layer with excellent uniformity in film thickness when a coating agent containing a photochromic compound is applied onto the substrate surface in ≥10 μm film thickness by spin coating.例文帳に追加

フォトクロミック化合物を含むコーティング剤をスピンコートで基材表面に膜厚が１０μｍ以上となるように形成する場合に、基材周縁部に生じるコーティング剤の液溜まりを低減させ、膜厚の均一性に優れたコーティング層を有する基材を得る。 - 特許庁

To provide a resist coating method by a spin coating method, capable of coating a resist onto a wafer surface having a sharp end shape without doing an additional processing such as a chamfer processing at the end part, without generating an uncoated part or an extremely thin portion of resist up to the outermost peripheral part of the wafer.例文帳に追加

鋭利な端部形状を有するウェハーの面に、その端部に面取り加工などの追加加工を施さないで、ウェハーの最外周部までレジストの未塗布部や極めて薄い部分を発生させることなくレジストを塗布することができる、スピンコート法によるレジスト塗布方法を提供する。 - 特許庁

Then, immediately before the developer is supplied to the wafer held on the upper surface of the spin chuck, the predetermined voltage is applied to the electrode board and the electrode board is charged with the same polarity as that of the ζ-potential of the insoluble substances which precipitate in the developer by the supply of the developer or the like.例文帳に追加

そして，スピンチャック上面に保持されたウェハに現像液が供給される直前に，前記電極板に所定の電圧を印可し，現像液の供給等により現像液中に析出する不溶化物のゼータ電位と同じ極性に前記電極板を帯電する。 - 特許庁

If the disk substrate 12 is rotated together the dummy substrate 48 by rotating the turntable 34 in such state of the dummy substrate 48, the adhesive 24 is extended to an outer peripheral side of the disk substrate 12 by a centrifugal force and filled into a cavity between the plate face 58 and the set surface 50 to be spin-coated on the plate face 58.例文帳に追加

その状態でターンテーブル３４の回転によりディスク基板１２をダミー基板４８とともに回転させると、接着剤２４が遠心力でディスク基板１２外周側に延展し、板面５８とセット面５０との間の空隙内に充填させて板面５８上にスピンコートされる。 - 特許庁

In a process of executing development processing for an exposed resist film formed on the surface of a substrate W, a developing liquid mixed with a hydrophobing agent is supplied from a development liquid supply nozzle 28 onto the resist film, and the resist film is subjected to rinse processing, after the development processing and spin-dried.例文帳に追加

基板Ｗの表面に形成された露光後のレジスト膜を現像処理する工程において、現像液供給ノズル２８から疎水化剤が混合された現像液を基板表面のレジスト膜上へ供給し、現像処理後にリンス処理しスピン乾燥する。 - 特許庁

A light shielding resist layer 2 is applied to the surface of glass board material 1 by a spin coating, and is irradiated with patterning light through a predetermined photomask to be exposed, then a photosensitive area of the light shielding resist layer 2 is dissolved by a solvent, developed and baked, thereby forming the light shielding resist layer 2 having a predetermined pattern.例文帳に追加

ガラス基材１の表面に遮光レジスト層２をスピンコートによって塗布し、所定のフォトマスクによってパターン光を照射して感光させ、遮光レジスト層２の感光領域を溶剤で溶解して現像し、ベーキングして所定のパターンを有する遮光レジスト層２を形成する。 - 特許庁

Therefore, a small amount of laundry such as a piece of bath towel or bedding sheet has opportunity to spread and stick to the inner peripheral surface of the drum to balance the drum rotation load, so that rotation speed of the drum is increased and spin-drying and drainage performance is improved.例文帳に追加

これにより、一枚のバスタオルやシーツなどの少量の洗濯物がドラムの内周面部に広がって張り付く機会が多くなり、ドラム回転荷重の平衡化ができやすくなるから、ドラムの回転速度が上がりやすくなって、脱水乗り切り性能を良くすることができる。 - 特許庁

A sidewall layer, that is made of highly resistant oxide, nitride, fluoride, boride, sulfide, or carbide having mirror reflection effect with respective to conduction electrons, is provided to the side surface of at least a magnetized adherence layer and a non-magnetic intermediate layer in a magnetoresistance effect film, thus preventing inelastic scattering of electrons or loss of spin information on the side surface of the magnetoresistance effect film.例文帳に追加

磁気抵抗効果膜のうちの少なくとも磁化固着層と非磁性中間層の側面に伝導電子に対する鏡面反射効果を有する高抵抗な酸化物、窒化物、フッ化物、ホウ化物、硫化物あるいは炭化物からなる側壁層を設けることにより、磁気抵抗効果膜の側面での電子の非弾性散乱やスピン情報の喪失を防ぐことができる。 - 特許庁

This handling mechanism 52 has a box-shaped substrate support member 54 with its lower surface opened, a rotary drive part 58 for carrying out the spin revolution of this substrate support 54 integrally with a perpendicular supporting shaft 56, and a vertical movement drive part 60 for carrying out the vertical movement of this rotary drive part 58 or the substrate support member 54.例文帳に追加

このハンドリング機構５２は、下面の開口した箱型の基板保持体５４と、この基板保持体５４を垂直支持軸５６と一体にスピン回転させるための回転駆動部５８と、この回転駆動部５８ないし基板保持体５４を昇降移動させるための昇降駆動部６０とを有している。 - 特許庁

When a thin film is formed by using the spin coat method on the surface of the disk substrate 10 having a circular aperture 10a formed at the center thereof and fitting to a spindle of a disk substrate, the aperture 10a provided at the center of the disk substrate 10 is closed by sticking a sticker 12 to the disk substrate.例文帳に追加

中心にディスク装置のスピンドルに嵌合する円形開口１０ｂが形成されたディスク基板１０の表面に、スピンコート法を用いて薄膜を形成する場合に、まずディスク基板１０の中央に設けられた円形開口１０ａをシール１２をディスク基板に貼り付けることにより閉塞する。 - 特許庁

The surface layer of a silicon oxide film 37 including the inside of a groove 38 is spin-coated with a solution containing Ru as a main composition, it is dried at about 600 to 700°C, a seed layer 39 constituted of the Ru is formed, and an Ru film is deposited by a CVD method while the seed layer 39 is used as a seed.例文帳に追加

溝３８の内部を含む酸化シリコン膜３７の上層にＲｕを主成分として含む溶液を回転塗布した後、６００〜７００℃程度で乾燥させることでＲｕによって構成されるシード層３９を形成し、続いてシード層３９を種にＣＶＤ法でＲｕ膜を堆積する。 - 特許庁

A interrupting member 70 having a horizontally disposed opposite surface opposite to a wafer W is provided on an upper position than an organic solvent component supply port 69a movable from a center position of the wafer W toward its circumferential portion in an upper part of the wafer W held in a spin chuck 1.例文帳に追加

スピンチャック１に保持されたウエハＷの上方において、ウエハＷの中心位置から周縁部に向けて移動させることができる有機溶剤成分供給口６９ａよりも上方位置に、ウエハＷに対向する対向面がほぼ水平に配置された遮断部材７０が設けられる。 - 特許庁

When a coating agent containing a photochromic compound is applied by spin coating in ≥10 μm film thickness onto the surface of a substrate, a liquid stagnation of the coating agent on the edge of the substrate is removed by bringing a spatula into contact with the edge of the substrate or by fitting a ring to the substrate.例文帳に追加

基材表面にフォトクロミック化合物を含むコーティング剤をスピンコートにより膜厚が１０μｍ以上のコーティング層となるように被覆する際に、基材周縁部に生じるコーティング剤の液溜まりを、ヘラを基材周縁部に当接させるか、基材にリングを勘合させることによって除去する。 - 特許庁

The apparatus for treating the substrate comprises a spin chuck 58 for rotatably holding the substrate W, in a plane including its main surface, a motor 57 for rotatably driving the chuck, a circulating pump 64 for circulating a remover liquid and supplying the liquid to a first nozzle 41, and a heater 69 for heating the circulating liquid.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Ｗをその主面を含む平面内において回転可能に保持するスピンチャック５８と、スピンチャックを回転駆動するモータ５７と、除去液の循環と第１ノズル４１への除去液の送液とを行う循環ポンプ６４と、循環する除去液を加熱するためのヒータ６９とを備える。 - 特許庁

The base board placing unit 20 has a lower holding member 21 supported by a support shaft 31 of the spin shaft unit 30 and connected to the support shaft 31, a placing member 211 arranged on its surface, an upper holding member 22 positioned on one side of the placing member 211, and an expansion member 23 arranged between the respective holding members 21 and 22.例文帳に追加

基板載置ユニット２０は、スピン軸ユニット３０の支持軸３１に支持されており、支持軸３１と接続する下保持部材２１、その表面に設けられた載置部材２１１、載置部材２１１の片側に位置する上保磁部材２２、および各保持部材２１，２２間に設けられた伸縮部材２３を有する。 - 特許庁

A spin drum unit 370 rotatably equipped with a reel body 372B3 having a plurality of pictures on the outer circumferential surface thereof is detachably installed into a table type cabinet body 310 having a working opening 310C1 which is opened slightly inclinedly from the level and made openable and closeable with a lid body 320.例文帳に追加

水平面に対して若干傾斜する状態に開口し蓋体３２０にて開閉可能な作業開口３１０Ｃ１を有したテーブル型の筐体３１０内に、外周面に複数の絵柄を有したリール本体３７２Ｂ３を回転可能に備えた回胴ユニット３７０を着脱可能に配設する。 - 特許庁

The ball pitching machine comprises: a pneumatic tire having a diameter of less than about 13 inches, the pneumatic tire having reinforced sidewalls and a reinforced, substantially flattened pitching surface; and a spinning mechanism to spin the pneumatic tire at greater than about 3,500 rotations per minute ("rpm").例文帳に追加

本発明のボールピッチングマシンは：約１３インチ未満の直径を持つ空気タイヤであって、前記空気タイヤは強化された側壁及び強化され、実質的に平坦なピッチング表面を持つ空気タイヤと、約３５００回転／分（「ｒｐｍ」）を超える回転速度で前記空気タイヤを回転させるための回転機構とを含む。 - 特許庁

A water flow disturbing part 18 is provided between the bottom of the inner surface of the washing/spin-drying drum and the lower part of the pulsator 2, and the rotation of the pulsator 2 by the motor makes the flow of the washing water collide with the water flow disturbing part 18 to produce a vertical flow to the washing water and disturb the washing.例文帳に追加

洗濯兼脱水槽１７の内面の底面とパルセータ２の下方との間に水流撹乱部１８を設け、モータ６によるパルセータ２の回転によって、水流撹乱部１８に洗濯液の流れを衝突させ、洗濯液に上下方向の流れを起こし、洗濯液を撹乱するように構成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the solid substrate for the sensor having the coating film on the surface comprises forming the film by rotating the substrate to be formed with the film under the atmosphere of ≥50 to ≤100% in coating solvent vapor pressure with respect to the saturated pressure in spin coating, thereby forming the coating liquid on the substrate to be formed with the film as a thin film.例文帳に追加

スピンコート塗布において、塗布溶剤蒸気圧が飽和蒸気圧に対して５０％以上１００％以下の雰囲気内で被製膜基板を回転することによって、被製膜基板上の塗布液を薄膜化して製膜する、表面に被膜を有するセンサー用固体基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a radiation curing resin composition for DVD adhesive which has viscosity suitable for an application method such as a spin coating method before curing and which generates no warp and has small water absorbance, high rigidity (Young's modulus), and superior surface flatness, under wet and hot environment when mounted on a vehicle or the like after curing.例文帳に追加

硬化前の状態でスピンコート等の塗布方法に好適な粘度を有し、かつ、硬化後には、自動車に搭載する用途等における湿熱環境下において、反りを生じず、吸水性が小さく、剛性（ヤング率）が高く、表面平滑性に優れるＤＶＤ接着剤用放射線硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

This method for attaching the organic film to the substrate comprises a step (a) of fixing a filmy organic material 12 on a fixing stage 11, a step (b, c) of spin coating an adhesive 13 on the filmy organic material 12, a step (a) of fixing a substrate 14 to the surface coated with the adhesive 13 and a step (d) of curing the adhesive 13.例文帳に追加

膜状の有機材料１２を固定ステージ１１上に固定する工程（ａ）と、膜状の有機材料１２の上に接着剤１３を回転塗布する工程（ａ）と、接着剤１３を塗布した面に基板１４を固定する工程（ｂ、ｃ）と、接着剤１３を硬化させる工程（ｄ）からなる。 - 特許庁

The spin drum unit 370 rotatably equipped with the reel body 372B3 having a plurality of pictures on the outer circumferential surface is detachably installed into a table type cabinet body 310 having a working opening 310C1 which is opened slightly inclinedly from the level and made openable and closeable with a lid body 320.例文帳に追加

水平面に対して若干傾斜する状態に開口し蓋体３２０にて開閉可能な作業開口３１０Ｃ１を有したテーブル型の筐体３１０内に、外周面に複数の絵柄を有したリール本体３７２Ｂ３を回転可能に備えた回胴ユニット３７０を着脱可能に配設する。 - 特許庁

A spin drum unit 370 rotatably equipped with a reel body 372B3 having a plurality of pictures on the outer circumferential surface thereof is detachably disposed into a table type cabinet body 310 having a working opening 310C1 which is opened slightly inclinedly from the level and is made openable or closable with a lid body 320.例文帳に追加

水平面に対して若干傾斜する状態に開口し蓋体３２０にて開閉可能な作業開口３１０Ｃ１を有したテーブル型の筐体３１０内に、外周面に複数の絵柄を有したリール本体３７２Ｂ３を回転可能に備えた回胴ユニット３７０を着脱可能に配設する。 - 特許庁

The hydrogen peroxide gas is supplied to a two-fluid nozzle 6 and a sulfuric acid is concurrently supplied from a sulfuric acid supplier 2, and then a droplet jet flow of the mixed fluid of the hydrogen peroxide gas and the sulfuric acid is supplied from the two-fluid nozzle 6 to the surface of a wafer W held by a spin chuck 5.例文帳に追加

そして、その過酸化水素ガスが二流体ノズル６に供給されるとともに、硫酸供給部２から硫酸が供給されて、二流体ノズル６からスピンチャック５に保持されているウエハＷの表面に、過酸化水素ガスと硫酸との混合流体の液滴の噴流が供給される。 - 特許庁

To provide a method and a device for manufacturing an optical recording disk, capable of forming a good-surface light transmissive layer without involving air bubbles even when the light transmissive layer is formed by using a radiation curable resin such as the ultraviolet ray curable resin of high viscocity and spin-coating.例文帳に追加

粘度が高い紫外線硬化性樹脂などの放射線硬化性樹脂を用いて、スピンコーティングにより、光透過層を形成する場合にも、気泡の混入がなく、表面性に優れた光透過層を、所望のように、形成することができる光記録ディスクの製造方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a spin coater eliminating a problem that the chemical solution of the center part receiving no centrifugal force of a disk stagnates at the central part of the disk to thicken a coating film to uniformly apply the chemical solution to the surface of the disk and uniformizing the coating film on the disk as a whole to rearilize the enhancement of the thickness accuracy of the coating film and cost reduction.例文帳に追加

ディスクの表面に薬液を均一に塗布するスピンコーターにおいて、遠心力を受けない中心部の薬液がディスク中央部に停滞して塗布膜を厚くする問題を解消し、ディスク全体の塗布膜を均一にすることで、塗布膜厚さ精度の向上とコスト低減を実現するスピンコーターを提供する。 - 特許庁

The method of cleaning reflective photomask blanks 10 in which the conductive film is formed on one surface of a glass substrate and attractively held by the electrostatic chuck using the organic dielectric for the attractive holding surface is characterized in installing the mask blanks 10 in a spin cleaning apparatus 20 with the conductive film up and in cleaning the surface of the conductive film by supplying a 0.1 to 5 normal alkali metal hydroxide aqueous solution from a cleaning discharge port 23.例文帳に追加

ガラス基板の一方の面に導電膜が形成され、吸着保持面に有機系の誘電体を用いた静電チャックにより、該導電膜が吸着保持される反射型マスクブランクス１０の洗浄方法であって、マスクブランクス１０を導電膜を上にしてスピン式洗浄装置２０に設置し、洗浄吐出口２３より、０．１〜５規定のアルカリ金属水酸化物水溶液を供給して前記導電膜表面を洗浄することを特徴とする反射型マスクブランクスの洗浄方法。 - 特許庁

The spin coater is provided with: a rotary table 20 holding the substrate 1 in one direction and provided freely rotatable in the in-plane direction of the substrate 1; and a wall part 40 having a cylindrical shape having an inside diameter larger than the outside diameter of the substrate and arranged so that the upper end in the vertical direction is in a region opposed to the side surface of the substrate 1.例文帳に追加

基板１が一方面に保持されて当該基板１の面内方向に回転自在に設けられた回転テーブル２０を具備すると共に、前記基板１の外径よりも大きな内径の筒形状を有し、且つ鉛直方向上端が前記基板１の側面に相対向する領域となるように配置された壁部４０を具備する。 - 特許庁

The spin processor performing a processing by rotating a disc-like substrate is provided with: a rotary table 11; a plurality of holding members 18 with rotatably provided holding rollers 22 that are provided at predetermined intervals along a circumferential direction on this rotary table 11 and each holds the peripheral surface of the substrate, and a control motor 4 for rotating and driving the rotary table 11.例文帳に追加

円盤状の基板を回転させながら処理するスピン処理装置であって、 回転テーブル１１と、この回転テーブルに周方向に沿って所定間隔で設けられそれぞれに基板の外周面を保持する保持ローラ２２が回転可能に設けられた複数の保持部材１８と、上記回転テーブルを回転駆動する制御モータ４とを具備する。 - 特許庁

The panty hoses can be produced in large quantities through the following process without using ceramic fine particle-kneaded yarns frequently damaging a knitting machine: soaking the panty hoses in slurry containing the ceramic fine particles and water-soluble acrylic resin; washing the panty hoses with water to remove ceramics from its surface part; and subjecting the panty hoses to spin dry and hot-air drying.例文帳に追加

このようなパンティーストッキングは、セラミックス微粒子と水溶性アクリル樹脂を含むスラリにパンティーストッキングを浸漬し、水洗処理によって表面部分のセラミックスを除去し、脱水処理および熱風乾燥処理を経ることによって、編み機を損傷することの多いセラミックス微粒子練り込み糸を用いることなく大量生産することができる。 - 特許庁

The slurry is used as lead-free solder and applied on the surface of a wafer through a spin coating method, a spraying method, or a printing method.例文帳に追加

鉛を含まないＳｎ−Ｓｂ系やＳｎ−Ａｇ系のはんだ材の微粉末と、極性の弱いイソプロピルアルコール等の溶剤と、この溶剤に可溶で、かつ一端にカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）を有するコハク酸等の炭化水素化合物とを混合してスラリー状とし、これを鉛フリー化はんだ材として、スピンコーティング法、吹き付け法、ローラ塗布法、印刷法などによりウェハ表面に塗布する。 - 特許庁

An electroconductivity spin chuck comprises polyether ether ketone resin of 60-90 weight % and electroconductivity carbon fiber of 10-40 weight %, and has a specific volume resistance more than 100 Ωcm, a tensile strength more than 200 MPa, a bending strength more than 300 MPa, a bending elasticity more than 18 GPa, and a surface specific resistance of 106-1010 Ω.例文帳に追加

本発明に係る導電性スピンチャックは、ポリエーテルエーテルケトン樹脂６０〜９０重量％と、体積固有抵抗値１０^0 Ωcm以上の導電性カーボンファイバー１０〜４０重量％とからなり、引張強度２００MPa 以上、曲げ強度３００MPa 以上、曲げ弾性率１８GPa 以上、且つ、表面固有抵抗値が１０^6 〜１０^10Ωである。 - 特許庁

First, a first electrode structure 11 having the surface which forms at least two-height levels is formed on a substrate 1, a ferroelectric- material layer 13 having a variety of layer thickness is laminated on the first electrode structure 11 by spin coating, and in succession, a second electrode structure 12 is formed on the ferroelectric-material layer 13.例文帳に追加

まず、基板１上に、少なくとも２つの高さレベルを形成する表面を有する第１の電極構造体１１を形成し、該第１の電極構造体１１の上に、スピンコーティング法によって、層厚さ変化を有する強誘電体層１３を堆積させ、引き続き、該強誘電体層１３の上に第２の電極構造体１２を形成する。 - 特許庁

A wafer cleaning device 10 comprises a spin chuck 11 for holding a wafer W, a brush 30 having an elastic cleaning member 32 for cleaning the surface of the wafer W while contacted therewith, and a brush moving mechanism 20 for cleaning the cleaning member 32 in its retracted position.例文帳に追加

ウエハ洗浄装置１０は、ウエハＷを保持するスピンチャック１１と、ウエハＷの表面に接触して洗浄する伸縮性のある洗浄部材３２を有するブラシ３０と、ブラシ３０を基板処理位置と待避位置との間で移動させるブラシ移動機構２０と、待避位置において洗浄部材３２を洗浄するためのブラシ洗浄機構５０を具備する。 - 特許庁

A fluctuation detecting means 4 detects fluctuation of processing liquid flowing through a passage 31 for supplying the coating liquid to a nozzle 3 which supplies the processing liquid, e.g. the coating liquid, to the surface of a substrate, e.g. a wafer W, held on a substrate holding section, i.e. a spin chuck 2.例文帳に追加

基板保持部であるスピンチャック２に保持した基板例えばウエハＷの表面に処理液例えば塗布成膜用の塗布液を供給するための塗布液ノズル３に、この塗布液を供給する処理液供給路３１内を通流する処理液に揺らぎが有るか否かを揺らぎ検出手段４により検出する構成とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the spin injection source device performs a step for forming a CaF_2 film 2 by epitaxial growth while the clean surface of the Si substrate 1 is being heated, and a step for forming an Fe_3Si film 5 by a molecular beam epitaxy method for simultaneously applying Si 3 and Fe 4 onto the CaF_2 film 2 at 400°C.例文帳に追加

スピン注入源デバイスの製造方法において、Ｓｉ基板１の清浄表面を加熱した状態で、ＣａＦ_2 膜２をエピタキシャル成長により形成する工程と、次に、前記ＣａＦ_2 膜２上に４００℃でＳｉ３とＦｅ４を同時に照射する分子線エピタキシー法によりＦｅ_3 Ｓｉ膜５を形成する工程とを施す。 - 特許庁

The semiconductor chip with the coating film obtained by applying the sealing resin composition on the surface provided with the solder bump of a semiconductor wafer provided with the solder bump by a spin coating method to make a B-stage, and cutting the semiconductor wafer into individual pieces, is flip chip-mounted on the substrate through the solder bump, thereby the sealing resin layer is formed by the applied film.例文帳に追加

当該封止樹脂層は、半田バンプを備えた半導体ウェハーの該半田バンプを備えた表面上にスピンコート法により塗布しＢ−ステージ化し、当該半導体ウェハーを個片化することにより得られる塗布膜付き半導体チップを、半田バンプを介して基板にフリップチップ実装することにより該塗布膜から形成される。 - 特許庁

To provide a film-forming composition having a relatively low dielectric constant, high thermal stability, high mechanical strength and high glass transition temperature, preferably being applied by spin coating and forming a good interlayer insulation film by using a polymer dielectric material enabling to fill the gaps of a surface becoming flat and also patternized, and a method for forming the film.例文帳に追加

比較的低い誘電率、高い熱安定性、高い機械強度及び高いガラス転移温度を与え、好ましくはスピンコーティングにより適用し、平坦になりかつパターン化された表面の間隙を満たすことを可能にするポリマー誘電体を用い良好な層間絶縁膜を形成できる膜形成用組成物及び膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

The photomask comprises a transparent substrate 1, an antireflection structure formed by successively laminating a chromium oxide film 3, a chromium film 4 and a chromium oxide film 5 on the principal face side of the substrate 1, an LiF film 2 as an antireflection film formed on the interface between the chromium oxide film 3 and the substrate 1 and a spin-on glass film 6 formed on the surface of the chromium oxide film 5.例文帳に追加

透明基板１と、この透明基板１の主面側に、酸化クロム膜３、クロム膜４及び酸化クロム膜５順次積層して形成された反射防止構造と、酸化クロム膜３表面であって透明基板１との界面に形成された反射防止膜としてのＬｉＦ膜２と、酸化クロム膜５表面に形成されたスピンオングラス膜６から構成される。 - 特許庁

The spin valve transistor is equipped with a collector or emitter provided with a semiconductor layer, and a base provided with a first magnetic layer having a lattice strain in its surface area adjacent to the semiconductor layer and fixed in magnetization, a second magnetic layer the magnetism of the which changes under an external magnetic field, and a nonmagnetic layer formed between the first and the second magnetic layers.例文帳に追加

半導体層を備えるコレクタまたはエミッタと、半導体層と隣接する表面領域に格子歪を備える磁化が固定された第１の磁性層、磁化が外部磁界の下で変化する第２の磁性層、および第１および第２の磁性層間に形成された非磁性層とを備えるベースとを具備することを特徴とするスピンバルブトランジスタを提供する。 - 特許庁

In the magnetoresistance effect element through which sense current flows in a direction perpendicular to film surface, if pin or free layer is laminated by two or more kinds of ferromagnetic layers, the practical magnetoresistance effect element having the suitable resistance value is capable of obtaining the high sensitivity, and having few the magnetic layers to be controlled can be provided while it effectively utilizes spin parasitic scattering effect.例文帳に追加

センス電流を膜面に対して垂直方向に流す磁気抵抗効果素子において、ピン層やフリー層を２種類以上の強磁性層を積層した積層構成とすれば、スピン依存散乱効果を有効的に利用しながら、適当な抵抗値を有し、高感度化が可能で、かつ制御すべき磁性体層の数の少ない、実用的な磁気抵抗効果素子を提供することができる。 - 特許庁

In this spin-valve thin film magnetic element, the free magnetic layer has, in the surface on the opposite side as to the direction toward a disposed fixed magnetic layer, the groove provided with a track groove, whose width is equal to the track width, and flat parts on both sides thereof.例文帳に追加

本発明は、スピンバルブ型薄膜磁気素子であり、フリー磁性層は、記固定磁性層の配置されている方向と反対側の面にトラック幅に相当する幅のトラック溝が設けられた溝部と、その両側の平坦部とを有し、バイアス層は、フリー磁性層の両平坦部上に配置されるとともに、反強磁性層およびバイアス層は、以下の組成式の相互に異なる合金からなる。 - 特許庁

In forming a protective layer 16 by spreading a radiation curable coating material 16' by a spin-coating method for example on the surface of the disk plate 11 having an information recording layer 14, etc. and curing it by radiating an ultraviolet ray, or the like, the spread coating material 16' is cured so that its gel content reaches 70% or more within 0.5 seconds.例文帳に追加

情報記録層１４などが形成されたディスク基板１１に、放射線硬化性を有するコート材１６’を、例えばスピンコート法などを用いて、ディスク基板１１の表面に展延し、紫外線などの放射線を照射して硬化させることにより保護層１６を形成する工程において、展延されたコート材１６’を、そのゲル分率が０．５秒以内に７０％以上となるように硬化させる。 - 特許庁