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surface thin layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2008件
The thin film formation layer is so manufactured that the organic dye layer 12 is formed by coating the surface of the substrate 11 with the organic dye and the silicon polymer layer 13 is formed by coating the surface of the organic dye layer 12 with a silicon polymer.例文帳に追加
また薄膜形成体は、先ず基板11の表面に有機色素をコーティングして有機色素層12を形成し、この有機色素層12の表面にケイ素ポリマーをコーティングしてケイ素ポリマー層13を形成することにより製造される。 - 特許庁
The desired organic EL device is obtained, by laminating an organic multilayer film 3 (a positive hole transport layer 5, a luminescence layer 7, and an electronic transport layer 6) on the surface of the ITO film 2, further by laminating a metal thin-film layer 4 on the surface of the organic multilayer film 3.例文帳に追加
そして、ITO膜2の表面に有機多層膜3(正孔輸送層5、発光層7、電子輸送層6)を積層し、さらに有機多層膜3の表面に金属薄膜層4を積層することにより、所望の有機EL素子が得られる。 - 特許庁
The thin-film element 102 and a first insulating layer 103 are arranged on a substrate 101 at an interval in a surface direction of the substrate 101, a second insulating layer 104 is arranged astride the thin-film element 102 and the first insulating layer 103, and the second insulating layer 104 is arranged between the thin-film element 102 and the first insulating layer 103.例文帳に追加
基板101上に薄膜素子102と第一の絶縁層103とが基板101の面方向に間をあけて配設され、薄膜素子102および第一の絶縁層103にまたがって第二の絶縁層104が配設されると共に、第二の絶縁層104が薄膜素子102と第一の絶縁層103との間に配設される。 - 特許庁
The gallium nitride semiconductor substrate is manufactured by preparing a substrate having a thin layer Si(111) formed via an oxide film on an upper face of a bulk substrate, partially removing the thin layer Si(111), and then forming a thick film gallium nitride semiconductor layer, for example, a thick film AlGaN layer on the substrate surface where the thin layer Si(111) is formed.例文帳に追加
担体基板の上面上に、酸化膜を介して形成された薄層Si(111)を基板とし、前記薄層Si(111)の一部を除去した後、該薄層Si(111)の存在する基板表面上に厚膜の窒化ガリウム系半導体層、例えば、厚膜AlGaN層を形成することで、窒化ガリウム系半導体基板を作製する。 - 特許庁
In a bottom-gate structure thin film transistor, an oxide insulating layer as a channel protecting layer is formed on part of an oxide semiconductor layer superimposed on a gate electrode layer, and during the formation of the oxide insulating layer, an oxide insulating layer for covering a peripheral portion (including a side surface) of the oxide semiconductor layer is formed.例文帳に追加
ボトムゲート構造の薄膜トランジスタにおいて、ゲート電極層と重なる酸化物半導体層の一部にチャネル保護層となる酸化物絶縁層を形成し、その酸化物絶縁層の形成時に酸化物半導体層の周縁部(側面を含む)を覆う酸化物絶縁層を形成する。 - 特許庁
In a reverse stagger type thin film transistor, a silicon nitride layer as a gate insulating layer and a silicon oxide layer formed as an oxide of the silicon nitride layer are laminated, and a microcrystalline semiconductor layer crystal grown directly from the upper surface of an interface of the gate insulating layer with the silicon oxide layer is formed.例文帳に追加
逆スタガ型の薄膜トランジスタにおいて、ゲート絶縁層として窒化シリコン層と当該窒化シリコン層が酸化された酸化シリコン層を積層して形成し、該ゲート絶縁層の酸化シリコン層との界面直上から結晶成長した微結晶半導体層を形成する。 - 特許庁
The metallic printed matter comprises a base material layer 11, a metal thin film layer 12, a print layer 13 and a transparent film layer 14 sequentially provided in this order, and a protrusion print layer 15 tuned with a design of the layer 13 provided on a surface of the layer 14.例文帳に追加
基材層11、金属薄膜層12、印刷層13、透明フィルム層14とを、この順に設け、前記透明フィルム層14の表面に、前記印刷層13の絵柄に同調した凸部印刷層15を設けたことを特徴とする凹凸模様を有する金属調印刷物である。 - 特許庁
In a multilayer substrate provided with a power supply layer on a surface layer or an inter layer of a core substrate, distances themselves between an IC chip 90-an inter layer insulating layer-the power supply layer of the core substrate-a power supply terminal 96 are shortened and a total transmission line distance is shortened by making the insulating layer of the core substrate thin.例文帳に追加
コア基板の表層あるいは内層に電源層を備える多層基板において、コア基板の絶縁層を薄くすることにより、ICチップ90〜層間絶縁層〜コア基板の電源層〜電源端子96の距離自体を短くし、トータルの伝送線路距離を短縮する。 - 特許庁
A plated conductive substrate layer 230 is formed between an insulation layer and the patterned thin film 23 comprising a plated film, and a frame adhesion reinforcing layer 200 is partially attached or the surface of it.例文帳に追加
メッキ導通下地層230は、絶縁層25とメッキ膜からなるパターン化薄膜23の間に形成され、表面にフレーム密着増強層200が部分的に付着している。 - 特許庁
The thin film transistor 1 has the gate insulating film 7 formed by laminating a polyparaxylylene layer 7b forming a surface layer and an organic insulating layer 7a made of a different material therefrom.例文帳に追加
薄膜トランジスタ1は、表面層を構成するポリパラキシリレン層7bとこれとは異なる材料からなる有機絶縁層7aとを積層してなるゲート絶縁膜7を備えている。 - 特許庁
A release layer 102, such as a porous layer, and a thin-film single crystal 103, such as an epitaxially grown silicon layer, are formed by on the surface of a substrate 1, such as a silicone wafer, the arrangement in this order.例文帳に追加
シリコンウェハ等の基板の表面に、多孔質層等の剥離層と、この上にエピタキシャル成長したシリコン層等の薄膜単結晶をこの順序の配列にて形成する。 - 特許庁
The plastic mirror, characterized by forming a modified silicone layer on a surface of a plastic resin substrate and forming a silver thin film layer on the modified silicone layer, is provided.例文帳に追加
プラスチック樹脂基板の表面に変性シリコーン層が形成され、当該変性シリコーン層上に銀薄膜層が形成されていることを特徴とするプラスチック鏡を提供する。 - 特許庁
By reflexing the light generated from an active zone in the thin-film active layer by the isolation layer and the metalized layer formed on the surface of the mesa, luminous efficiency is improved.例文帳に追加
薄膜活性層内の活性ゾーンにより発生した光をメサの表面に形成したアイソレーション層とメタライズ層により反射させることで発光効率を向上させる。 - 特許庁
Related to a manufacturing method for a thin-film magnetic head, a lower part shield layer 16 together with a dummy layer 54 are formed, which are coated with alumina, and the surface is polished by CMP to form a flattened layer 24.例文帳に追加
薄膜磁気ヘッドの製造方法において、下部シールド層16と共にダミー層54を形成した後アルミナで被覆し、CMPにより表面研磨して平坦化層24を形成する。 - 特許庁
In the vessel having the ceramic thin film on the surface of the resin vessel body, a resin layer contains at least acid-modified resin in the surface of the vessel body with the ceramic thin film formed thereon.例文帳に追加
樹脂からなる容器本体の表面にセラミック薄膜を形成した容器において、セラミック薄膜が形成してある容器本体の表面を酸変性された樹脂を少なくとも含む樹脂層とする。 - 特許庁
A piezoelectric thin film resonator 1 has such a structure as an adhesive layer 12, a lower surface electrode 13, a piezoelectric thin film 14 and an upper surface electrode 15 are laminated in this order on a supporting substrate 11.例文帳に追加
圧電薄膜共振子1は、支持基板11の上に、接着層12、下面電極13、圧電体薄膜14及び上面電極15をこの順序で積層した構造を有している。 - 特許庁
To provide an electric discharge machining device capable of continuously machining many variant holes in the surface of a workpiece having a thin altered layer and small surface roughness and having the surface formed of a curved surface or a polyhedron.例文帳に追加
薄い変質層と小さな表面粗さを有し、曲面または多面体からなる表面を有する被加工物の表面に多数の異形穴を連続加工できる放電加工装置を提供する。 - 特許庁
The thin layer having the excellent light transmission without damaging the durability can be formed on the surface by coating the liquid preparation on the surface of the optical instrument.例文帳に追加
本液剤を光学系器材の表面に塗布することにより、該表面に、耐久性を損なうことなく光透過性に優れた薄層を形成できる。 - 特許庁
On the reverse surface of the mirror substrate 101 where a mirror surface is not formed, a metal thin film 118 having compressive stress is formed as a stress adjusting layer.例文帳に追加
ミラー基板101のミラー面が形成されない裏面に、応力調整層として圧縮応力を有する金属薄膜118が成膜される。 - 特許庁
A transparent cathode 13 (a thin film formed of, for instance, aluminum or the like) transmitting light is formed on a surface of the organic layer 12 so as to cover the surface.例文帳に追加
有機層12の表面には、その表面を覆うようにして、光を透過する透明カソード13(例えばアルミニウム等からなる薄膜)が形成されている。 - 特許庁
The pasty material is atomized over the paved surface 12 from a spray nozzle, and a thin layer 14 composed of the photocatalytic material 10 is formed on the paved surface 12.例文帳に追加
次に、噴霧ノズルより舗装表面12に噴霧し、舗装表面12に定着用光触媒材料10からなる薄い層14を形成する。 - 特許庁
On the rotary etching processor, a wafer is wetted at first with pure water and an etching solution in order to remove contaminants and a thin film surface layer from the wafer surface.例文帳に追加
主に回転蝕刻プロセッサ上において、先ず純水及び蝕刻溶液でウエハを湿潤させ、ウエハ表面の汚染物及び薄膜表層を除去する。 - 特許庁
After a toner thin layer is formed by regulating the thickness of a toner layer on a surface of a toner carrier 134Y by a regulating member 136Y, reversely charged toner particles included in the toner thin layer are recovered to a surface of a reversely charged toner recovering member 138Y in a reversely charged toner recovery nip.例文帳に追加
トナー担持体134Yの表面上のトナー層の厚みを規制部材136Yで規制してトナー薄層を得た後、トナー薄層中に含まれる逆帯電トナー粒子を逆帯電トナー回収ニップで逆帯電トナー回収部材138Yの表面に回収する。 - 特許庁
In the thin-film solar cell provided with the transparent conductive layer having characteristic uneven surface originated from a depositing method and the photoelectric conversion layer on a transparent substrate at least, the manufacturing method of the thin-film solar cell treats the surface of the transparent conductive layer with a chemical containing a chelating agent.例文帳に追加
少なくとも、透光性基板上に堆積方法由来の固有の表面凹凸を持つ透明導電層、及び光電変換層を備えた薄膜太陽電池において、透明導電層表面をキレート剤を含有してなる薬液にて処理する薄膜太陽電池の製造方法。 - 特許庁
In the operating state, when the thin plate 15a being the surface layer exposed in the processing chamber is contaminated by contaminants, the adhesion preventive member is removed, the surface layer thin plate 15a to which the contaminants are adhered is exfoliated, and the succeeding layer is exposed and re-mounted in the processing chamber.例文帳に追加
使用状態においては、処理室内で露呈状態となっている表層の薄板15aが汚染物によって汚染されたならば防着部材を取り外し、汚染物が付着した表層の薄板15aを剥離して次層を露呈させた後に処理室内に再装着する。 - 特許庁
The organic thin film solar cell includes a first electrode 12, a photoelectric conversion layer 17 containing electron donating material and electron accepting material and arranged above the first electrode 12, a surface modified layer 18 arranged on a surface of the photoelectric conversion layer 17, and a second electrode 20 formed on a surface of the surface modified layer 18.例文帳に追加
第1電極12と、電子供与性材料及び電子受容性材料を含み、第1電極12の上方に設けられた光電変換層17と、光電変換層17表面に設けられた表面改質層18と、表面改質層18表面に形成された第2電極20とを備える。 - 特許庁
To provide an organic surface-protecting layer composition, capable of forming a thin and uniform protective layer on the surface of an organic layer, capable of easily removing the formed protective layer by performing etching and inhibiting the degeneration of the organic compound presenting at the surface of the organic layer exposed by the result of the etching.例文帳に追加
有機層の表面に薄く均一な保護層を形成することができ、形成した保護層は、エッチングすることにより容易に除去することが可能であり、エッチングの結果露出した有機層の表面に存在する有機化合物の変質を抑制する有機表面保護層組成物を提供すること。 - 特許庁
The wafer for LED is obtained by forming an Au plating surface layer of Au or an Au alloy on both surfaces vertically symmetrically around a thin film core material consisting of Mo, and then forming composite underlying layer consisting at least of a Cu plating layer between the core material and the Au plating surface layer, so as to complement and maintain the core material and the Au plating surface layer.例文帳に追加
Moからなる薄板状のコア材を中心として上下対称となるように、両面にAuまたはAu合金のAuメッキ表面層を形成し、コア材とAuメッキ表面層との間にそれを補完・維持する少なくともCuメッキ層からなる複合下地層を形成してなることを特徴とする。 - 特許庁
Alternatively, the surface-treated product is characterized in that the surface of the object is covered with a thin film by a sputtering process, and the object and the thin film are reacted, so as to form a reaction layer on the surface of the object.例文帳に追加
また、本発明に係る表面処理物は、スパッタリング法によって被処理体の表面に薄膜が被覆され、前記被処理体と前記薄膜を反応させて該被処理体の表面に反応層が形成されたことを特徴とする。 - 特許庁
Besides, the optical protection thin film provides the antiglare function by adding silicon oxide minute particles of a nano meter level in the neighborhood of the uppermost surface approaching the thin film layer of the resin B.例文帳に追加
このほか、樹脂B薄膜層に接近する最上表面付近にナノメータレベルの二酸化けい素微小粒子を添加して防眩の機能を提供する。 - 特許庁
The side face electrode 6 is formed by forming a thin metallic film 32 having an electrode pattern of a predetermined pitch, and thereafter depositing a plating layer on the surface of the thin metallic film 32.例文帳に追加
側面電極6は、所定ピッチの電極パターンを有する金属薄膜32を形成し、その後、金属薄膜32の表面にメッキ層を堆積して形成される。 - 特許庁
FORMING METHOD OF UPPER MAGNETIC POLE LAYER OF THIN FILM MAGNETIC HEAD, FORMING METHOD OF FINE BLOCK PATTERN OF HIGH ASPECT RATIO ON BOTTOM OF STEP ON SURFACE HAVING STEPS, AND THIN FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加
薄膜磁気ヘッドの上部磁極層の形成方法、段差を有する表面の段差底部上に高アスペクト比微細ブロックパターンを形成する方法、並びに、薄膜磁気ヘッド - 特許庁
The thickness of the adhesive layer and the surface thereof is made smooth by squeezing out an adhesive by a thin string-like substance when the thin film tube is uniformly bonded to the base material.例文帳に追加
薄膜のチューブを基材に均一に接着する際に、紐状物質で接着剤を搾出させることによって、接着層の厚みが均一で表面を平滑にする。 - 特許庁
When a metal sulfide epitaxial thin film is formed directly on the Si substrate surface, preferably the sulfide be sulfur-terminated and a metal thin film of the platinum family be inserted on the buffer layer.例文帳に追加
Si基板直上に硫化物のエピタキシャル薄膜を形成する際、硫黄終端化し、また、バッファー層上に白金族の金属薄膜を挿入すると良い。 - 特許庁
In a lithography step of a master disk, a protective thin film is formed on a surface of an inorganic resist layer in advance, and subsequent to exposure, the protective thin film is removed and then development is conducted.例文帳に追加
原盤のリソグラフィ工程において、予め無機レジスト層の表面上へ保護薄膜を形成し、露光後に保護薄膜を剥離した上で現像を行う。 - 特許庁
Then, a substrate 1 which has a sacrificial layer 2 and a multilayered optical thin film 5 on its surface is immersed into the solution 6 in the state that the side of the multilayered optical thin film 5 is turned down (a).例文帳に追加
そして、この溶解液の中に、犠牲層2、多層光学薄膜5を表面に有する基板1を、多層光学薄膜5側を下側にして浸漬する(a)。 - 特許庁
In the sensor, a diamond thin film 2 of an ultraviolet-ray sensing layer is formed on a substrate 1, and an electrode group 20 is formed on the surface of the diamond thin film 2.例文帳に追加
基板1上には紫外線検知層であるダイヤモンド薄膜2が形成されており、このダイヤモンド薄膜2の表面上には電極群20が形成されている。 - 特許庁
The side electrode 6 is formed by forming a metal thin film 32 having an electrode pattern with a predetermined pitch and then depositing a plated layer on the surface of the metal thin film 32.例文帳に追加
側面電極6は、所定ピッチの電極パターンを有する金属薄膜32を形成し、その後、金属薄膜32の表面にメッキ層を堆積して形成される。 - 特許庁
The thin film contains silicon grains so as to enable silicon residues 30 to be left uniformly chain like on the surface of the semiconductor layer 23 where the thin film is removed.例文帳に追加
薄膜は、半導体層23表面の薄膜が除去された領域にシリコン残渣30が均一にかつ鎖状に残るように、シリコン粒を含有している。 - 特許庁
The releasing surface of the plastic sheet or the glass sheet is smoothed to transfer the ruggednes on the release layer surface on the surface of the polysiloxane thin film layer, increasing the haze (cloudiness), which allows the deterioration of transparency to be prevented, improving the transparency of the polysiloxane thin film to be transferred.例文帳に追加
プラスチックシート又はガラスシートの離型性表面を平滑にすることによって、離型層表面の凹凸がポリシロキサン薄膜層表面に転写され、ヘーズ(曇度)上昇し、透明性低下を防ぐことができ、転写するポリシロキサン薄膜の透明性を高めることができる。 - 特許庁
Thin film forming treatment for forming a conductive thin film to the forming surface of the uneven pattern 5 of a mother stamper 1 and release layer forming treatment for forming a release layer 12 to the forming surface of the uneven pattern 5 to repair the mother stamper 1.例文帳に追加
マザースタンパー1における凹凸パターン5の形成面に導電性薄膜を形成する薄膜形成処理と、形成面に剥離層12を形成する剥離層形成処理とをこの順で実行しててマザースタンパー1を修復する。 - 特許庁
The method for forming an optical thin film on the surface of a substrate comprises a step for removing a degenerated layer in the surface of the substrate and a step for forming the optical thin film on the degenerated layer-free substrate.例文帳に追加
基板の表面に光学薄膜を成膜する成膜方法において、前記基板表面の変質層を除去する除去工程と、前記変質層が除去された基板に光学薄膜を成膜する成膜工程とからなる成膜方法を提供する。 - 特許庁
Before forming the organic compound thin film, surface treatment is applied to the surface of the first electrode by an organic solvent, and the organic compound thin film, a hole injection layer for example, is deposited by vacuum thin film forming technology with an organic solvent molecule remaining on the surface of the electrode.例文帳に追加
有機化合物薄膜を形成する前に、第1の電極の表面を有機溶媒により表面処理し、有機溶媒分子が第1の電極表面に残存する状態で有機化合物薄膜、例えば正孔注入層を真空薄膜形成技術等により成膜する。 - 特許庁
The problem is solved by the sheet having: a sheet base material; the adhesive layer laminated on the surface of the sheet base material; the coating layer laminated on a part of the surface of the adhesive layer; and the thin tissue or cell specimen flake arranged on the surface of the coating layer, and also having an adhesive part wherein no coating layer is laminated on the surface of the adhesive layer.例文帳に追加
上記課題は、シート基材と、シート基材の表面に積層された接着剤層と、接着剤層の表面の一部に積層された被覆層と、被覆層の表面に配置された組織または細胞の検体薄片とを有するシートであって、接着剤層の表面に被覆層が積層されない接着部を有するシートを提供することによって、解決された。 - 特許庁
This transfer sheet which is formed on one surface of a base sheet at least a transfer layer, with a forward anchor layer, the metallic thin film and a rear anchor layer, wherein the forward anchor layer contains an inorganic ester compound.例文帳に追加
基体シートの片面に、少なくとも、前アンカー層、金属薄膜及び後アンカー層を有する転写層が形成されている転写シートであって、該前アンカー層が無機酸エステル化合物を含んで成る転写シート。 - 特許庁
Thus polishing film is formed with a polishing layer 2 on the surface of a supporting body 1 and a slippage prevention layer 3 on the back of the supporting body 1, while the slippage prevention layer is composed of a minute sticking thin layer of 2 to 4 μm thickness.例文帳に追加
支持体1の表面に研磨層2が形成され、支持体の裏面にすべり防止層3が形成された研磨フィルムであり、すべり防止層3は、厚さ2〜4μmの微粘着性の薄い層からなる。 - 特許庁
Alternatively, the hard coat layer and the base material layer are laminated, the uneven structure is formed on the surface of the base material layer, and a thin metal layer is formed on it to form a reflection type resin sheet excellent in light diffusion properties.例文帳に追加
また、ハードコート層と基材層とを積層し、前記基材層の表面に凹凸構造を形成し、その上に金属薄層を形成することにより光拡散性に優れた反射型の樹脂シートとする。 - 特許庁
The method of fabricating a ZnO semiconductor thin film comprises: a step of forming a ZnO thin film on a surface in an oxygen atmosphere; a step of forming an oxygen dispersion layer by an oxygen-affinity metal on the ZnO thin film; and a step of dispersing oxygen contained in the ZnO thin film to the oxygen dispersion layer by heat treating the ZnO thin film and the oxygen dispersion layer.例文帳に追加
酸素雰囲気で基板上にZnO薄膜を形成する工程と、ZnO薄膜上に酸素親和的な金属による酸素拡散層を形成する工程と、ZnO薄膜及び酸素拡散層を熱処理して、ZnO薄膜に含まれた酸素を酸素拡散層に拡散させる工程と、を含むことを特徴とするZnO半導体薄膜の製造方法である。 - 特許庁
In an IC chip equipped with a circuit for a thin-film magnetic head element, a protective layer is formed on at least part of a surface (rear surface) opposite a surface having a connection electrode formed thereon.例文帳に追加
薄膜磁気ヘッド素子用の回路を搭載したICチップであって、接続電極の形成されている面と反対側の面(裏面)の少なくとも一部に保護層が設けられている。 - 特許庁
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