「surface spin」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The intermediate layer is formed on the anode surface using a high frequency plasma treatment in a dry-process and spin-coating method in a wet-process, and then desirably is cleaned using the optimum treatment to control the smoothness, adhesion, and film thickness.例文帳に追加

中間層は、ドライプロセスでは高周波プラズマ処理法、ウェットプロセスではスピンコート法などを用い、陽極表面に成膜した後、望ましくは適切な最適化処理（洗浄）を行い、平滑性、付着性、膜厚の調整を行う。 - 特許庁

To provide a method of producing a molding having a fine pattern on the surface accurately by holding a photopolymerizable composition formed in the shape of a thin film by spin coating, or the like.例文帳に追加

表面に微細パターンを有する成型体の製造方法において、スピンコート法等により薄膜に形成された光重合性組成物を保持し、精度よく微細パターンを有する成型体を製造できる方法を提供する。 - 特許庁

Thus, in such spin valve head 36, the large resistance variation is realized in accordance with the inversion of the magnetizing direction established in a ferromagnetic layer 56 at the free side, similarly in the case the passing cross sectional surface of the current is reduced.例文帳に追加

その結果、こういったスピンバルブヘッド３６では、電流の通過断面が縮小される際と同様に、自由側強磁性層５６で確立される磁化方向の反転に応じて大きな抵抗変化量が実現されることができる。 - 特許庁

A semiconductor device comprises an in-plane magnetization type magnetoresistive element MRD using a spin-transfer torque writing method arranged on a principal surface of a semiconductor substrate, which can change a magnetization state depending on a current flow direction, and first wiring BL electrically connected with the magnetoresistive element MRD and extending in a direction along the principal surface.例文帳に追加

半導体基板の主表面上に配置された、電流の流れる向きに応じて磁化状態を変化させることが可能な、スピントルク書き込み方式の面内磁化型の磁気抵抗素子ＭＲＤと、磁気抵抗素子ＭＲＤと電気的に接続され、主表面に沿った方向に向けて延びる第１配線ＢＬとを備える。 - 特許庁

The hydro colloid film includes: a main layer containing the hydro colloid film as a main component used as food or food additive; and a hydrophobic layer formed on at least one surface of the main layer by a spin coat, covering more than 50 area% of one surface of the main layer, and having a thickness of 0.1-20 μm.例文帳に追加

食品又は食品添加物として使用されているハイドロコロイドを主成分として含む主層と、前記主層の少なくとも一方の面にスピンコートにより形成され、前記主層の一方の面の５０面積％以上を覆い、厚さが０．１〜２０μｍである疎水性層とを有するハイドロコロイドフィルムである。 - 特許庁

The protective coat film is formed by coating the lens surface of a plastic spectacle lens whose surface is provided with a stain-proofing film having water repellent and oil repellent performances with a coating solution made by dissolving acrylic resin in toluene as an organic solvent, and having a viscosity of a range A (about 150 mPa-1500 mPa) using a spin coating method.例文帳に追加

保護コート膜は、表面に撥水・撥油性能を有する防汚膜が形成されたプラスチック眼鏡レンズのレンズ面に、アクリル樹脂を有機溶剤のトルエンに溶解した、粘度が範囲Ａ（略１５０ｍＰａ〜１５００ｍＰａ）の塗布溶液を、スピンコート法を用いて塗膜して形成されている。 - 特許庁

A substrate leaf is spin-rotated, and an ozone-containing gas, and a washing liquid containing at least an organic acid or an ozone-containing washing liquid with ozone contained in the washing liquid are ejected toward the rotation center of the surface of the substrate, and/or toward the periphery, and/or over the entire surface while they are scan-guided.例文帳に追加

基板枚葉をスピン回転させ、オゾン含有ガスと、少なくとも有機酸を含有する洗浄薬液又はこの洗浄薬液にオゾンを含ませたオゾン含有洗浄液と、を基板表面の回転中心部分に向けて及び／又は周縁部分に向けて及び／又は全面に渡り走査移動しつつ吐出させる。 - 特許庁

The hydrofluoric acid is supplied from the chemical liquid nozzle 2 onto the surface of the wafer W in a rotating state with the spin chuck 1 to execute the processing using the hydrofluoric acid, and then, the dilute hydrochloric acid is supplied from the rinse liquid nozzle 3, thereby executing the rinse processing for washing away the hydrofluoric acid adhering on the surface of the wafer W.例文帳に追加

スピンチャック１による回転状態のウエハＷの表面に対して、薬液ノズル２からふっ酸が供給されて、そのふっ酸による処理が施された後、リンス液ノズル３から希塩酸が供給されることにより、ウエハＷの表面に付着しているふっ酸を洗い流すためのリンス処理が行われる。 - 特許庁

The substrate treatment apparatus includes: a spin chuck for horizontally holding a substrate W ; a droplet nozzle 5 for generating droplets of a treatment liquid to be sprayed over a jet region T1 in an upper surface of the substrate W; and a protection liquid nozzle 6 for discharging a protection liquid protective of the substrate W at the upper surface of the substrate W.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Ｗを水平に保持するスピンチャックと、基板Ｗの上面内の噴射領域Ｔ１に吹き付けられる処理液の液滴を生成する液滴ノズル５と、基板Ｗを保護する保護液を基板Ｗの上面に向けて吐出する保護液ノズル６とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the microlens array includes a process of forming a light-transmitting layer precursor 30, containing colloidal ceramics on the surface of the microlens array substrate 10 in the lens 12 side and a process of applying noncontact force by a spin coating method or the like on the light-transmitting layer precursor 30, to form a light-transmitting layer 32 having a flat surface.例文帳に追加

マイクロレンズアレイの製造方法は、マイクロレンズアレイ基板１０のレンズ１２側の面にコロイド状セラミックスを含む光透過性層前駆体３０を設け、光透過性層前駆体３０に、スピン塗布方式などによって非接触による力を加えて、平らな表面を有する光透過性層３２を形成することを含む。 - 特許庁

When an organic solvent is supplied from a liquid supply nozzle 62 to a surface of a substrate W held to a spin chuck 10 to replace moisture on the surface of the substrate with the organic solvent, and thereafter the substrate is dried by evaporating the organic solvent on the surface of the substrate, a gas having a specific gravity larger than that of steam is supplied into a cup 44 from a gas supply nozzle 64.例文帳に追加

スピンチャック１０に保持された基板Ｗの表面へ液体供給ノズル６２から有機溶剤を供給し、基板の表面上の水分を有機溶剤で置換させた後、基板の表面上の有機溶剤を蒸発させて基板を乾燥させる際に、カップ４４内へ気体供給ノズル６４から水蒸気より比重の大きい気体を供給する。 - 特許庁

In the treatment, the wafer W retained by the spin chuck 1 and shielding plate 2 are at a high speed rotated, and at the same time etching liquid is discharged from a nozzle 16, arranged at an upper end of a chuck shaft 11 to the back surface of the wafer that is rotating.例文帳に追加

処理時には、スピンチャック１に保持されたウエハＷおよび遮断板２が高速回転されるとともに、この回転しているウエハＷの裏面に向けて、チャック軸１１の上端に配置されたノズル１６からエッチング液が吐出される。 - 特許庁

To provide a substrate washing method and a substrate washing apparatus which can prevent chemicals from remaining on the surface of a substrate by not mixing the chemicals and a washing liquid at the time of continuous spin etching using the chemicals of different kinds.例文帳に追加

本発明は、異種の薬液を用いて連続したスピンエッチングする際に、薬液と洗浄液とを混合させずに、基板の表面上の薬液残りを防止するための、基板の洗浄方法及び基板洗浄装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A substrate W rotates about the center of rotation A0 of a spin base 3 while being supported slidably by a plurality of supporting pins 5 and being held by the supporting pins 5 with a frictional force being generated between the lower surface of the substrate W and the supporting pins 5.例文帳に追加

基板Ｗは複数の支持ピン５により滑動自在に支持されながらも基板Ｗの下面と支持ピン５との間に発生する摩擦力で支持ピン５に保持されながらスピンベース３の回転中心Ａ０回りに回転する。 - 特許庁

A spin element comprises: a semiconductor layer 3 composed of single-crystal Si; a first tunnel insulating layer T1 formed on a surface of the semiconductor layer 3; and a first ferromagnetic metal layer 1 formed on the first tunnel insulating layer T1.例文帳に追加

このスピン素子は、単結晶のＳｉからなる半導体層３と、半導体層３の表面上に形成された第１トンネル絶縁層Ｔ１と、第１トンネル絶縁層Ｔ１上に形成された第１強磁性金属層１とを備えている。 - 特許庁

To provide a spin type cleaning apparatus of a semiconductor wafer for cleaning contamination well even for the wafer with a large diameter without high revolution that disturbs an air or gas flow in the chamber, by feeding a cleaning solution on the whole surface of the wafer uniformly and sufficiently.例文帳に追加

大口径ウエハであってもチャンバ内気流を乱すような高速回転を行うことなく、ウエハ表面全体に洗浄液を均一に充分回して汚染物除去を良好に行い得るスピン式の半導体ウエハ用洗浄装置の提供。 - 特許庁

The driving wheels 23a, 23b spin free against the rotating brush 22 when the driving operation is started or the driving direction of the case body is switched so that the deterioration of the operability during the driving operation by the friction resistance between the driving wheels 23a, 23b and the floor surface is restrained.例文帳に追加

走行操作の開始時、あるいはケース体の走行方向の切り換え時などには、回転ブラシ22に対して駆動車輪23a，23bが空回りし、駆動車輪23a，23bと床面との摩擦抵抗による走行操作時の操作性の低下を抑制できる。 - 特許庁

Diameter of a core is enlarged, and a hardness difference is provided between a surface part and the inside of the core to give the characteristic such as a high impact resilience, a high hitting angle and a low spin, and a carry of the golf ball can be improved.例文帳に追加

本発明によれば、コアを大径化するとともに、コア表面部とコア内部に硬度差を設けることにより、ゴルフボールに高反発性、高打出角、低スピンなどの特性を付与することができ、ゴルフボールの高飛距離化を図ることができる。 - 特許庁

In the cleaning nozzle 12, a discharge opening 12a whose aperture area is at most 8 mm^2 is formed, and the cleaning fluid for chucking can be discharged from the discharge opening 12a forward the upper surface 2a of the spin base 2 at a flow rate of at least 0.9 liter/min.例文帳に追加

洗浄ノズル１２は、開口面積が８ｍｍ^2以下の吐出口１２ａを有しており、吐出口１２ａからスピンベース２の上面２ａに向けてチャック用洗浄液を０．９リットル／分以上の流量で吐出できるようになっている。 - 特許庁

To provide a method for forming a capacitor for a semiconductor device which can prevent the generation of gas cavities on the surface of a ferroelectric thin film when forming the ferroelectric thin film by spin coating or LSMCD using an organic solvent.例文帳に追加

有機物溶剤を用いてスピンコーティング又はＬＳＭＣＤ方法で強誘電体薄膜を形成する場合において強誘電体薄膜の表面に気孔の発生を防止できる半導体装置のキャパシターの形成方法を提供する。 - 特許庁

To make the transfer of a work via a frame smooth by preventing adhesion of scattered resin, to the portion to which the suction pad of the frame is attached, when a liquid resin is coated by a spin coat on the surface of the work integrated with an annular frame via an adhesive tape.例文帳に追加

環状のフレームに粘着テープを介して一体化されたワークの表面にスピンコートで液状樹脂を被覆する際、フレームの吸着パッドが吸着する部分への飛散樹脂の付着を防いで、フレームを介してのワークの搬送を円滑にする。 - 特許庁

While a spin base 2 is rotated by a motor 10 in a state in which a wafer W on whose surface a thin film is formed is held by a holding member 3, an etchant is supplied from a treatment liquid ejecting part 6 to the back face of the wafer W held by the holding member 3.例文帳に追加

表面に薄膜が形成されたウエハＷを保持部材３で保持した状態で、スピンベース２をモータ１０によって回転させながら、処理液吐出部６から保持部材３に保持されたウエハＷの裏面にエッチング液を供給する。 - 特許庁

Since a photosensitive material film 3a is deposited by spin-on of a photosensitive material with a film thickness substantially equal to or thicker than a surface level difference caused by an underlying pattern 2 on a substrate 1 to be processed, impact of striation of a layer provided thereon can be reduced.例文帳に追加

被処理基板１上の下地パターン２による表面段差と同程度以上の膜厚で感光性材料をスピンオンして感光性材料膜３ａを成膜するため、その上に設けられる層のストリエーションの影響を低減することができる。 - 特許庁

The oblique impact test is conducted, while the upper material is stuck to a plate, by making a soccer ball with the spin rate of 0-25 rpm in a direction with an angle of 29-33° with respect to the plate surface collide against the upper material at a speed of 23.0-25.0 m/s.例文帳に追加

斜め衝突試験は、当該アッパー材をプレートに貼り付けた状態で、プレート面に対して２９〜３３度をなす方向から０〜２５ｒｐｍの回転数のサッカーボールを速度２３．０〜２５．０ｍ/ｓでアッパー材に衝突させることにより、実施されている。 - 特許庁

To provide a material for forming an insulation film containing high quality and high purity lithium or an insulation film containing lithium silicate on a surface of various substrates by spin coating method, mist deposition method or CVD method and to provide a film forming method using the same.例文帳に追加

スピンコーター法、ミストデポジション法、またはＣＶＤ法により、各種基板の表面に、高品質、高純度のリチウムを含む絶縁膜、あるいはリチウムシリケートを含む絶縁膜を成膜するための絶縁膜成膜用原料、及びそれを用いた成膜方法を提供する。 - 特許庁

The control part 10 controls the elevating mechanisms 40 to 43 so as to equalize heights of inner peripheral parts 18c, 19c, 20c, and 21c from a substrate holding position P1 of the spin chuck 2 whichever of guards 14 to 17 is caused to face a circumferential end surface of a substrate W.例文帳に追加

制御部１０は、いずれのガード１４〜１７を基板Ｗの周端面に対向させるときでも、スピンチャック２による基板保持位置Ｐ１からの内周部１８ｃ、１９ｃ、２０ｃ、２１ｃの高さが等しくなるように昇降機構４０〜４３を制御する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for drying rapidly a semiconductor wafer in a resting state in a drying apparatus without using a spin dryer and without particles adhesion on the surface of the semiconductor wafer and a water mark generation on the semiconductor wafer and a holding cassette.例文帳に追加

半導体ウエハー表面にパーティクルの付着無く、半導体ウエハー及び収納カセットにウォーターマークが発生せず、スピンドライヤーを使用せず乾燥装置内で静止状態で迅速に半導体ウエハーを乾燥する方法及びその乾燥装置を提供する。 - 特許庁

Magnetization vibration can be excited by spin transfer from the magnetization fixed layer to the magnetization free layer through conduction in the direction perpendicular to the surface of the multilayer film, and noise is lowered in the vicinity of oscillation frequency by narrowing the oscillation line width of the magnetic oscillation element.例文帳に追加

多層膜の膜面に対して垂直方向の通電によって磁化固定層から磁化フリー層へのスピントランスファによる磁化振動が励起でき、磁性発振素子の発振線幅を狭くすることによって発振周波数付近の雑音を低下させる。 - 特許庁

When spin-drying, the laundry is moved to the rear end surface side on the whole inside the drum 5 if the balance is adjusted by rotating the drum 5 at such a rotation speed that the centrifugal force acting on the laundry stored in the drum 5 is smaller than the gravity.例文帳に追加

脱水時に、ドラム５内に収容された洗濯物に作用する遠心力が重力よりも小さいような回転速度でドラム５を回転させることによりバランス調整を行うと、ドラム５内で洗濯物は全体的に後端面側へと移動して片寄る。 - 特許庁

To provide a spin etching apparatus for a rectangular substrate, by which the throwing power of a liquid chemical for etching to the back surface of the rectangular substrate such as a rectangular thin glass substrate is eliminated to reduce the occurrence of defective and a required dimensional precision is attained.例文帳に追加

長方形薄板ガラス基板等の長方形基板の裏面へのエッチング用薬液の回り込みを解消して不良品発生率の低減を図り、かつ所要の寸法出し精度を実現できる長方形基板のスピンエッチング装置を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the display panel 29 includes a step, in which a liquid resin 4, containing at least either granules 6a or fractures 6b, is dropped on the surface of a rotating fixed-shaped base 23 by the spin coating method, forming the thick resin film 33.例文帳に追加

表示板２９の製造方法は、回転している定形基材２３の表面上に顆粒６ａと細片６ｂの少なくとも一方を含有した液状樹脂４をスピンコート法によって滴下するステップを設けたことで、厚い樹脂膜３３が得られる。 - 特許庁

After the surface of a substrate 1 is spin-coated with a positive photosensitive resist and a circuit pattern forming spot and a through hole forming spot are exposed on this positive photosensitive resist in a first exposure process, only a through hole 1a and neighboring thereof are exposed in a second exposure process.例文帳に追加

基板１の表面にポジ型感光レジストをスピンコートし、このポジ型感光レジストに対し第１露光工程で回路パターン形成箇所とスルーホール形成箇所とを露光した後、第２露光工程でスルーホール孔１ａとその近傍のみを露光する。 - 特許庁

When forming a light transmissive layer by the spin coat method, transfer is made on the information recording layer 108 using a stamper having a projection 140 along its perimeter 140A, and a sloped surface (recess) 135A is also formed at the same time on the base (transferred component) 104.例文帳に追加

光透過層をスピンコート法によって形成する際に、外周部に凸状部１４０Ａを有する樹脂スタンパ１４０を用いて情報記録層１０８の転写を行い、併せて基板（被転写部材）１０４側に傾斜面（凹部）１３５Ａを形成する。 - 特許庁

The main surface side of a single crystal silicon substrate 10 is flattened by spin coatingn an SOG film on the main surfaee side, and the clearance formed on a silicon nitride film on a diffused resistor wiring 15 is buried by the SOG film to flatten a metallic layer for bonding 17, whereby the generation of clearance with respect to an upper stopper is prevented.例文帳に追加

単結晶シリコン基板１０の主表面側に拡散抵抗配線１５を形成し、シリコン窒化膜１９ａを形成した後に、単結晶シリコン基板１０の主表面側を、ＳＯＧ膜５を回転塗布することにより平坦化する。 - 特許庁

A magnetic storage element 10 comprises a first magnetic thin film 1 wherein application of an external magnetic field generates a spin vortex, and a second magnetic thin film 2 comprising magnetization C almost vertical relative to a film surface above the first magnetic thin film 1.例文帳に追加

本発明の磁気記憶素子１０は、外部磁界の印加によりスピンボルテックスを生じる第１の磁性体薄膜１と、この第１の磁性体薄膜１の上方において、膜面と略垂直な磁化Ｃを有する第２の磁性体薄膜２とを具えている。 - 特許庁

The layer forming apparatus 1 is provided with a liquid coating device 100 for coating the surface of a rotating lens base material 50 with a liquid by the spin coating method to form layers, a liquid removing device 200 for removing the liquid adhering to the outer circumferential part of the lens base material 50.例文帳に追加

層形成装置１は、回転しているレンズ基材５０の表面にスピンコート法で液体を塗布して層を形成する液体塗布装置１００と、レンズ基材５０の外周部に付着した液体を除去する液体除去装置２００とを備える。 - 特許庁

To provide a surface conditioner for coating agents which exhibits an excellent surface conditioning effect, even when high speed and high shear-posing application of the coating agents such as spin coating or spray coating are employed and even when high polarity coatings are applied, and gives a sufficient finish coating suitability for the coating agents.例文帳に追加

スピンコーティングやスプレーコーティングのような高速で高シェアのかかるようなコーティング剤の塗装を行う場合や、極性の高いコーティング剤の塗装を行う場合でも、極めて優れた表面調整効果を示し、さらに十分な塗装膜への上塗り適性をコーティング剤に持たせることができるコーティング剤用表面調整剤を提供する。 - 特許庁

This method includes a substrate rotating process of rotating one substrate held by a spin chuck, a preceding pure water supply process of supplying pure water on the substrate surface rotated by the substrate rotating process, and a chemicals liquid supply process of supplying a chemical liquid on the substrate surface rotated by the substrate rotating process.例文帳に追加

この方法は、スピンチャックで１枚の基板を保持して回転させる基板回転工程と、この基板回転工程によって回転されている基板の表面に純水を供給する前純水供給工程と、基板回転工程によって回転されている基板の表面に薬液を供給する薬液供給工程とを含む。 - 特許庁

To separately measure a tunneling current derived from the uneven surface state of a sample and a tunneling current derived from a magnetized state at every magnetic domain of the sample in a spin polarization scanning tunneling microscope and to observe the surface uneven state of the sample and the magnetized state of each magnetic domain of the sample with high accuracy.例文帳に追加

スピン偏極走査型トンネル顕微鏡に関し、試料の各磁区ごとに試料表面の凹凸状態に起因するトンネル電流と磁化状態に起因するトンネル電流とを別々に測定できるようにし、試料表面の凹凸状態と試料の各磁区の磁化状態とを高精度に観測することができるようにする。 - 特許庁

When the substrate W is in a cleaning process, while the substrate W is rotated in a horizontal plane with a spin chuck 1, the cleaning liquid to which an ultrasonic vibration is given from the first and the second ultrasonic nozzles 23, 24 is supplied to the upper surface of the rotating substrate W.例文帳に追加

基板Ｗの洗浄処理の際には、スピンチャック１によって基板Ｗが水平面内で回転されつつ、その回転している基板Ｗの上面に、第１および第２の超音波ノズル２３，２４から超音波振動の付与された洗浄液が供給される。 - 特許庁

To decrease the liquid stagnation of a coating agent occurring on the edge of a substrate and to obtain a substrate body having a coating layer with excellent uniformity in film thickness when a coating agent containing a photochromic compound is applied onto the substrate surface in ≥10 μm film thickness by spin coating.例文帳に追加

フォトクロミック化合物を含むコーティング剤をスピンコートで基材表面に膜厚が１０μｍ以上となるように形成する場合に、基材周縁部に生じるコーティング剤の液溜まりを低減させ、膜厚の均一性に優れたコーティング層を有する基材を得る。 - 特許庁

To obtain an optical disk having excellent electric characteristics such as jitters by controlling a focus deviation to a second signal surface and obtaining a nearly fixed defocus offset quantity, as a one-side reading type two-layer optical disk having a resin layer formed by a spin coating method using ultraviolet curing acrylic resin.例文帳に追加

紫外線硬化型アクリル樹脂を用いたスピンコート法によって形成される樹脂層を有する片面読み取り型２層式光ディスクにおいて、該第２信号面に対してのフォーカスずれを抑え、ほぼ一定のデフォーカスオフセット量を得ることで、ジッター等の電気特性が良好な光ディスクを得る。 - 特許庁

The spin coater is constituted of an inner cup receiving a glass substrate to rotate and the outer cup surrounding the inner cup and used in a process for uniformly coating the glass substrate with ink and a flap mechanism 15 is provided on the upper surface of the distribution plate 12 closing the inner cup.例文帳に追加

ガラス基板を入れて回転する内カップと、その内カップを取り囲む外カップとで構成され、ガラス基板に対しインキを均一に塗布する工程で使用されるスピンコータであって、内カップに蓋をする整流板１２の上面にフラップ機構１５を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

If the disk substrate 12 is rotated together the dummy substrate 48 by rotating the turntable 34 in such state of the dummy substrate 48, the adhesive 24 is extended to an outer peripheral side of the disk substrate 12 by a centrifugal force and filled into a cavity between the plate face 58 and the set surface 50 to be spin-coated on the plate face 58.例文帳に追加

その状態でターンテーブル３４の回転によりディスク基板１２をダミー基板４８とともに回転させると、接着剤２４が遠心力でディスク基板１２外周側に延展し、板面５８とセット面５０との間の空隙内に充填させて板面５８上にスピンコートされる。 - 特許庁

In this case, nitride radicals are emitted before spin coating to form a portion 5a which is not a shade of the nano-columns 2 into an insulative nitride aluminum layer on the surface layer of the Al substrate 5 by self-aligning the nano-columns 2 dispersed on the arbitrary position, thereby preventing short-circuit between the nano-columns 2 and the organic metal.例文帳に追加

ただし、スピンコートの前に窒素ラジカルを照射し、任意の位置に散布されたナノコラム２に対して、その自己整合によって、Ａｌ基板５の表層部において、ナノコラム２の影になっていない部分５ａを絶縁性の窒化アルミニウム層として前記有機金属との短絡を回避する。 - 特許庁