「surface spin」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The sample is irradiated with a metastable atomic beam, subjected to spin polarization in the magnetic field to generate a sample current and the surface magnetism of the sample, is measured by measuring the changes in the sample current, when the direction of the spin polarization of the metastable atomic beam, used for irradiating the sample, is changed.例文帳に追加

磁場中においてスピン偏極させた準安定原子ビームを試料に照射し、試料電流を発生させ、試料に照射する準安定原子ビームのスピン偏極の向きを変えたときの試料電流の変化を測定することで試料表面の磁性計測を行う。 - 特許庁

The spin detector 5 includes: a target 51 having projection parts 52 formed on a surface irradiated with electron beams, which have each inclined plane inclined with respect to a normal direction of the surface; and electron detectors DRy, DLy arranged on the direction side in which the electron beams are scattered by the inclined planes of the projection parts 52 corresponding to a spin polarization degree of the electron beams.例文帳に追加

スピン検出器５は、電子線が照射される面に、面の法線方向に対して傾斜した傾斜面を有する突起部５２が形成されたターゲット５１と、突起部５２の傾斜面で電子線が電子線のスピン偏極度に応じて散乱する方向側に配置された電子検出器ＤＲｙ，ＤＬｙと、を有する。 - 特許庁

This device comprises: an SPM nozzle 12 for supplying SPM acting as resist separation agent to the surface of a wafer W held by a spin chuck 11; and a two-fluid nozzle 13 for supplying jet stream of drops generated by mixing heated purified water and heated nitrogen gas to the surface of the wafer W held by the spin chuck 11.例文帳に追加

スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面にレジスト剥離液としてのＳＰＭを供給するためのＳＰＭノズル１２と、スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面に加熱された純水と加熱された窒素ガスとを混合して生成される液滴の噴流を供給するための二流体ノズル１３とが備えられている。 - 特許庁

Further, when the SPM is supplied to the upper surface of the wafer W, the SPM flowing downstream from the upper surface of the wafer W is stored in the thin-dish-shaped spin base 12, and the unwanted resist formed on the lower surface of the wafer W is separated with the stored SPM.例文帳に追加

また、ウエハＷの上面へのＳＰＭの供給時に、ウエハＷの上面から流下するＳＰＭが薄皿状スピンベース１２に貯留され、その貯留されたＳＰＭによって、ウエハＷの下面に形成されている不要なレジストが剥離される。 - 特許庁

When a resist film is formed on the upper surface of the substrate 10 by using a spin coating method etc., the resist film falls toward the end surface 10c of the substrate 10 since the inclined surface 11 is provided in the peripheral edge region 10a of the substrate 10, so that swelling 20a of a surface of the resist film 20 is suppressed.例文帳に追加

基板１０の上面にスピンコート法等を用いてレジスト膜を形成すると、基板１０の周縁部領域１０ａにおいては傾斜面１１が設けられているので、レジスト膜が基板１０の端面１０ｃ方向に落ち込み、レジスト膜２０表面の盛り上がり２０ａが抑制される。 - 特許庁

To provide a grinding processing device having a mechanism, providing a cleaning capable of removing microparticles that cannot been cleaned up by the conventional spin cleaning mechanism to a surface to be ground and a surface to be held of the object to be ground.例文帳に追加

被研削物の被研削面と被保持面とに対して従来のスピン洗浄機構では洗浄しきれない微小パーティクルの除去が可能な洗浄を施すことが出来る機構を有する研削加工装置を提供する。 - 特許庁

When the cleaning solution is discharged from a cleaning solution outlet 30, the cleaning solution is supplied to the base member side space S1b to clean an upper surface 6a of the spin base 6 and a lower surface 32b of the partition plate 32.例文帳に追加

また、洗浄液吐出口３０から洗浄液が吐出されることにより、ベース部材側の空間Ｓ１ｂに洗浄液が供給され、スピンベース６の上面６ａおよび区画板３２の下面３２ｂが洗浄される。 - 特許庁

Thus, by vertically moving the head 71, a gap between the opposing surface 5b of a spin base 5 and the other main surface W2 of the substrate W is adjusted optionally and equally through the whole periphery of the substrate W.例文帳に追加

このため、基板支持ヘッド７１を昇降させることで、スピンベース５の対向面５ｂと基板Ｗの他方主面Ｗ２の周縁部とのギャップを任意に、しかも基板Ｗの全周にわたって均一に調整することができる。 - 特許庁

A spin chuck 3 includes: a center chuck 7 for supporting the lower surface center of a wafer W; an outer circumferential ring member 8 for supporting the lower surface peripheral edge of the wafer W; and a first seal member 9 for performing sealing between the lower surface peripheral edge of the wafer W and the outer circumferential ring member 8.例文帳に追加

スピンチャック３は、ウエハＷの下面中央部を支持するためのセンターチャック７と、ウエハＷの下面周縁部を支持するための外周リング部材８と、ウエハＷの下面周縁部と外周リング部材８との間をシールするための第１シール部材９とを備える。 - 特許庁

In a spin processing unit 2, the thickness of the water film on the substrate surface is adjusted by rotation of the substrate, the volume of the water film increases by freezing the water film, the adhesion force between the particles adhering on the substrate surface and the substrate is weakened, and further, the particles are separated from the substrate surface.例文帳に追加

スピン処理ユニット２にて、基板が回転されることで基板表面の水膜の厚みが調整された後、水膜が凍結されることで水膜の体積が膨張し、基板表面に付着する粒子と基板との間の付着力が弱まり、さらには粒子が基板表面から脱離する。 - 特許庁

A first substrate having a first recording layer on one surface thereof and a ring-shaped protrusion provided at the inner peripheral part of the one surface is manufactured, a UV curing resin is dropped on the surface inner peripheral side of the ring-shaped protrusion and the UV curing resin is spin-coated on the first recording layer.例文帳に追加

片面に第１の記録層を有し、前記片面の内周部にリング状突起が設けられた第１の基板を作製し、前記リング状突起より内周側表面に紫外線硬化樹脂を滴下し、該紫外線硬化樹脂を前記第１の記録層上にスピンコートする。 - 特許庁

To provide a spin-welded assembly into which a fixture which is engaged with a plastic work piece is inserted without generating a defect on the decorative surface of the work piece or deteriorating it and which holds the fixture.例文帳に追加

プラスチック製ワークピースと係合する締結具を、そのワークピースの化粧面上に欠陥を生成または悪化させることなく、挿入し、保持するためのスピン溶接アセンブリを提供する。 - 特許庁

After parts except the pit region part 13 are masked and a surface treatment by a fluorine processing agent is executed only at the pit region part 13, dyestuff application by a spin coat (formation made of a recording film) is executed.例文帳に追加

ピット領域部１３以外の部分をマスクし、ピット部領域１３にのみフッ素加工剤による表面処理を施した後、スピンコートにより色素塗布（記録膜の形成）を行った。 - 特許庁

To provide a spin cleaning device in which the surface density of ultrasonic energy being supplied to a substrate to be cleaned can be adjusted easily, and to provide a cleaning method employing that device.例文帳に追加

被洗浄基板に供給される超音波エネルギーの面密度を容易に調整可能な、スピン洗浄装置およびその装置を用いた洗浄方法を提供することである。 - 特許庁

The basket 2 is used in a dipping spin coating apparatus which attaches a coating material onto a surface of the workpiece W by dipping the workpiece W in the coating material, taking the workpiece W out of the coating material and then rotating the workpiece W.例文帳に追加

ワークＷを塗料に浸漬した後、塗料から出して回転させることで、ワークＷの表面に塗料を付着させるディップスピン塗装装置に用いるバスケット２である。 - 特許庁

A surface metal layer 3 is formed by electroforming (Fig. C), further a PAI resin is applied by spin coating to form a heat insulating layer 4 (Fig. D), and a metal layer 5 is formed by electroforming (Fig. E).例文帳に追加

電鋳により表面金属層３を形成し（図（Ｃ））、さらにＰＡＩ樹脂をスピンコートして断熱層４を形成し（図（Ｄ））、さらに電鋳により金属層５を形成する（図（Ｅ））。 - 特許庁

To provide a color filter by which an overcoat layer with a smooth surface can be easily obtained even when the overcoat layer is formed by a well-known application means such as a spin coat method and a roll coat method.例文帳に追加

スピンコート法、ロールーコート法等の公知の塗布手段にてオーバーコート層の形成を行っても容易に表面平滑なオーバーコート層が得られるカラーフィルターを提供する。 - 特許庁

In a substrate processing apparatus, a substrate W is held at a predetermined position on a spin base 13 by pressing the substrate to supporting pins FF1 to FF6, and SS1 to SS6 with nitrogen gas supplied to the substrate surface.例文帳に追加

基板表面に供給される窒素ガスによって基板Ｗが所定の支持位置で各支持ピンＦＦ１〜ＦＦ６，ＳＳ１〜ＳＳ６に押圧されてスピンベース１３に保持される。 - 特許庁

Metal nano-particle paste 6 containing Sn nano-particles and a dispersant is printed by an inkjet printer in a state where flux 5 is applied to the whole surface of the wafer by a spin coat method.例文帳に追加

この記ウエハの全面にスピンコート法によりフラックス５を塗布した状態で、インクジェット印刷機により、Ｓｎナノ粒子と分散剤を含む金属ナノ粒子ペースト６を印刷する。 - 特許庁

To prevent falling of diatomaceous earth on a filter surface by avoiding remaining of air inside a vessel, when refilling a solvent after discharging the solvent for regenerating a spin disk filter.例文帳に追加

スピンディスクフィルタを再生するために溶剤を排出した後再び溶剤を充填する際に、容器内に空気が残留することを回避してフィルタ表面の珪藻土の剥落を防止する。 - 特許庁

To provide a means for applying an aqueous application liquid on the surface of a plastic lens by a spin coating method and manufacturing a plastic lens of high quality having a coating film having excellent optical characteristics.例文帳に追加

プラスチックレンズ表面にスピンコート法によって水系塗布液を塗布し、光学特性に優れた塗布膜を有する高品質なプラスチックレンズを製造するための手段を提供すること。 - 特許庁

The substrate 22B is attached to the outer surface of the right partition wall 12B of the dropping container 12 and the response part 22A of the spin valve type GMR element 22 is arranged to the outside of the dropping container 12.例文帳に追加

基板２２Ｂが点滴容器１２の右側隔壁１２Ｂの外面側に取り付けられて、スピンバルブ型ＧＭＲ素子２２の感応部２２Ａが点滴容器１２外に配置される。 - 特許庁

To suppress the usage amount of a solvent for cleaning particles by reducing the particles adhering on the rear surface of a substrate in applying an application liquid to the substrate by a spin coating method.例文帳に追加

塗布液をスピンコーティング法によって基板へ塗布するにあたって、基板裏面側へのパーティクルの付着を減らし、このパーティクルを洗浄するための溶剤の使用量を抑えることである。 - 特許庁

By making a brush 21 abut on a peripheral region 40 of the surface of a wafer W rotated by a spin chuck 3, a contaminant sticking to the peripheral region 40 is scraped.例文帳に追加

スピンチャック３により回転されるウエハＷの表面の周縁領域４０にブラシ２１が当接されることにより、その周縁領域４０に付着する汚染を掻き取ることができる。 - 特許庁

The cleaning surface 22 of the brush 15 is brought into contact with the peripheral end face 14 of the wafer W rotated by a spin chuck 3, and the peripheral end face 14 of the wafer W is cleaned by the brush 15.例文帳に追加

スピンチャック３により回転されるウエハＷの周端面１４にブラシ１５の洗浄面２２が当接されて、ウエハＷの周端面１４がブラシ１５により洗浄される。 - 特許庁

Six annular light emitting element groups 6a-6f are respectively provided with a rotating shaft P as a center so as to surround the outside of a power receiving coil 4 on a bottom surface of the spin base 1.例文帳に追加

スピンベース１の下面の受電コイル４の外側を取り囲むように回転軸Ｐを中心として環状の６つの発光素子群６ａ〜６ｆがそれぞれ設けられている。 - 特許庁

Since spin-off of a lubricant 8 is interrupted by the crowded carbon nanotube 6 even when the lubricant 8 is applied on the recording surface 10a, the magnetic recording medium has less deterioration of lubrication characteristics.例文帳に追加

さらに、記録面１０ａ上に潤滑剤８を塗布しても、潤滑剤８が密集するカーボンナノチューブ６に遮られてスピンオフしないので、潤滑特性の劣化が小さい。 - 特許庁

A liquid film formed on a surface Wf of a substrate W held by a spin base 23 is frozen by cooling gas of a lower temperature than a solidification point of liquid constituting the liquid film.例文帳に追加

スピンベース２３に保持された基板Ｗの表面Ｗｆに形成される液膜を、該液膜を構成する液体の凝固点よりも低温の冷却ガスにより凍結させる。 - 特許庁

A vertical MISFET of trench-type gate structure is formed on a semiconductor substrate, and a surface protective film as the top layer is formed by spin coating method after forming the gate wiring and the source wiring.例文帳に追加

半導体基板上にトレンチ型ゲート構造の縦型ＭＩＳＦＥＴを形成し、ゲート配線及びソース配線を形成してから、最上層の表面保護膜をスピンコート法で形成する。 - 特許庁

In wash-treatment sections 5a-5d, high-density ozone water is supplied onto the surface of a substrate W being held and rotated by a spin chuck 21 from a nozzle 50 for oxidation treatment.例文帳に追加

洗浄処理部５ａ〜５ｄにおいて、スピンチャック２１に保持された状態で回転する基板Ｗ表面に酸化処理用ノズル５０から高濃度オゾン水が供給される。 - 特許庁

In this invention, the MD characteristic of the solid etalon filter is improved by coating the substrate surface of the solid etalon filter by using the spin coater so as to bury a concave part.例文帳に追加

そこで、本発明は、ソリッドエタロンフィルタの基板の表面に、スピンコータを使用して凹部を埋めるようにコーティングし、ソリッドエタロンフィルタのＭＤ特性を向上させたことが特徴である。 - 特許庁

To prevent stains in the rear outer peripheral portion of a semiconductor substrate in giving spin etching thereto, which is caused by a surface treatment chemical that has gone around the rear of the substrate.例文帳に追加

半導体基板のスピンエッチングにおいて、表面処理薬液の基板裏面への回り込みに起因して発生する基板裏面外周部の薬液残留による汚染を防止する。 - 特許庁

To provide a color filter capable of easily obtaining a surface-smooth overcoat layer even in the case of forming the over coat layer by a heretofore known coating means such as a spin coating method or a roll coating method.例文帳に追加

スピンコート法、ロールーコート法等の公知の塗布手段にてオーバーコート層の形成を行っても容易に表面平滑なオーバーコート層が得られるカラーフィルターを提供する。 - 特許庁

In the single-wafer cleaning apparatus for feeding the surface of the wafer on a spin table surrounded with a cleaning chamber, a feeding means of the cleaning solution has a plurality of nozzles for spouting the cleaning solution to the wafer surface, and each nozzle located around the spin table is adjustable in its cleaning-solution spouting direction and its angle.例文帳に追加

周囲を洗浄チャンバで囲まれたスピンテーブル上のウエハの表面へ洗浄液を供給する枚葉式の半導体ウエハ用洗浄装置において、洗浄液を供給手段は、洗浄液をウエハ表面に向けて吐出するための複数個のノズルを含み、各ノズルはそれぞれ洗浄液吐出方向および角度を変更調節可能にスピンテーブル周りに設置されているものとした。 - 特許庁

The substrate cleaning apparatus comprises a spin chuck 20 for rotatably holding a wafer W, a two-fluid nozzle 10 for supplying cleaning liquid to the surface of the wafer W held by the spin chuck 20, and a moving mechanism 30 connected to the two-fluid nozzle 10 for moving the two-fluid nozzle 10 along the surface of the wafer W held by a rotary holding part 20.例文帳に追加

基板洗浄装置は、ウエハＷを回転可能に保持するスピンチャック２０と、スピンチャック２０によって保持されたウエハＷの表面に洗浄液を供給する二流体ノズル１０と、二流体ノズル１０に連結され、当該二流体ノズル１０を回転保持部２０に保持されたウエハＷの表面に沿って移動させる移動機構３０と、を備えている。 - 特許庁

This substrate treatment device comprises a spin chuck 58 for rotatably holding a substrate W in a plane including its main surface, a motor 57 for rotatably driving the spin chuck, a circulating pump 64 for circulating a remover liquid and supplying the remover liquid to a first nozzle 41, and a heater 69 for heating the circulating remover liquid.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Ｗをその主面を含む平面内において回転可能に保持するスピンチャック５８と、スピンチャックを回転駆動するモータ５７と、除去液の循環と第１ノズル４１への除去液の送液とを行う循環ポンプ６４と、循環する除去液を加熱するためのヒータ６９とを備える。 - 特許庁

A first coating liquid containing a photoisomerization component is applied by spin coating to form a recording layer, and a second coating liquid containing a photoisomerization component which is isomerized by light at the same wavelength as for the photoisomerization component in the recording layer but not dissolving the recording layer is applied on the surface of the recording layer by spin coating to form an intermediate layer.例文帳に追加

光異性化成分を含有する第１の塗布液をスピンコートして形成した記録層の表面に、記録層に含有される光異性化成分と同じ波長の光で異性化する光異性化成分を含有し、且つこの記録層を溶解しない第２の塗布液をスピンコートして中間層を形成する。 - 特許庁

The magnetoresistive element 10 includes a stabilization layer 11, a nonmagnetic layer 13, a spin-polarization layer 12 provided between the stabilization layer 11 and the nonmagnetic layer 13, and having magnetic anisotropy in a direction perpendicular to a film surface, and a magnetic layer 14 provided on a side of the nonmagnetic layer 13 opposite to a side on which the spin-polarization layer 12 is provided.例文帳に追加

磁気抵抗素子１０は、安定化層１１と、非磁性層１３と、安定化層１１と非磁性層１３との間に設けられ膜面に垂直な方向の磁気異方性を有するスピン分極層１２と、非磁性層１３に対してスピン分極層１２とは反対側に設けられた磁性層１４とを含む。 - 特許庁

The filter material for selectively removing the white blood cell holds a water-insoluble polymer in which the spin-spin relaxation time of a proton is not less than 1 ms and not more than 20 ms, and which contains both a hydrophilic group and a strong hydrophobic group on the surface of the filter material for selectively removing the white blood cell formed of a porous element.例文帳に追加

多孔質素子から成る白血球選択除去フィルター基材の表面に、プロトンのスピン-スピン緩和時間が１ミリ秒以上２０ミリ秒以下であって、親水性基と強疎水性基の両方を含む水不溶性ポリマーを保持してなることを特徴とする白血球選択除去フィルター材。 - 特許庁

In the electromagnetic-field generating element, the magnetization of the spin-wave excitation layer is biased in a direction substantially perpendicular to its layer surface by a portion of the magnetic field generated from the first magnetic pole, and an electric current for exciting the spin-wave flows in the electromagnetic-field generating element in a direction from the second pole to the first pole.例文帳に追加

さらにこの電磁界生成素子においては、スピン波励起層の磁化が第１の磁極から発生する磁界の一部によって層面に実質的に垂直な方向にバイアスされ、スピン波を励起するための電流が電磁界生成素子内を第２の磁極から第１の磁極へ向かう方向に流れる。 - 特許庁

The sol solution becomes left and right adhesion layers 70, is applied in laminar manner to surface regions, corresponding to heating resistors 30 on a surface of a protective layer 50 by spin-coating method, and forms left-side and right-side sol solution layers.例文帳に追加

左側及び右側の各密着層７０となるゾル溶液を、保護層５０の表面のうち各発熱抵抗体３０に対する対応表面部位にスピンコート法により層状に塗布し左側及び右側の各ゾル溶液層として形成する。 - 特許庁

The nozzle 4 is held by a nozzle arm 18, and is moved along a track X1 passing through a rotation center C1 of a main surface of the substrate W in the view from a vertical direction D1 vertical to the main surface of the substrate W held by the spin chuck 2.例文帳に追加

ノズル４はノズルアーム１８に保持されて、スピンチャック２に保持された基板Ｗの主面に垂直な垂直方向Ｄ１から見たときに基板Ｗの主面の回転中心Ｃ１を通る軌跡Ｘ１に沿って移動する。 - 特許庁

A road surface reaction force FXYi of each wheel is estimated, and vehicle turning round moment Mi and limit vehicle turning round moment MiG are estimated based on the road surface reaction force FXYi, etc., (S30) to judge whether the vehicle is in a spin condition or not based on them (S50).例文帳に追加

各車輪の路面反力Ｆ_XYiが推定され、路面反力Ｆ_XYi等に基づき車輌回頭モーメントＭ_i及び限界車輌回頭モーメントＭ_iGが推定され（Ｓ３０）、これらに基づき車輌がスピン状態があるか否かが判定される（Ｓ５０）。 - 特許庁

In a rotation detecting part 16, magnetic sensors 21 and 22 of spin bulb type magnetic resistance effect elements are made to face the surface of the rotor 10, and permanent magnets 23 and 24 giving an external magnetic field to the surface of the rotor 10 are also provided.例文帳に追加

回転検出部１６では、スピンバルブ型の磁気抵抗効果素子の磁気センサ２１，２２を前記回転体１０の表面に対向させ、また前記回転体１０の表面に外部磁界を与える永久磁石２３，２４を設けておく。 - 特許庁

The chemical is supplied via a treatment liquid supply valve VC 11, a treatment liquid distribution path 21, a treatment liquid supply valve VT, a treatment liquid supply pipe 2, and a rear surface nozzle 3 to the center of the rear surface of a wafer W which is supported by a spin chuck 1.例文帳に追加

薬液は、薬液供給バルブＶＣ１１、処理液流通路２１、処理液供給バルブＶＴ、処理液供給管２および裏面ノズル３を通って、スピンチャック１に保持されたウエハＷの裏面中央に供給される。 - 特許庁