「surface thin layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

In the device, a high-field drift layer 6 is formed on the surface side of an n-type silicon substrate 1 that is a conductive substrate, a field alleviating layer 9 consisting of silicon nitride film is formed on the high-field drift layer 6 and a surface electrode 7 consisting of a thin metal film is formed on the field alleviating layer 9.例文帳に追加

導電性基板たるｎ形シリコン基板１の表面側に強電界ドリフト層６を形成し、強電界ドリフト層６上に窒化シリコン膜よりなる電界緩和層９を形成し、電界緩和層９上に金薄膜よりなる表面電極７を形成している。 - 特許庁

In the thin-film transistor 10, a gate electrode 2, an organic insulation layer 3, a metal oxide insulation layer 4, and a channel layer 6 are arranged in this order on the surface of a substrate 1, and a source electrode 7 and a drain electrode 8 are arranged on the surface of the channel layer 6.例文帳に追加

薄膜トランジスタ１０は、基板１の表面に、ゲート電極２、有機物絶縁層３、金属酸化物絶縁層４及びチャネル層６がこの順に配置され、該チャネル層６の表面にソース電極７及び前記ドレイン電極８が配置された構成となっている。 - 特許庁

A magnetic layer, made of a Co metal magnetic thin film, is formed by vacuum deposition on one main surface of a layer containing no carbon black which constitutes a base film of multi-layer structure comprising a nonmagnetic base material, and a protective film comprising a carbon film, is formed on the surface of the magnetic layer through a plasma CVD method.例文帳に追加

非磁性支持体からなる多層構造のベースフィルムを構成するカーボンブラックを含有しない層の一主面に真空蒸着によりＣｏ金属磁性薄膜からなる磁性層を形成し、該磁性層の表面にプラズマＣＶＤ法によりカーボン膜からなる保護膜を形成する。 - 特許庁

The decorative sheet is the one in which, on at least one surface of a sheet-like base material, a metal thin film layer, a printing layer, and an uneven layer at least one surface of which is formed into an uneven shape are laminated in order and the above printing layer consists of a transparent or translucent material that can be seen through.例文帳に追加

シート状基材の一方の面側に少なくとも金属薄膜層、印刷層、および、少なくとも一方の面が凸凹形状に形成され、前記印刷層が透視可能な透明または半透明材料からなる凸凹層が順に積層されていることを特徴としている。 - 特許庁

In the electronic component 10 having the terminal 15, an Sn-based plating layer 16 and an Sn-based compound layer 17 on its surface with the thickness in the range between 500 nm and 1,000 nm are formed on the surface of the terminal 15 as the Sn-based thin film layer.例文帳に追加

端子１５を有する電子部品１０において、端子１５の表面に、Ｓｎ系薄膜層として、Ｓｎ系めっき層１６と、その表面に厚さ５００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲であるＳｎ系化合物層１７を形成する。 - 特許庁

The false eyelashes include an extremely thin base 1, an adhesive layer 4 formed in a linear state on the surface of the base, many hair materials 3 individually stuck to the adhesive layer in a separated state, and an adhesive layer 7 formed on the whole reverse surface of the base.例文帳に追加

極薄のベース１と、該ベースの表面に直線状に形成された接着層４と、該接着層に個々に分離状態にて貼着された多数本のヘア材３と、上記ベースの裏面全面に形成された粘着層７とからなる。 - 特許庁

In this method of manufacturing a thin film transistor, the surface of the semiconductor layer of a channel section 19 is formed in a predetermined recessed and projecting surface at the time of performing channel etching for removing a prescribed ohmic layer 14 and its diffusion layer by plasma etching.例文帳に追加

本発明の薄膜トランジスタの製造方法は、所定のオーミック層１４およびその拡散層をプラズマエッチングにより除去するチャンネルエッチングを行うとき、チャネル部１９の半導体層表面を予め定めた凹凸にすることとした。 - 特許庁

As an embodiment, a wall paper base material 2, the cushion layer 3, a printed pattern layer 4, a plastic film or sheet layer 5, a primer layer 6 and the photocatalyst thin film layer 7 are laminated in this order, and the uneven pattern A is provided on the surface to constitute the wall paper 1 with the photocatalyst.例文帳に追加

具体的には、壁紙基材２、クッション層３、印刷模様層４、プラスチックフイルム乃至びシート層５、プライマー層６及び光触媒薄膜層７を順次積層し、表面には凹凸模様Ａを施すようにして光触媒付き壁紙１を構成する。 - 特許庁

The coil element is characterized in that it comprises a first thin film coil 1 spirally formed in the plane of a surface, a second thin film coil 2 spirally formed along and adjacent to the first thin film coil in the same plane where the first thin film 1 is formed, and an insulating layer 3 provided between the first thin film coil 1 and the second thin film coil 2.例文帳に追加

面内にスパイラル状に形成された第１の薄膜コイル１と、第１の薄膜コイル１と同一面内において第１の薄膜コイル１に沿い隣接してスパイラル状に形成される第２の薄膜コイル２と、第１の薄膜コイル１と第２の薄膜コイル２の間に設けられた絶縁層３とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The packaging material for overlap comprises a laminate obtained by successively laminating an inorganic oxide vapor deposition thin film layer 2, a reinforcing resin layer 3 for increasing stiffness, a heat-sealing layer 4a, and an antistatic layer 5 on one surface of a base material film 1 and laminating a heat-sealing layer 4b on the other surface of the base material film 1.例文帳に追加

基材フイルム１の一方の面に無機酸化物の蒸着薄膜層２、腰を強くする為の補強用樹脂層３、ヒートシール層４ａ、帯電防止層５を順次積層し、他方の面にヒートシール層４ｂを積層した積層体からなることを特徴とするオ−バーラップ用包装材料。 - 特許庁

A wiring layer 7 having a flat part 8 having a flat surface is stacked on the semiconductor substrate 2, and the lower thin film 10 faces the surface of the flat surface 8 in parallel to it.例文帳に追加

半導体基板２上には、表面が平坦面である平坦部８を有する配線層７が積層されており、下薄膜１０は、その平坦部８の表面と平行をなして対向している。 - 特許庁

A titanium layer 4 is formed on the surface of an alumina board 2 through sputtering method, a platinum thin film 6 is formed on the titanium layer 4 through sputtering method, and then the platinum thin film 6 is regulated or increased in its temperature coefficient of resistance by annealing for the formation of a platinum thin-film resistor.例文帳に追加

アルミナ基板２の表面上にスパッタリングによるチタン層４の形成を行い、チタン層４上にスパッタリングによる白金薄膜６の形成を行った後に、白金薄膜６の抵抗温度係数を調整あるいは増大させるアニールを行って白金薄膜抵抗体を製造する。 - 特許庁

The pattered transparent electrode is prepared by stacking a transparent high refractive index thin film layer (a) and a metal thin film layer 30 (b) made of silver or a silver alloy on a transparent substrate 10 (A) as transparent conductive thin film layers in the constitution of A/a/b/a, and forming no stacked parts within the stacked surface.例文帳に追加

透明基板１０（Ａ）上に、透明高屈折率薄膜層２０（ａ）、銀又は銀合金からなる金属薄膜層３０（ｂ）が透明導電性薄膜層として、Ａ／ａ／ｂ／ａの構成で積層されており、積層面内に積層されていない部分も有するパターニングされた透明電極。 - 特許庁

The diffuse reflection plate is manufactured by a process of pressing the transfer film on the base so that the thin film layer faces the base, a process of peeling the temporary support and a process of forming a reflective film on the surface onto which the thin film layer is transferred.例文帳に追加

転写フィルムを基板に薄膜層が面するように押し当てる工程と、前記仮支持体を剥がす工程と、薄膜層の転写された表面に反射膜を形成する工程により拡散反射板を作製する。 - 特許庁

A surface of the aluminum layer is formed with a thin film of Au or the like such that the thin film contacts with the Ni embedded layers, and bottom end parts of the nanoholes and the Al substrate are separated by a barrier layer of aluminum.例文帳に追加

そして、多孔質アルミナ層の表面に、Ｎｉ埋め込み層と接触するようにＡｕなどの薄膜が形成され、さらにナノホールの底端部とＡｌ基板とは、アルミナから成るバリア層により隔てられた構造になっている。 - 特許庁

The deposition substrate 1 is provided in which a thin film layer 3 having an uneven structure is deposited in a flat part on the surface of a depositing substrate 2, and the uneven structure is formed by depositing the thin film layer 3 including indium oxide.例文帳に追加

成膜基板１は、被成膜基板２表面の平坦部に、凹凸構造を有する薄膜層３が成膜された基板であって、凹凸構造は、酸化インジウムを含んだ薄膜層３が成膜されることで形成されたものとする。 - 特許庁

Plasma processing is performed on the surface of a sheet-like substrate, composed of aromatic polyamide and then a metal thin film layer, principally comprising an alloy of nickel and chromium and a thin-film layer of copper are formed thereon to produce a substrate for flexible printed circuit.例文帳に追加

芳香族ポリアミドからなるシート状基材表面にプラズマ処理を行い、その上にニッケルとクロムからなる合金を主成分とする金属薄膜層、および銅の薄膜層を有するフレキシブルプリント回路用基板。 - 特許庁

With respect to the wiring substrate, each thin-film metal layer 4 is formed in the periphery of each via opening 2 of the surface of a ceramic substrate 1, and each wiring conductor 5 is formed so as to cover the surfaces of the thin-film metal layer 4 and each via conductor 3.例文帳に追加

配線基板は、セラミック基板１の表面のビア開口２の周囲に薄膜金属層４が形成され、薄膜金属層４および前記ビア導体３表面を覆うように配線導体５が形成されている。 - 特許庁

Metal powder or alloy powder 8 is jetted together with a carrier gas toward the back surface 4 of a design in a thin region 3 or a region 6 to be reinforced of the electroformed layer of the metallic die to form a metal layer 5 in the thin region.例文帳に追加

金型電鋳層において、肉薄領域３あるいは補強領域６の意匠裏面４に向けて金属粉末または合金粉末８をキャリアガスとともに噴射して、肉薄領域に金属層５を形成する。 - 特許庁

In this manufacturing method, a rapid thermally oxidized porous polysilicon layer 6 is formed on the surface side of an n-type silicon board 1 as a conductive board, and a gold thin film 7 of a metallic thin film is formed on the quick thermally oxidized porous polysilicon layer 6.例文帳に追加

導電性基板たるｎ形シリコン基板１の表面側に急速熱酸化された多孔質ポリシリコン層６を形成し、急速熱酸化した多孔質ポリシリコン層６上に金属薄膜たる金薄膜７を形成する。 - 特許庁

To provide a surface reformed pressurizing roller which obviates the occurrence of modified surface cracking after baking in spite of forming a fluororesin layer thin by coating on silicone rubber, has a small surface roughness of the fluororesin surface layer, and can prevent the vaporization and oozing of low-molecular weight siloxane, silicone oil, etc., during baking of the fluororesin surface layer and during the use of the roller.例文帳に追加

シリコーンゴムの上に、コーティングによりフッ素樹脂層を薄く形成しても焼成後に表層割れの発生もなく、フッ素樹脂表層の表面粗さも小さく、かつフッ素樹脂層焼成時やローラー使用時に低分子量シロキサン、シリコーンオイル等の揮発・滲み出しを防ぐことのできる、表面改質された加圧ローラーを提供することを目的とする。 - 特許庁

A coating liquid for forming a surface layer the thin film of which formed on a flat plate has a gloss level of 2.0-30.0 (when measured at an incidence angle of 85°) is used for forming a surface layer, and the surface roughness Ra of the development roller is 0.9-2.1 μm.例文帳に追加

表面層形成に、平板上に形成した薄膜が光沢度（入射角８５°で測定）２．０以上３０．０以下である表面層形成用塗工液を使用し、現像ローラの表面粗さＲａが０．９μｍ以上２．１μｍ以下である。 - 特許庁

When the magnetic recording medium of a metal thin-film type is manufactured by forming a magnetic layer 2 and a protection layer 3 on one main surface of a nonmagnetic support 1, and a transfer prevention layer 4 and a back layer 6 on the other main surface, the magnetic layer 2 and the transfer prevention layer 4 are sequentially and continuously formed in the same vacuum chamber.例文帳に追加

非磁性支持体１の一主面上に、磁性層２と保護層３とが形成されてなり、他の一主面上に、転写防止層４およびバック層６が形成された金属薄膜型の磁気記録媒体を製造する際、磁性層２と転写防止層４とを、同一の真空チャンバー内において、順次連続的に成膜する。 - 特許庁

The plated material for the terminal or the connector has the Au plating layer formed on the surface of a base material composed of the stainless steel thin plate, wherein the arithmetic surface roughness (Ra) of the plating layer measured by an atomic force microscope is 3.0 nm or less.例文帳に追加

ステンレス鋼薄板からなる基材の表面に、原子間力顕微鏡により測定した算術表面粗さ（Ra）が３．０ｎｍ以下であるＡｕめっき層を形成してなる端子又はコネクタ用めっき材である。 - 特許庁

The thin battery has a cathode electrode layer 2 made of a conductive metal on the surface of an insulating substrate 1 consisting of a polymer synthetic resin substrate and an inorganic material substrate, and an electromotive layer 3 further on its upper surface.例文帳に追加

薄形電池は高分子合成樹脂基板、無機材料基板からなる絶縁基板１の上面に導電性金属からなる正極電極層２を備え、さらにその上面には起電層３が備えられる。 - 特許庁

The surface roughness of the magnetic layer 6 is reduced and the surface of the magnetic layer 6 is flattened by concretely forming three layers of the sintered-body layers 61 to 63, by repeating the application and baking of magnetic powder-filled thin glass paste at three times.例文帳に追加

具体的には、磁粉入りの薄いガラスペーストの塗布及び焼成を３回繰り返して３層の焼結体層６１〜６３を形成することにより、磁性層６の表面粗さを小さくして平坦にした。 - 特許庁

An insulator layer 5 insulating between the inner electrode 3a and the outer electrode 4a is provided between the inner electrode 3a and the outer electrode 4a, and a surface layer 6 covering the outer circumferential surface side of the outer electrode 4a is also provided in the metallic thin-walled tube electrode member 10a.例文帳に追加

内側電極３ａと外側電極４ａとの間には、これらの間を絶縁する絶縁層５が設けられ、また、外側電極４ａの外周面側を覆う表層６も設けられている。 - 特許庁

To prevent wiring accuracy from being lowered by etching fine wiring already, molded as well when etching a thin metal layer in semi-additive method (FAM: foil additive method) for forming fine wiring, by removing the thin metal layer on the surface of an insulating substrate after adding the thin metal layer on the surface of the substrate, and forming a wiring pattern with electric plating.例文帳に追加

絶縁基板表面に薄手の金属層を付加し、電気めっきにより配線パターンを形成後、基板表面の薄手金属層を除去して微細配線を形成するセミアデイテイブ（ＦＡＭ：Ｆｏｉｌ Ａｄｄｉｔｉｖｅ Ｍｅｔｈｏｄ）工法において、薄手金属層のエッチング時に既に成形した微細配線をもエッチングして、配線精度の低下を招くことを防止する。 - 特許庁

In the contact member which has a noble metal thin film layer 5 on the surface of a substrate 2, a nano diamond particle of 2 nm to 1 μm in the particle diameter is co-deposited at 0.1 to 5.0 wt.% on the surface and the interior of the noble metal thin film layer 5, and the soft solder transfer property can be enhanced.例文帳に追加

基材２の表面に貴金属薄膜層５を形成してなる接点部材において、上記貴金属薄膜層５の表面及び内部に粒径が２ｎｍ〜１μｍのナノダイヤモンド粒子を０．１〜５．０重量％の割合で共析させ、ハンダ転写性を良くしたことを特徴とする。 - 特許庁

METHOD OF FORMING METAL THIN-FILM LAYER ON CONDUCTIVE ITO FILM OR ON GLASS SUBSTRATE SURFACE AS BASE SUBSTRATE OF ITO FILM, AND METAL THIN-FILM LAYER ON CONDUCTIVE ITO FILM OR ON GLASS SUBSTRATE SURFACE AS BASE SUBSTRATE OF THE ITO FILM例文帳に追加

導電性ＩＴＯ膜上、あるいは導電性ＩＴＯ膜の下地基板とするガラス基板表面上への金属薄膜層の形成方法、および該方法による導電性ＩＴＯ膜上、あるいは導電性ＩＴＯ膜の下地基板とするガラス基板表面上の金属薄膜層 - 特許庁

Further, this manufacturing method of the diffuse reflecting plate includes a process for pressing the transferring laminate to the application base plate so as to bring contact with the bonding surface of the thin film layer, a process for peeling off the temporary support and a process for forming a reflecting film on the rugged surface of the thin film layer.例文帳に追加

さらに、この転写用積層体を適用基板に薄膜層の接着面が接するように押し当てる工程、前記仮支持体を剥がす工程及び薄膜層の凹凸表面に反射膜を形成する工程を含むことを特徴とする拡散反射板の製造方法。 - 特許庁

At least on one surface of a glass flat plate 11 of the phase plate, a thin layer 12a is formed by using materials having refractive indexes that are ≥1.6, and on the surface of the thin layer 12a, a fine irregular structure of cross-sectional rectangular wave-shapes due to lands and spaces is formed as a sub-wavelength structure.例文帳に追加

位相板は、ガラス平板１１の少なくとも一方の面に、屈折率：１．６以上の材料による薄層１２ａが形成され、薄層１２ａの表面に、ランドとスペースによる断面矩形波状の微細凹凸構造がサブ波長構造として形成されたことを特徴とする。 - 特許庁

After a thin-film semiconductor layer 3 is formed, a flat transparent conductive film 4a is formed on the thin-film semiconductor film 3 by the sputtering method, the surface of the formed rear surface transparent conductive film is dipped into a dilute hydrochloric acid or a dilute acetic acid, and at the same time ultraviolet rays are selectively applied to the surface.例文帳に追加

薄膜半導体層３形成後その上にフラットな透明導電膜４ａをスパッタ法で形成し、形成した裏面透明導電膜表面を希塩酸または希酢酸に浸すとともに、その表面に紫外線を選択的に照射する。 - 特許庁

After a transparent electrode film 18 is formed on a substrate 22, and a first metal thin film 31 is formed on a surface of the transparent electrode film 18, a second metal thin film 32 is formed on a surface of the first metal thin film 31 by a sputtering method, and thus a lower electrode layer 30 is provided.例文帳に追加

基板２２上に透明電極膜１８を形成し、透明電極膜１８の表面に第一の金属薄膜３１を形成してから、第一の金属薄膜３１表面にスパッタリング法で第二の金属薄膜３２を形成して下部電極層３０とする。 - 特許庁

In the plastic container with a thin film deposited on its surface, a thin film decorative layer (3) having a high refractive index for giving decorativeness is laminated by tens of nm or more on a surface of a plastic base material (2) of the plastic container (1).例文帳に追加

表面に薄膜が形成されたプラスチック容器において、プラスチック容器（１）のプラスチック基材（２）表面に、加飾性を付与するための高屈折率を有する薄膜加飾層（３）を、数１０ｎｍ以上積層させる。 - 特許庁

The plasmon excitation sensor includes a transparent planar substrate 1; a metal thin film 11 formed on one surface of the substrate; a spacer layer, made of a dielectric formed on the other surface does not abut against the substrate of the metal thin film; and a ligand that is immobilized on the other surface which does not abut against the metal thin film of the spacer layer and is labeled by a fluorescent dye 5.例文帳に追加

透明平面基板１と、該基板の表面に形成された金属薄膜１１と、該金属薄膜の、該基板とは接していないもう一方の表面に形成された、誘電体からなるスペーサ層と、該スペーサ層の、該金属薄膜とは接していないもう一方の表面に固定化された、蛍光色素５により標識されたリガンドとを含むことを特徴とするプラズモン励起センサ。 - 特許庁

In forming a thin film comprising catalyst metal particles on the surface of a substrate and growing carbon nanotubes on the thin film by chemical vapor deposition by using the catalyst particles on the thin film as nuclei, a specifically patterned chromium layer that prevents carbon nanotube growth is interposed between the substrate and the thin film to allow the carbon nanotubes to grow on only an area where no thin film chromium layer is present.例文帳に追加

基板表面に触媒金属粒子からなる薄膜を形成し、該薄膜の触媒粒子を核として薄膜上に化学蒸着法によりカーボンナノチューブを成長させるに当たり、基板と上記薄膜の間に、カーボンナノチューブの成長を阻止するクロム層を所要パターンで介在させることにより、薄膜のクロム層非介在部のみにカーボンナノチューブを成長させる。 - 特許庁

The method is intended to form the thin-film solar cell and has a period to simultaneously form a transparent electrode layer and metal layer on a single substrate 10 when forming a laminated structure with the transparent electrode layer and metal layer as the back electrode layer on the surface opposite to an optical incident side of the thin-film solar cell.例文帳に追加

薄膜太陽電池を形成する太陽電池の製造方法であって、薄膜太陽電池の光入射側とは反対側の面に裏面電極層として透明電極層及び金属層の積層構造を形成する際に、１つの基板１０に対して透明電極層と金属層とを同時に成膜する期間を設ける。 - 特許庁

Such a flexure blank for a magnetic head as equipped with the flying lead 8 is processed in a manner that, after a surface protective layer 9 is formed for a wiring pattern 7, a corrosion-resistant thin film layer like a thin film chrome layer 10 is formed at least on the outer face of the flying lead 8 as an etching pre-processing for a spring metallic layer 1.例文帳に追加

このようなフライングリ−ド８を備えた磁気ヘッド用フレクシャーブランクは、配線パタ−ン７に対する表面保護層９を形成した後に、バネ性金属層１に対するエッチング前処理として少なくともフライングリ−ド８外面に薄膜クロム層１０等の耐腐食性薄膜層を形成する。 - 特許庁

In the decorative sheet, a metal thin film layer 3 integrally overlies all over a base material sheet 1 through an urethanic adhesive layer 2, an acrylic resin sheet 4 integrally overlies the metal thin film layer 3, and an adhesive layer 5 integrally overlies the other surface of the base material sheet 1.例文帳に追加

基材シート１の一面にウレタン系接着剤層２を介して金属薄膜層３が積層一体化されていると共に、上記金属薄膜層３上にはアクリル系樹脂シート４が積層一体化され、上記基材シート１の他面には粘着剤層５が積層一体化されている装飾シート。 - 特許庁

The oxide thin-film transistor substrate 1 is characterized in that a protection film 10 covering over an oxide semiconductor layer 7 is formed on an upper surface of an interlayer insulating layer 8 being the same layer as a pixel electrode 9 apart from the pixel electrode 9.例文帳に追加

酸化物薄膜トランジスタ基板１は、酸化物半導体層７の上方を覆う保護膜１０を、画素電極９と同一層である層間絶縁層８の上面に、画素電極９とは離間して形成した。 - 特許庁

The gas barrier film is constituted by laminating a transparent resin layer (B), which contains an unsaturated carboxylic acid or its derivative, on the surface of a transparent base material film (A) and further laminating a transparent inorganic thin film layer (C) on the transparent resin layer (B).例文帳に追加

透明基材フィルム（Ａ）表面上に不飽和カルボン酸またはその誘導体からなるポリマーを含む透明樹脂層（Ｂ）を積層し、更に該樹脂層上に、透明無機薄膜層（Ｃ）を積層してなるガスバリアフィルム。 - 特許庁

Furthermore, the surface layer part of the joint silicon single crystal thin film 5, stuck on the first substrate 7, is etched back upto an etch-stop layer 6' that is formed based on the ion implantation layer 6, through this peeling operation.例文帳に追加

そして、この剥離により第一基板７上に貼り合わされた結合シリコン単結晶薄膜５表層部を、エッチストップ用イオン注入層６に基づいて形成されたエッチストップ層６’までエッチバックする。 - 特許庁

To provide a method for epitaxially forming a thin oxide film, such as an intermediate layer or a superconductive layer, by removing the oxidized layer from the surface of an oriented metallic substrate without fail and keeping the biaxial orientability of the oriented metallic substrate.例文帳に追加

配向金属基板表面の酸化層を確実に除去し、配向金属基板の２軸配向性を維持して、中間層および超電導層などの酸化物薄膜をエピタキシャルに形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for evaluation of a coordinates input panel, capable of measuring surface resistance easily and in a short time, even for a surface resistor covered with a thin film protective layer (insulating layer), and capable of measuring the surface resistance of an electrode such as the surface resistance and resistance distribution of a large-area conductive film from the surface resistance of a local electrode part.例文帳に追加

薄膜の保護層（絶縁層）を被覆した面抵抗体でも、面抵抗を簡単かつ短時間に測定でき、局所的な電極部分の面抵抗から大きな面積の導電膜の面抵抗、さらに抵抗分布といった電極の面抵抗測定ができる座標入力パネル用評価装置を提供する。 - 特許庁