「surface spin」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The spin torque oscillator includes a nonmagnetic spacer layer 16 having first and second external surfaces, a magnetic field generation layer 33 brought into contact with the first external surface, and a spin injection layer 12 having permanent magnetization perpendicular to the surface of the nonmagnetic spacer layer 16 and brought into complete contact with the second external surface.例文帳に追加

スピントルク発振器は、第１および第２の外表面を有する非磁性スペーサ層１６と、上記第１の外表面と接触する磁界生成層３３と、非磁性スペーサ層１６の表面に対して垂直な永久磁化を有し上記第２の外表面と完全接触するスピン注入層１２とを備える。 - 特許庁

This can prevent the processing liquid sticking to the inside surface of the spin cup 22 from flying up like mist and sticking to the substrate 12, during the processing using the processing liquid.例文帳に追加

スピンカップ22の内面に付着した薬液が乾燥処理時にミスト状に巻き上がり基板12に付着することを防止できる。 - 特許庁

A coated film 104 is formed on the main surface of a substrate 105 by applying a coating liquid by, for instant, a spin coating method.例文帳に追加

基材１０５の主表面に、例えばスピン塗布法により塗布液を塗布することで、塗布膜１０４が形成された状態とする。 - 特許庁

Resist is applied by a spin coat method to an anti-reflective coating 2 formed on the front surface of a square silicon substrate 1 and is prebaked.例文帳に追加

四角形のシリコン基板１の表面に形成された反射防止膜２上に、レジストをスピンコート法により塗布して、プリベークする。 - 特許庁

A spin chuck 3 includes a holding electrode plate 5 for holding a wafer W in approximately horizontal attitude by absorbing the backside (a lower surface) thereof.例文帳に追加

スピンチャック３は、ウエハＷをほぼ水平な姿勢でその裏面（下面）を吸着して保持する保持電極板５を備えている。 - 特許庁

A wafer 1 is held on the upper surface of a chuck 13, and the chuck 13 is connected to a spin motor 15, motor pedestal 17, and air cylinder shaft 19.例文帳に追加

ウエハ１はチャック１３の上面に保持され，チャック１３は，スピンモータ１５，モータ台座１７，エアシリンダ軸１９に連結されている。 - 特許庁

The UV resin is spreaded to the outside more than the substrate 1, protrusion due to the surface tension is generated at an end plane of the spin tray 2.例文帳に追加

ＵＶレジンは、基板１よりも外側まで延伸され、表面張力による盛り上がりは、スピントレー２の端面に発生する。 - 特許庁

Magnets 2a are respectively provided inside supporting parts 21 of each turning holding member 2 provided on a top surface of a spin base 1.例文帳に追加

スピンベース１の上面に設けられた各回動式保持部材２の支持部２１の内部には、磁石２ａがそれぞれ設けられている。 - 特許庁

The substrate W carried into a processing chamber 1 is held in a spin chuck 2 in a state where its substrate front surface Wf faces upward.例文帳に追加

処理チャンバー１内に搬入された基板Ｗは、基板表面Ｗｆを上方に向けた状態でスピンチャック２に保持される。 - 特許庁

A second substrate having a second recording layer on one surface thereof is manufactured and the UV curing resin is spin-coated on the second recording layer.例文帳に追加

又、片面に第２の記録層を有する第２の基板を作製し、紫外線硬化樹脂を第２の記録層上にスピンコートする。 - 特許庁

When a cleaning process is finished, a shielding plate 2 is arranged at a position close to the upper surface of a wafer W held by a spin chuck 1.例文帳に追加

洗浄処理が終了すると、遮断板２がスピンチャック１に保持されたウエハＷの上面に近接した位置に配置される。 - 特許庁

A coating unit (SCT) 12, which is one operation form of the apparatus for forming the coating film, has a spin chuck 71 for holding a semiconductor wafer of the substrate nearly horizontal, a motor 72 for rotating the spin chuck 71 and a coating liquid discharge nozzle 81 for discharging the coating liquid to the surface of the wafer W held by the spin chuck 71.例文帳に追加

塗布膜形成装置の一実施形態である塗布処理ユニット（ＳＣＴ）１２は、基板たる半導体ウエハＷを略水平に保持するスピンチャック７１と、スピンチャック７１を回転させるモータ７２と、スピンチャック７１に保持されたウエハＷの表面に塗布液を吐出する塗布液吐出ノズル８１とを具備する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 1 includes: a nitrohydrofluoric acid nozzle 5 for supplying nitrohydrofluoric acid to the top surface of a wafer W held in a spin chuck 4; and a DIW(deionized water) nozzle 7 for supplying DIW toward the circumferential edge portion of the top surface of the wafer W held in the spin chuck 4.例文帳に追加

基板処理装置１は、スピンチャック４に保持されたウエハＷの上面にフッ硝酸を供給するためのフッ硝酸ノズル５と、スピンチャック４に保持されたウエハＷ上面の周縁部に向けてＤＩＷを供給するためのＤＩＷノズル７とを備えている。 - 特許庁

The substrate processing device includes a spin chuck for rotating a wafer W, and a front-surface cleaning brush 28, a circumferential-end surface cleaning brush 29, and a backside-surface cleaning brush 30 for cleaning circumferential edge parts of the wafer W.例文帳に追加

基板処理装置は、ウエハＷを回転させるためのスピンチャックと、ウエハＷの周縁部を洗浄するための表面洗浄ブラシ２８、周端面洗浄ブラシ２９および裏面洗浄ブラシ３０とを備えている。 - 特許庁

The substrate treatment apparatus comprises a spin chuck 2 for approximately horizontally holding and rotating a wafer W, and a nozzle 3 for supplying a treatment liquid (SPM liquid) to the upper surface of the wafer W held and rotated by the spin chuck 2.例文帳に追加

この基板処理装置は、ウエハＷをほぼ水平に保持して回転させるスピンチャック２と、このスピンチャック２によって保持されて回転されているウエハＷの上面に処理液（ＳＰＭ液）を供給するノズル３とを備えている。 - 特許庁

A single-wafer removing apparatus 1 comprises a rotary spin chuck 2 that holds a wafer W almost horizontally and a straight nozzle 3 for feeding a resist removing liquid on the surface of the wafer W held by the spin chuck 2.例文帳に追加

枚葉式剥離装置１には、ウエハＷをほぼ水平に保持して回転するスピンチャック２と、このスピンチャック２に保持されたウエハＷの表面にレジスト剥離液を供給するためのストレートノズル３とが備えられている。 - 特許庁

For forming sidewall spacer films necessary for forming an LDD structure, coating-of an insulative liquid having a high-viscosity coefficient, such as a SOG (spin on glass) liquid, is performed on the surface of the substrate 21 including the films 27 and the oxide film 23 and a flat SOG film 28 is formed.例文帳に追加

ＬＤＤ構造を形成するために必要なサイド・ウォール・スペーサ膜を形成すべく、絶縁性の高粘性係数をもった液体、例えばＳＯＧ（Spin On Glass）の塗布を行い、平坦なＳＯＧ膜（２８）を形成する。 - 特許庁

A resist applying apparatus includes a cleaning tool 20 sucked and held on a spin chuck; a container surrounding the spin chuck and the cleaning tool 20; and a cleaning liquid jetting nozzle for jetting the cleaning liquid onto the rear surface of the cleaning tool 20.例文帳に追加

レジスト塗布装置は、スピンチャックに吸着保持された洗浄治具２０と、スピンチャック及び洗浄治具２０を取り囲む容器と、洗浄治具２０の裏面に洗浄液を噴射する洗浄液供給ノズルとを有している。 - 特許庁

The both tubular bodies 10, 11 are united with the slanting surface portion 28a welded to the outlet side weld portion 21 by the spin welding.例文帳に追加

この傾斜面部２８ａを流出側溶着部２１に対しスピン溶着法により溶着して両管状体１０、１１を一体化する。 - 特許庁

To improve the efficiency of a coating liquid to be used by improving a process in which the coating liquid is stuck on the surface of a substrate in spin coating.例文帳に追加

スピン塗布において、基板表面への塗布液付着工程を改善することにより、塗布液の使用効率を大幅に向上させる。 - 特許庁

To uniformly form a thick film consisting of a high-viscosity photoresist on the surface of a substrate and without involving bubbles in the thick film by the operation of one time of a spin coating.例文帳に追加

高粘度フォトレジストの厚膜を基板表面に均一に、かつ気泡が巻き込まれることなく、１回のスピンコート操作で成膜する。 - 特許庁

A sheet 65 made of low- expansion silicone rubber with elasticity is bonded onto the support 62a so that the upper surface of the spin chuck 61 is covered.例文帳に追加

スピンチャック６１の上面を覆うように，弾性を有する低発泡シリコーンゴムのシート６５が支持部６２ａ上に接着されている。 - 特許庁

An epoxy resin 7 is applied by spin coater, roll coater, and the like on a surface of a board (6) formed by semi-additive method or subtractive method (7).例文帳に追加

セミアディティブ法またはサブトラクティブ法により形成された基板（６）の表面にエポキシ系の樹脂７をスピンコータ、ロールコータなどで塗布する（７）。 - 特許庁

The upper end part of a spin shaft (5) is provided with a vacuum suction pad (6) which fixes the lower surface central part of a semiconductor wafer (WH) through suction.例文帳に追加

スピンシャフト（５）の上端部には、半導体ウェーハ（ＷＨ）の下面中心部を吸引固定する真空吸引パッド（６）が設けられている。 - 特許庁

To provide a spin processor wherein a substrate held on a bearing surface is never floated much when it is clamped.例文帳に追加

この発明は受け面に支持された基板をクランプする際、基板が大きく浮き上がるのを防止したスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

Hereby, the opposite surface of the spin base 5 and the plurality of supporting pin 7 are cleaned with the pure water, thereby obviating the wafer W from being contaminated.例文帳に追加

これにより、スピンベース５の対向面と複数本の支持ピン７とが純水により洗浄され、ウエハＷが汚染するのを防止できる。 - 特許庁

Above the spin chuck 31, an optical film thickness system 51 is arranged for measuring the thickness of a thin film on the surface of the wafer W.例文帳に追加

このスピンチャック３１の上方には、ウエハＷの表面の薄膜の膜厚を測定するための膜厚光学系５１が配置されている。 - 特許庁

Although masking is done on the circular groove using the spin-on glass, the wafer's front surface is exposed to an etchant, which etches the peripheral lip preferentially.例文帳に追加

円形溝はスピン・オン・ガラスによってマスキング処理されるが、ウエハの前面はエッチング剤にさらされて外周リップを優先的にエッチングする。 - 特許庁

Mizukiri is a game of throwing a stone with spin toward the water surface to make it skip over the water, sometimes competing how many times the stone skips. 例文帳に追加

水切り（みずきり）は水面に向かって回転をかけた石を投げて水面で石を跳ねさせて、その回数を競ったりする遊びの事。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The wafer W is pulled to the spin base 7 side, and the lower part of the circumferential end surface of the wafer W is pressed against the fixing/supporting members 10a-10f.例文帳に追加

ウエハＷがスピンベース７側に引き寄せられ、ウエハＷの周端面の下方部が固定支持部材１０ａ〜１０ｆに押し付けられる。 - 特許庁

A plurality of fixing/support members 10a-10f are fixed and are arranged on a circumferential edge part of an upper surface of the spin base 7, at a substantially equal angle interval.例文帳に追加

スピンベース７の上面には、その周縁部に複数個の固定支持部材１０ａ〜１０ｆがほぼ等角度間隔で固定配置されている。 - 特許庁

After the surface of a wafer W is processed with a chemical liquid, the surface of the wafer W is rinsed by DIW while a surface 14 counter to a shielding plate 4 is close to the surface of the wafer W held by a spin chuck 2 (refer to figure 4(b)).例文帳に追加

ウエハＷの表面に薬液処理が行われた後、遮断板４の対向面１４がスピンチャック２に保持されたウエハＷの表面に近接された状態で、ＤＩＷによるリンス処理がウエハＷの表面に行われる（図４（ｂ）参照）。 - 特許庁

To provide-electron-optical equipment capable of developing magnetic anisotropy toward a cathode axis direction (traveling direction of spin polarization electrons) and thereby capable of efficiently carrying out the measurement of a spin polarization rate and an analysis/surface analysis of a magnetic material sample.例文帳に追加

陰極軸方向（スピン偏極電子の進行方向）への磁気異方性を発現することができ、もってスピン偏極率の測定や磁性体試料の解析・表面分析などを効率よく行うことが可能な電子光学機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a spray/spin coating method constituted so as to cover the predetermined surface region of a rotary substrate with a mask to spray a chemical liquid, not only to conserve the chemical liquid but also to shorten a coating time and a drying time, and to provide a spin coating device.例文帳に追加

回転する基板の所定の表面領域をマスクで覆って薬液を噴霧することにより、薬液を節約し、塗布時間並びに乾燥時間を短縮しようとするスプレー併用スピンコート方法及びスピンコート装置を提供することである。 - 特許庁

Thereby, a tapered shaft surface 611 of the supporting member 600a abuts a tapered hole surface HT of a spin base 700, thereby causing an interspace between a lift shaft 605 and a member-inserting hole H to be closed by the tapered shaft surface 611.例文帳に追加

それにより、保持部材６００ａの軸傾斜面６１１がスピンベース７００の孔傾斜面ＨＴに当接し、昇降軸６０５と部材挿入孔Ｈとの間の隙間が軸傾斜面６１１により閉塞される。 - 特許庁

The pure water supplied from the lateral cleaning nozzle 23, on the other hand, is provided to the space between the undersurface of the wafer W and an opposite surface of a spin base 5.例文帳に追加

一方、側部洗浄ノズル２３から供給された純水はウエハＷの下面とスピンベース５の対向面との間の空間に向けて供給される。 - 特許庁

A ^1H spin of the contact liquid thereby diffuses gradually from the surface to the sample contacting therewith, after the ^1H contained in the sample is relaxed.例文帳に追加

従って、試料に含まれる^1Hが緩和した後、接触液の^1Hスピンをそれに接触している試料の方に、表面から徐々に拡散させて行く。 - 特許庁

To provide a bottom spin valve magnetometric sensor using GMR, which can read out magnetic information with a surface recording density exceeding 9.3 x 10^4 Gbit/m^2.例文帳に追加

９．３×１０^４Ｇbit／ｍ^２を超えるような面記録密度の磁気情報を読み出し可能な、ＧＭＲを利用したボトムスピンバルブ磁気センサを提供する。 - 特許庁

In applying, it is favorable to spray the mold separating agent on a surface of the resist while forming a thin film of the resist on a substrate by spin coating.例文帳に追加

その塗布は、スピンコートによって基板上にレジストの薄膜を形成する間に、当該レジストの表面に離型剤を噴霧するのが好ましい。 - 特許庁

In a state wherein a spin chuck is rotated (S3) and an etching liquid is supplied (S4), the thickness of a film on the surface of the wafer is measured in real time (S5).例文帳に追加

スピンチャックを回転し（Ｓ３）、かつ、エッチング液を供給している状態で（Ｓ４）、ウエハ表面の膜の膜厚がリアルタイムで測定される（Ｓ５）。 - 特許庁

To provide a spin processor which can hold a substrate by reliably bringing a plurality of holding parts into contact with the peripheral surface of the substrate.例文帳に追加

この発明は基板の外周面に複数の保持部を確実に当接させてこの基板を保持できるようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

First and second water paths 31 and 32 composed of grooves are formed on an upper surface plate 12 covering a peripheral part at the upper end of the washing tub 3 and a spin-drying tub 2.例文帳に追加

洗濯槽３及び脱水槽２の上端の周部を覆う上面板１２に溝から成る第１、第２水路３１、３２を形成する。 - 特許庁

Then, a process liquid is supplied onto the surface 60a of the template 60, and the spin chuck 62 is rotated to fill the flow paths 91 with the process liquid.例文帳に追加

次いで、テンプレート６０の表面６０ａに処理液を供給すると共にスピンチャック６２を回転させて流通路９１に処理液を充填する。 - 特許庁

The magnetoresistive device 1 is provided with a pair of electrodes 3 and 4 to send a sense current in a direction vertical to the film surface of the spin valve type magnetoresistive film 2.例文帳に追加

磁気抵抗効果素子１はスピンバルブ型磁気抵抗効果膜２の膜面垂直方向にセンス電流を通電する一対の電極３、４を有する。 - 特許庁

Then the overlay film agent is injected from the nozzle 143 and applied by a spin coating method on the surface of the resist film to form an overlay film.例文帳に追加

その後ノズル１４３から上層膜剤が吐出され、上層膜剤がスピン塗布法によりレジスト膜の表面に塗布されて上層膜が形成される。 - 特許庁