「surface thin layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

The adsorbent is constituted from preforming type alumina particles and a thin layer of colloidal silica is formed on the surface of the preforming type alumina particle.例文帳に追加

上記吸着材は予備成型アルミナ粒子で構成されており、その予備成型アルミナ粒子の表面上にコロイド状シリカの薄い層が形成されている。 - 特許庁

A metallic thin film is formed on the upper surface of the semiconductor substrate, and a gold plating layer is formed thereon to be given driving voltage.例文帳に追加

半導体基体の上面上には金属薄膜が形成され、またこの金属薄膜上に駆動電圧の供給を受ける金メッキ層が形成される。 - 特許庁

To provide a porous and durable thin layer on a substrate, having a high surface energy and a high capability for absorbing and holding water.例文帳に追加

本発明は高い表面エネルギー及び水を吸収し保持する高い能力を有する、多孔質で耐久性のある基板上の薄層を提供する。 - 特許庁

A semiconductor thin-film layer 13 is formed on a stripping surface A comprising the source/drain electrodes 5 and the gate insulating film 7 obtained by the stripping.例文帳に追加

この剥離によって得られたソース／ドレイン電極５およびゲート絶縁膜７で構成される剥離面Ａ上に半導体薄膜層１３を形成する。 - 特許庁

Further, a thin film made from a cathode material is formed on the upper surface of the organic light emitting layer 3 by deposition or sputtering to produce a cathode 4.例文帳に追加

さらに、有機発光層３の上面に、陰極用物質からなる薄膜を蒸着やスパッタリングなどの方法により形成させ、陰極４を作製する。 - 特許庁

The bonding pads 128, 134 are deposed on the first surface of the metal thin layer 114 around the semiconductor device and are respectively corresponding to the electrodes.例文帳に追加

ボンディングパッド１２８は、半導体素子の周囲にある金属薄層１１４の第１の表面上に、それぞれ電極に対応するように配置される。 - 特許庁

The thin film magnetic head 1 has an air bearing surface S and comprises magnetic shield layers 21 and 23, an MR element 22, bias-applying layers 25, and a hard magnetic layer 26.例文帳に追加

薄膜磁気ヘッド１は、エアベアリング面Ｓを有し、各磁気シールド層２１，２３と、ＭＲ素子２２と、バイアス印加層２５と、硬磁性層２６とを備える。 - 特許庁

After taking out the insert core 4, the pipe 8 with the thin wall thickness is removed and the inside surface of the self-fluxing alloy layer 2 is finished to the designated dimension by machining.例文帳に追加

中子１を取り外した後、機械加工を施し、薄肉パイプ３を除去するとともに自溶合金層２の内面を所定の寸法に仕上げる。 - 特許庁

On the surface of the PS layer 22, a film of Au is deposited through a mask to 10 nm to form a thin-film electrode 23, thus completing an electric charge generating element.例文帳に追加

そして、ＰＳ層２２表面にＡｕをマスクデポにより１０ｎｍ成膜して薄膜電極２３を形成することで電荷発生素子が完成する。 - 特許庁

A fire-retardant sheet is constituted by integrating a relatively thin surface layer and a relatively thick base layer and the surface layer comprises high impact polystyrol containing at least one of an ultraviolet absorber and a light stabilizer and the base layer has two-layered constitution comprising modified PPE containing a non-halogen type fire retardant.例文帳に追加

相対的に厚さの薄い表面層と相対的に厚さの厚いベース層を一体化したものであり、前記表面層が紫外線吸収剤と光安定剤の少なくとも一つを含有する高衝撃ポリスチロールからなり、前記ベース層が非ハロゲン系難燃剤を含有する変性ＰＰＥからなる二層構成である。 - 特許庁

The roll is provided with a conductive shaft body 2, an elastic semiconductive layer 3 coated on the circumferential surface of the conductive shaft body 2, and a toner carrying layer 4 formed of thermosetting polymer or thermoplastic polymer and coated on the circumferential surface of the elastic semiconductive layer 3 so as to support the triboelectrified toner in a thin layer state.例文帳に追加

導電性軸体２と、導電性軸体２の周面に覆着される弾性半導電層３と、熱硬化性ポリマーあるいは熱可塑性ポリマーにより形成されて弾性半導電層３の周面に覆着され、摩擦帯電トナーを薄層状態で担持するトナー担持層４とを備える。 - 特許庁

In the wiring board where the surface layer of an insulation layer material 1 in that a wiring pattern 2 is formed is coated with a cover coat material, the cover coat material is a glass thin film 3 which is deposited through chemical reaction, and the surface layer of the insulation layer material 1 is coated, excluding the position of the electrode 2A formed by the wiring pattern 2.例文帳に追加

配線パターン２が形成された絶縁層材１の表層がカバーコート材によってコートされた配線基板において、カバーコート材は、化学反応により析出されたガラス薄膜３であり、配線パターン２によって形成される電極２Ａの位置を除いて絶縁層材１の表層をコートする。 - 特許庁

Electrons injected from a conductive board into a porous polysilicon layer 6 quickly thermally oxidized as a strong electric field drift layer drift towards the surface in the porous polysilicon layer 6 and are emitted through a metallic thin film formed on the porous polysilicon layer 6.例文帳に追加

導電性基板から強電界ドリフト層たる急速熱酸化された多孔質ポリシリコン層６に注入された電子は、多孔質ポリシリコン層６内を表面に向かってドリフトし多孔質ポリシリコン層６上に形成された金属薄膜をトンネルして放出される。 - 特許庁

While ensuring the isolation with the substrate 11 by using the porous layer or foaming layer 17 whose acoustic impedance is considerably small, the thin film bulk acoustic wave resonator with a low loss and high reliability can be attained by smoothing the surface roughness of the acoustic isolation layer 12 by using the intermediate layer 16.例文帳に追加

音響インピーダンスの著しく小さい多孔質層もしくは発泡層17により基板11とのアイソレーションを確保しつつ、中間層16により音響アイソレーション層12の表面の凹凸を平滑化することで、低損失で信頼性の高いものとなる。 - 特許庁

Because the Sn-plated layer 4 arranged in the outermost surface of the plated coating is plated into a thin film, the generation of whiskers is suppressed, and the growth of whiskers is also suppressed because the intermediate layer 3 inhibits the supply of Sn atoms to the Sn-plated layer 4 from the Sn-plated layer 2.例文帳に追加

めっき皮膜の最表面に配置されるＳｎめっき層４は薄膜化されるため、ウィスカの発生が抑制され、中間層３はＳｎめっき層２からのＳｎめっき層４へのＳｎ原子の供給を断つのでウィスカの成長を抑制する。 - 特許庁

This method includes the steps of: forming a magnetic layer 12 made of a cobalt containing maghemite thin film on a substrate 11; executing corona discharge processing for the surface of the magnetic layer 12; and forming a lubricant layer 13 by coating a lubricant on the magnetic layer 12.例文帳に追加

基体１１上にコバルト含有マグヘマイト薄膜からなる磁性層１２を形成する工程と、該磁性層１２表面にコロナ放電処理を行う工程と、前記磁性層１２上に潤滑剤を塗布して潤滑剤層１３を形成する工程とを備える。 - 特許庁

The integrated type thin film photoelectric conversion device includes a back transparent conductive layer 2, a laser light absorbing layer 3, a back electrode layer 4, a semiconductor photoelectric conversion unit 5, and a light receiving surface transparent electrode layer 6 which are laminated in order on a translucent substrate 1, wherein those layers are processed with a laser beam.例文帳に追加

透光性基板１上に順次積層された裏面透明導電層２、レーザ光吸収層３、裏面電極層４、半導体光電変換ユニット５、および受光面透明電極層６を含み、これらの層をレーザビームによって加工する。 - 特許庁

When the drift layer 3 is formed, since the substrate flattening is performed so that the p-type epitaxial growth layer 23 may remain on the substrate front surface, the drift layer 3 does not become thin too much, and there is no possibility that the breakdown voltage may become low.例文帳に追加

ドリフト層３を形成する際に、基板表面にｐ型エピタキシャル成長層２３が残存するように基板平坦化処理を行うため、ドリフト層３が薄くなりすぎることがなく、耐圧が低くなるおそれがない。 - 特許庁

In addition thereto or instead thereof, a low anisotropic center layer that is thin and very soft and arranged between a soft surface layer that is typically used and the hard medium layer enables the magnetic domain wall to initially and rapidly propagate into the center of the medium structure.例文帳に追加

さらにまたはあるいは、通常使用される軟質表面層と硬質媒体層間の薄く非常に軟質な低異方性中央層は、媒体構造の中央内への磁壁の急速な初期伝搬を可能にする。 - 特許庁

In this thin-film solar battery, even if sneaking of the semiconductor layer 13 occurs when forming the semiconductor layer 13, the semiconductor layer can be prevented from being brought into contact with the metal film 16 by forming a third conductive transparent film 18 on the surface of the metal film.例文帳に追加

金属膜の表面上に第３導電性透明膜を形成することによって、半導体層を形成する際に、半導体層の回り込みが生じても、半導体層と金属膜の接触を防止できる。 - 特許庁

The dot marks 21 of the upper layer are formed in a self-alignment manner with the dot marks 11 of the lower layer by a rear surface exposure technique with the dot marks 11 of the lower layer as a mask at the time of formation of a channel protective film 22 of TFTs(thin-film transistors) 45.例文帳に追加

上層のドットマーク２１は、ＴＦＴ４５のチャネル保護膜２２を作成する際、下層のドットマーク１１をマスクとした裏面露光技術により、下層のドットマーク１１に対して自己整合（セルフアライメント）的に作成される。 - 特許庁

A semiconductor apparatus has a metal substrate 101 as a substrate and a diamond-like carbon layer 102a having a high heat conductivity and a good insulation property as a surface coating layer 102 between the metal substrate 101 and a semiconductor thin-film layer 103.例文帳に追加

上記基板として金属基板１０１を用い、該金属基板１０１と半導体薄膜層１０３との間に表面コーティング層１０２として、熱伝導率が高く、且つ絶縁性が良いダイヤモンドライクカーボン層１０２ａを備える。 - 特許庁

In the battery electrode provided with a current collector, and an active material layer containing an active material formed on the surface of the collector, a thin part thinner than the other part of the active material layer is formed on the active material layer.例文帳に追加

集電体と、前記集電体の表面に形成された、活物質を含む活物質層と、を有する電池用電極において、活物質層に、当該活物質層の他の部位と比較して厚さの小さい薄部を存在させる。 - 特許庁

The bottom gate type thin film transistor comprises at least a resin substrate, a gate electrode and an insulating adhesion layer provided on the same surface of the resin substrate, and a gate insulation layer provided on the gate electrode and the insulating adhesion layer.例文帳に追加

ボトムゲート型の薄膜トランジスタは、樹脂基板と、樹脂基板の同一面上に設けられたゲート電極と絶縁性密着層と、ゲート電極と絶縁性密着層との上に設けられたゲート絶縁層とを、少なくとも備える。 - 特許庁

This is the conductive sheet for the non-contact communication medium in which on the insulate base material, a pattern layer (a) of which the main component is active energy ray-curable composition is formed, and on the surface of the layer, a conductive thin-filmed layer (b) is formed.例文帳に追加

絶縁基材上に活性エネルギー線硬化組成物を主成分とするパターン層（ａ）と該層の表面に導電性薄膜層（ｂ）が形成されていることを特徴とする非接触通信媒体用の導電性シート。 - 特許庁

One illustrative embodiment of this magnetic storage element includes an amorphous magnetic material layer 32 extending on a basic surface 31, and a conductive magnetic thin wire 18 formed of a ferromagnetic material layer 33 laminated on the amorphous magnetic material layer 32.例文帳に追加

磁気記憶素子の一具体例は、基礎面３１上で延びるアモルファス磁性材層３２、および、このアモルファス磁性材層３２上に積層される強磁性材層３３で形成される導電性の磁性細線１８を備える。 - 特許庁

To provide a process for producing a semiconductor substrate having an SiGe layer in which the SiGe layer can be made thin, dislocation density can be reduced and the surface of the SiGe layer is flattened.例文帳に追加

ＳｉＧｅ層を有する半導体基板の製造方法において、ＳｉＧｅ層の薄層化、かつ、転位密度の低減化を図ることができ、しかも、ＳｉＧｅ層表面が平坦化された半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a process to deposit a thin film 12 on the surface of a base material 11, a process to form an exposing position reference mark 21 having the particular shape on the thin film, a process to form a resist layer 13 on the thin film and exposing position reference mark and a process to execute pattern exposure of the resist layer using an electron beam drawing apparatus.例文帳に追加

基体11の表面に薄膜12を堆積する工程と、薄膜上に特定の形状を有する露光位置参照マーク21を形成する工程と、薄膜及び露光位置参照マーク上にレジスト層13を形成する工程と、レジスト層を電子ビーム描画装置を用いてパターン露光を行う工程とを有する。 - 特許庁

A thin plate type developing blade 6 whose thickness is ≤0.2 mm is supported by a developing case 17, and the free end side of the blade 6 abuts on the outer peripheral surface of the developing roller 5 so as to make the toner carried on the roller 5 a thin layer, and the thin toner layer is stuck by the roller 5, whereby an electrostatic latent image on a photoreceptor is visualizable.例文帳に追加

現像ケース１７で厚さ0.2mm以下の薄板状の現像ブレード６を支持してその現像ブレード６の自由端側を現像ローラ５の外周面に当接し、その現像ローラで担持するトナーを薄層化してその薄層化したトナーを同現像ローラ５で付着して感光体上の静電潜像を可視像化する。 - 特許庁

To provide a transfer sheet which does not occur small foam is generated in the portion, where a metallic thin film of a transfer layer is not formed, and in the boundary with the metallic thin film even when the metallic thin film is formed in a part of the sheet surface of the transfer layer, and can maintain a small foam suppression effect for a long period of time even under a highly humid environment.例文帳に追加

金属薄膜が、転写層のシート面の一部に形成されている場合でも、転写層の金属薄膜が形成されていない部分及び金属薄膜との境目に小泡が発生せず、また、高湿度環境下でも長期間小泡抑制効果が維持される転写シートを提供すること。 - 特許庁

In a plastic container having a thin film formed on the surface through a plasma CVD process, a carbon film (1) is formed as a first layer on the surface of a plastic base material (4) and a silicon oxide film (2) is formed on the first layer as a second layer.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法により、容器表面に薄膜が形成されたプラスチック容器において、プラスチック基材（４）表面に第１層として炭素膜（１）が形成され、その上に第２層として酸化ケイ素膜（２）が形成されていることを特徴とする薄膜被覆されたプラスチック容器である。 - 特許庁

Ni is prevented from being diffused upward by the diffusion stop layer 30, whereby the surface of the land 26 is hardly oxidized, and the gold layer 32 can be made thin through a flash plating method, so that a rigid and fragile layer of Au-Sn alloy or the like is hardly formed on a solder joint surface.例文帳に追加

拡散阻止層３０によりＮｉの上層拡散が阻止され、これによりランド部２６表面が酸化されにくくなる一方で、金層３２をフラッシュメッキ法等により薄くできるので、例えばＡｕ−Ｓｎ合金等の固くて脆い層がハンダ接合面に形成されにくくなる。 - 特許庁

In a developing device, a suction layer 27 such as a zeolite layer for absorbing and removing discharge products generated in association with discharge is formed on a regulation surface 23a, which regulates the thickness by contacting a toner of a doctor blade 23 that forms a thin layer of the toner on a developing roller 20, or preferably on the entire surface of the doctor blade 23.例文帳に追加

現像ローラ２０にトナーの薄層を形成するドクターブレード２３のトナーと接触して厚みを規制する規制面２３ａ、好ましくはドクターブレード２３の全表面に、放電に伴い発生する放電生成物を吸着除去するゼオライト層等の吸着層２７を形成する。 - 特許庁

The characteristics of the variation are used to form an active layer structure, having a low In composition and a thin well layer thickness on the light emitting end surface through one-time crystal growth, so that the active layer transition wavelength near the light-emitting end surface is made short.例文帳に追加

この特性を利用することにより、一回の結晶成長によって光出射端面に低Ｉｎ組成かつ井戸層厚の薄い活性層構造を作り込むことができるため、光出射端面近傍の活性層遷移波長を短波長化することができる。 - 特許庁

To prevent the corrosion of a high-saturation magnetic flux density layer when the upper surface of the high-saturation magnetic flux density layer formed by plating is made flat in the manufacturing of a thin film magnetic head having a high-saturation magnetic flux density layer made of a magnetic material containing Co and made flat for its upper surface.例文帳に追加

Ｃｏを含む磁性材料よりなり、上面が平坦化された高飽和磁束密度層を有する薄膜磁気ヘッドを製造する場合に、めっき法によって形成された高飽和磁束密度層の上面を平坦化する際における高飽和磁束密度層の腐食を防止する。 - 特許庁

A resin scattering layer having fine recesses and projections on the surface in at least a reflective display region is formed to a predetermined thickness on at least a reflective display region of a TFD (thin film diode) element substrate, a reflecting layer having the recesses and projections on its surface is formed thereon, and an overcoat layer of a predetermined thickness is formed thereon.例文帳に追加

ＴＦＤ素子基板の少なくとも反射表示領域には表面に微細な凹凸を有する樹脂散乱層が所定厚さにて形成され、表面に凹凸が反映された反射層が形成されており、その上には、所定厚さのオーバーコート層が形成されている。 - 特許庁

It is characterized to have a three dimensional shape formed with multi-layer resins including at least the resin layer having the barrier- property to the oxygen gas and the resin layer having the high moisture-proofing property, and the thin film is formed by a plasma furtherance formula CVD method on an entirety of a surface or a part of the surface.例文帳に追加

少なくとも酸素ガスバリア性を有する樹脂層と防湿性の高い樹脂層とを含む多層樹脂物で形成され、表面全体または表面の一部にプラズマ助成式ＣＶＤ法により薄膜を形成させた３次元形状を有することを特徴とする。 - 特許庁

This elastic pavement material is a thick plate-material of a porous structure having a thin surface layer 1 formed by hardening rubber chips with a binder and a thick base layer 2 formed by hardening rubber chips made of crushed waste tire with a binder, and a number of water permeable holes 24 opened to the lower surface side are formed at suitable spaces in the base layer 2.例文帳に追加

ゴムチップをバインダーで固めて成る薄い表層１と、廃タイヤを粉砕して得たゴムチップをバインダーで固めて成る厚い基層２とから成る多孔構造の厚板状のものであり、前記基層２には下面側に開放する透水孔24を適宜間隔で多数形成してある。 - 特許庁

The overall surface of an edge part of an optical surface (upper spherical surface in the drawing) except for specified width of it is covered with the thin film 11 on an upper spherical surface at the first stage to cover and work a resin layer on the upper spherical surface to form the composite optical element on the base material lens 6 made of glass.例文帳に追加

ガラス製の基材レンズ６は複合光学素子を形成するために上球面に樹脂層を被着加工する前段において、その上球面に予め薄膜１１が基材レンズ６の光学面（図の例では上球面）の縁部の所定幅を除く全面に被着されている。 - 特許庁

The display body comprises: a printed pattern layer having a prescribed pattern formed on a rear surface of a transmissive substrate by printing; a reflection enhancing film layer wherein thin films having a refractive index higher than that of the substrate and thin films having a refractive index lower than that of the substrate are alternately laminated on the printed pattern layer; and a color layer formed on the reflection enhancing film layer.例文帳に追加

透過性を有する基板裏面に所定の図柄を印刷により形成した印刷模様層と、印刷模様層の上に基板の屈折率よりも高い屈折率からなる薄膜と，基板の屈折率よりも低い屈折率からなる薄膜とを交互に積層してなる反射増加膜層と、反射増加膜層の上に着色層と、が形成されることによりなる。 - 特許庁

In the plasmon excitation sensor, a metal thin film is formed on a surface of a transparent dielectric substrate, and the porous dielectric layer having a three-dimensional network skeleton structure and a three-dimensional network pore structure is formed on a surface of the metal thin film, and a ligand is bound to the porous dielectric layer.例文帳に追加

本発明のプラズモン励起センサは、透明誘電体基板の表面に金属薄膜が形成され、該金属薄膜の表面に、三次元網目状の骨格構造と三次元網目状の孔構造とを有する多孔質誘電体層が形成された構造を有し、且つ該多孔質誘電体層にリガンドが結合している。 - 特許庁

The thin film transistor array substrate 30 comprises a glass substrate 1; a first back surface light shielding film 3, a second silicon oxide film 4, a second back surface light shielding film 5, and a third silicon oxide film 6 successively formed on the glass substrate 1; and the thin film transistor having a polycrystalline silicon layer 7 formed on the third silicon oxide layer 6.例文帳に追加

薄膜トランジスタアレイ基板３０は、ガラス基板１と、ガラス基板１上に順次に形成された第１裏面遮光膜３、第２酸化シリコン膜４、第２裏面遮光膜５および第３酸化シリコン膜６と、第３酸化シリコン膜６上に形成された多結晶シリコン層７を有する薄膜トランジスタとを備える。 - 特許庁

The optical thin film 30 is made to closely adhere to one surface 21 of a substrate 20, and a 1st resin molding layer 40 is molded so that a part 41 on one side of the layer 40 may closely adhere to the one surface 21 of the substrate 20 and another part 42 on the one side may closely adhere to the optical thin film 30.例文帳に追加

基板２０の一の表面２１に光学薄膜３０を密着して設けるとともに、一面側の一部４１が基板２０の上記一の表面２１に密着し、かつその一面側の他の一部４２が光学薄膜３０と密着するように第１樹脂成形層４０を形成する。 - 特許庁

A piezoelectric thin film resonator 11 includes: an acoustic multilayer film 13 on an upper surface of a substrate 12, in which a high acoustic impedance layer and a low acoustic impedance layer are alternately stacked; and a lower electrode 14, a piezoelectric thin film 15; and an upper electrode 16 which are stacked on the film 13, and further includes a compression stress film 17 on a lower surface of the substrate.例文帳に追加

圧電薄膜共振子１１は、基板１２の上面に高音響インピーダンス層と低音響インピーダンス層とを交互に積層した音響多層膜１３と、その上に積層した下部電極１４、圧電薄膜１５及び上部電極１６とを備え、更に基板の下面に圧縮応力膜１７とを備える。 - 特許庁

This thin-film electronic component is constituted by forming electronic component elements on an insulating substrate 1, further forming a protective layer, and extracting external connection electrodes, wherein a thin-film metal layer is formed with Ti or Ni on the main surface which is opposite to another main surface on which the external connection electrodes are formed.例文帳に追加

本発明は、絶縁基板１上に、電子部品素子を形成し、さらに保護層を形成し、外部接続用電極が導出されている薄膜電子部品であり、外部接続用電極が形成された主面と対向する主面にはＴｉやＮｉにより薄膜金属層が形成されている。 - 特許庁