「surface thin layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing an injection foamed molding, which has a beautiful surface without any appearance defectives, has a thin nonfoamed layer, has a uniform fine foaming layer and further has a higher expansion ratio.例文帳に追加

外観不良がないため表面美麗で、かつ、非発泡層が薄く、均一微細な発泡層を持ち、さらに高発泡倍率を有する射出発泡成形体の製造方法を提供すること - 特許庁

This invention relates to the carrier material for the thin layer base material, including a support having a thickness of 50 to 150 μm and formed from a polyester-based resin, and a pressure-sensitive adhesive layer formed on at least one surface of the support.例文帳に追加

厚さが、５０〜１５０μｍのポリエステル系樹脂から形成される支持体、及び、前記支持体の少なくとも片面に粘着剤層が形成されることを特徴とする薄層基材用キャリア材。 - 特許庁

The photocatalyst device includes a photocatalyst function layer which comprises a nitride semiconductor, and a thin film which comprises any of a metal oxide film, a metal nitride film and a metal oxide nitride film disposed on a surface of the photocatalyst function layer.例文帳に追加

窒化物半導体からなる光触媒機能層と、光触媒機能層の表面上に配置された金属酸化膜、金属窒化膜及び金属酸窒化膜のいずれかからなる薄膜とを備える。 - 特許庁

To provide a method of gas nitriding treatment for maraging steel capable of uniformly forming a thin nitriding layer high in surface hardness in a short time simultaneously with aging treatment without forming a compd. layer.例文帳に追加

薄くて表面硬度の高い窒化層を時効処理と同時に、均一でしかも化合物層を生成させることなく短時間で形成することができるマルエージング鋼のガス窒化処理方法を提供する。 - 特許庁

A partition region 4 is formed by Cu, an aluminum thin film 5 as a light reflection layer is formed on the surface at the inlet side, and a C (carbon) film 6 is formed at the outlet side as a protective layer.例文帳に追加

隔壁領域４はＣｕから形成され、また入口側の表面には光の反射層としてアルミニウム薄膜５が形成され、出口側には保護層としてＣ（炭素）膜６が形成されている。 - 特許庁

The fixture tool for the thin substrate having the weak adhesion layer formed on one surface of a flat plate is characterized in that the adhesive strength of the weak adhesion layer is less than three times that before the component packaging after the layer goes through a reflow process, namely a component packaging process of the thin substrate, by a post heat treatment after formation of the weak adhesion layer.例文帳に追加

平板の片面に弱粘着性層を形成した薄型基板用固定治具において、弱粘着性層形成後の後熱処理によって、薄型基板の部品実装工程であるリフローを通過した後の弱粘着性層の粘着強度が、部品実装前の粘着強度に対し３倍未満とされていることを特徴とする。 - 特許庁

In the laminated film, a thin inorganic deposited film layer is provided on a substrate material made of a polymeric resin composition, a coating layer comprising an urethane resin containing a xylylene group or hydrogenated xylylene group is provided on a surface of the thin inorganic deposited film layer opposite to the polymeric resin composition, and a thickness of the coating layer is 0.01-0.50 μm.例文帳に追加

高分子樹脂組成物からなる基材に無機薄膜蒸着層を設けられ、かつ高分子樹脂組成物の反対面の無機薄膜蒸着層上にキシリレン基または水添キシリレン基含有ウレタン樹脂を含む被覆層が積層され、かつ被覆層の厚みが０．０１〜０．５０μｍであることを特徴とする積層フィルム。 - 特許庁

Two panels 110 and 120 are disposed with a step difference so that pixel boundaries overlap, and at least one of the two panels includes a thin film encapsulation layer covering a display element with a laminate of an organic substance layer and an inorganic substance layer, the thin film encapsulation layer being disposed on an adjacent surface between the two panels where there is the step difference.例文帳に追加

二つのパネル１１０、１２０の画素境界面同士が重なるように互いに段付けられて配置され、二つのパネルのうち少なくとも一つは、有機物層と無機物層との積層体でディスプレイ素子を覆う薄膜封止層を備え、その薄膜封止層が段付けられた二つのパネル間の隣接面に配置されることを特徴とする - 特許庁

An electron discharge element 14 arranged oppositely to the object 10 to be charged has a semiconductor layer 16 having an energy band gap of ≥3.60 eV or ≤1.30 eV, a thin film insulation layer 18, a thin film electrode 20 formed on the surface side of the layer 18, and a substrate electrode 22 formed on the rear side of the layer 16.例文帳に追加

被帯電物１０に対向して設置されている電子放出素子１４は、３．６０ｅＶ以上か１．３０ｅＶ以下のエネルギーバンドギャップの半導体層１６及び薄膜絶縁層１８と、薄膜絶縁層１８表面側に形成された薄膜電極２０と、半導体層１６裏面側に形成された基板電極２２とを有している。 - 特許庁

The solar battery cell includes a silicone resin layer, or a silicone resin and a metal alloy thin film, on a surface on a light receiving surface side of the solar battery cell, and a support body layer formed of a core on a surface opposite to the light receiving surface of the solar battery cell.例文帳に追加

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、本発明の太陽電池セルは、太陽電池セルの受光面側の表面にシリコーン樹脂層、またはシリコーン樹脂および金属合金薄膜が設けられ、太陽電池セルの受光面と反対側の面に芯材からなる支持体層が設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

An organic EL element and a thin film circuit element are electrically joined by facing an organic EL element substrate forming the organic EL element constituted by successively laminating a substrate side electrode, an organic EL layer and a counter electrode on one surface of a substrate to a thin film circuit element substrate forming a thin film circuit element on the other surface of the substrate.例文帳に追加

基板の片面に基板側電極、有機ＥＬ層、対向電極を順次積層してなる有機ＥＬ素子を形成した有機ＥＬ素子基板と基板の片面に薄膜回路素子を形成した薄膜回路素子基板とを対向させて、有機ＥＬ素子と薄膜回路素子とを電気的に接合する。 - 特許庁

The method for manufacturing the thin-film electrode on at least one principal plane of the substrate with insulation properties is characterized by depositing a trace amount of metallic elements on the surface of the substrate during plasma treatment, in a process of manufacturing the thin-film electrode by plasma-treating the surface before forming the thin-film metal electrode layer.例文帳に追加

電気絶縁性を有する基板の少なくとも一方の主面に薄膜金属電極層を形成する方法であって、薄膜金属電極層形成前に、基板表面をプラズマ処理する薄膜電極の製造方法において、プラズマ処理を行なう際に、微量の金属元素を基板表面に付着させる。 - 特許庁

This printed board is provided with thin film lower part electrodes 8A, 8B which are formed on the surface of an insulating layer of a printed board and have uneven surfaces, a capacitor insulating film 12 which is partially formed on surfaces of the thin film lower part electrodes, and a thin film upper part electrode 16 formed on the surface of the capacitor insulating film.例文帳に追加

プリント基板の絶縁層の表面に形成されて、その表面が凹凸状になされた薄膜下部電極８Ａ，８Ｂと、前記薄膜下部電極の表面に部分的に形成されたキャパシタ絶縁膜１２と、前記キャパシタ絶縁膜の表面に形成された薄膜上部電極１６とを備える。 - 特許庁

The electrode 1 for electrolysis includes a substrate 2 and a surface layer 5 formed on the surface of the substrate 2, and the surface layer 5 is made of an amorphous insulator, for example, a thin film of amorphous tantalum oxide, amorphous tungsten oxide or amorphous aluminum oxide.例文帳に追加

電解用電極１は、基体２と、当該基体２の表面に構成された表面層５を備えて成るものであって、表面層５は、アモルファスの絶縁体、例えば、アモルファス型の酸化タンタル、アモルファス型の酸化タングステン、アモルファス型の酸化アルミニウムの薄膜により構成されている。 - 特許庁

The metal-containing fabric is manufactured by forming the thin metal film layer on at least one surface of the fabric by metal vapor deposition, and applying a treating liquid of a coloring agent-containing resin to the yarn portion of the thin metal film layer.例文帳に追加

布帛の少なくとも片面に、金属蒸着によって金属薄膜層を形成し、次いでその金属薄膜層の糸条部に着色剤含有樹脂からなる処理液を塗布した後、乾燥させることを特徴とする金属含有布帛の製造方法。 - 特許庁

The method comprises spreading a polymer solution prepared by dissolving a polymer in an organic solvent over the surface of a liquid layer 2 liquid at normal temperature to form a liquid film, forming a thin film 3 on the layer 2 by desolventation, and grinding the thin film 3.例文帳に追加

ポリマーが有機溶剤に溶解されている重合体溶液を、常温で液体である液層２の液面上に膜状に展開させ、脱溶剤して前記液層２の上に薄膜３を形成させ、この薄膜３を粉砕するポリマーの微粉末の製造法である。 - 特許庁

The method of manufacturing a substrate for a photovoltaic cell includes a first step of forming a zinc oxide thin film layer doped with a dopant on a transparent substrate, and a second step of controlling a surface structure of the zinc oxide thin film layer by etching using hydrogen plasma.例文帳に追加

本発明は、光電池用基板の製造方法に関し、透明基板にドーパントがドーピングされた酸化亜鉛薄膜層を形成する第１ステップ、及び、水素プラズマによるエッチングを通じて前記酸化亜鉛薄膜層の表面構造を制御する第２ステップを含む。 - 特許庁

The semiconductor silicon carbide substrate is preferably a semiconductor silicon carbide substrate in which surface silicon of an SOI substrate is made thin, the extremely thin silicon layer is denatured into a silicon carbide layer through carbonization, and a silicon carbide epitaxial film is deposited thereon by a CVD (chemical vapor-deposition) method.例文帳に追加

炭化珪素基板としては、ＳＯＩ基板の表面シリコンを薄層化し、その極薄シリコン層を炭化処理により炭化珪素層に変性し、その上にＣＶＤ（化学気相成長）法により炭化珪素エピタキシャル膜を形成させたものが好ましい。 - 特許庁

An electromagnetic wave shield material 5 for an FPC is comprised of a substrate 1 made of a thin-film resin film of an applied dielectric body, a thin-film adhesive layer 2 and a conductive paste layer 3, which are laminated in order on one surface of a support film 6.例文帳に追加

支持体フィルム６の片面の上に、塗布された誘電体の薄膜樹脂フィルムからなる基材１、薄膜の接着剤層２、導電性ペースト層３、が順に積層されてなることを特徴とするＦＰＣ用電磁波シールド材５を提供する。 - 特許庁

The semiconductor package 100 includes a multilayer thin-film structure 110 having a plurality of dielectric layers and at least one rewiring layer 116, 134, a semiconductor chip 130 which is arranged on one surface of the multilayer thin-film structure, and is electrically connected to the rewiring layer, and a solder bump 125 formed on the other surface of the multilayer thin-film structure.例文帳に追加

複数の誘電体層及び少なくとも一つの再配線層１１６，１３４を含む多層薄膜構造物１１０と、該多層薄膜構造物の一面に配置されて前記再配線層と電気的に接続される半導体チップ１３０と、前記多層薄膜構造物の他の一面に形成されたソルダバンプ１２５を含む半導体パッケージ１００を提供する。 - 特許庁

In the aluminum hollow optical fiber having an aluminum thin film formed on an inner surface of a thin glass capillary with high flexibility, a layer of a metal other than aluminum is formed between the glass capillary and the aluminum thin film and thereby the thickness of the metallic layer is increased without increasing the surface roughness, and the durability at emission of the high power laser is improved while maintaining high transmission efficiency.例文帳に追加

高い可撓性を有する肉薄のガラス細管の内面にアルミニウム薄膜を形成したアルミニウム中空光ファイバにおいて，ガラス管とアルミニウム薄膜の間にアルミニウムとは異なる金属層を設けることにより，表面の粗さを増大させることなしに金属層の厚さを増加させ，高い伝送効率を保持したまま高出力レーザ照射時の耐久性を向上させる。 - 特許庁

The thin-film transistor has at least the source-drain electrodes to be formed to have a gap on a substrate, and the oxide semiconductor thin-film layer principally containing zinc oxide (ZnO) and to be formed as a channel on the gap and the surface of the source-drain electrodes.例文帳に追加

また、トップゲート型構造において、ソース・ドレイン電極からチャネルに至るまでの酸化物半導体薄膜層の膜厚方向の抵抗を抑え、電流律速を抑制することも解決課題とする。 - 特許庁

A detection element has a transparent substrate made from quartz, a tungsten trioxide thin film having a columnar crystal structure on the transparent substrate, and a platinum layer deposited and formed on the thin film surface to have a thickness of 15 nm or less.例文帳に追加

検知素子は、石英製の透明基板と、該透明基板上に柱状結晶構造を有する三酸化タングステン薄膜と、該薄膜表面に15nm以下の厚さに堆積形成された白金層から構成されている。 - 特許庁

Then, any of one kind out of a diamond shape carbon film, titanium nitride film, gold thin film, platinum thin film is coated on the surface layer of at least one end part, thereby water repellency is improved and durability is further improved.例文帳に追加

また、少なくとも一端部の表層にダイヤモンド状炭素膜、窒化チタン膜、金薄膜、白金薄膜のいずれか１種を被覆することにより、撥水性が向上するとともに耐久性がさらに向上する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin sample for a transmission type electron microscope in which a coat layer is unlikely to be released from a particle surface and there is no damage in the inside of particles and the coat layers, and an observation method of the thin sample.例文帳に追加

粒子表面からコート層が剥がれ難く、粒子内部とコート層に損傷のない透過式の電子顕微鏡用薄片試料の作製方法と薄片試料の観察方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a die by which a thin uniform bonding material layer bonded to a pickup tape can be formed on the anti-circuit surface of a diced thin large-sized semiconductor die at the time of picking up the die.例文帳に追加

ダイシングされた薄くて大判の半導体ダイをピックアップするに際し、ダイシング後の半導体ダイの反回路面に、ピックアップテープと接着するための薄くて均一な接合材層を形成する方法を提供する。 - 特許庁

The object to be analyzed contained in the sample is detected through the spectral change of the light which comes into collision with the surface of the object before and after the object is bonded to a bonding layer on the substrate of a thin film device by using the thin film device.例文帳に追加

薄膜デバイスを使用し、その基質上の結合層に対する分析対象物の結合前後の表面に当る光のスペクトル変化を通して試料中の分析対象物を検出する。 - 特許庁

To provide an organic thin-film transistor that can prevent the surface of an organic semiconductor layer from being damaged and reduce off-state current, and to provide a manufacturing method therefor, and a flat panel display having the organic thin-film transistor.例文帳に追加

有機半導体層の表面損傷を防止し、オフ電流を低減させることができる有機薄膜トランジスタ及びその製造方法と有機薄膜トランジスタを備えた平板表示装置とを提供する。 - 特許庁

The polarizing plate with the thin polarizing layer 5 is manufactured by subjecting a surface of a transparent substrate 1 to rubbing treatment, subsequently applying the aqueous solution containing the tablar pigment to the rubbing treated surface, drying and forming the polarizing layer 5 with 20-1,500 nm thickness.例文帳に追加

透明基板１の表面をラビング処理し、次いでそのラビング処理面に平板状色素を含有する水溶液を塗布し、乾燥して、厚みが２０〜１,５００nmである偏光層５を形成し、かかる薄肉の偏光層５を有する偏光板とする。 - 特許庁

The first back surface light shielding film 3 is formed at a position facing the polycrystalline silicon layer 7 of the thin film transistor at least, and the second back surface light shielding film 5 is provided with an opening part 19 on a position facing the channel region of the polycrystalline silicon layer 7.例文帳に追加

第１裏面遮光膜３が少なくとも薄膜トランジスタの多結晶シリコン層７に対向する位置に形成され、第２裏面遮光膜５が多結晶シリコン層７のチャネル領域に対向する位置に開口部１９を有する。 - 特許庁

To provide the forming method of a photosensitive layer by which the occurrence of a whitening phenomenon on a surface is eliminated in the case of forming the photosensitive layer by an immersing/coating method on the outer peripheral surface of an extremely thin cylindrical base body such as a nickel seamless belt.例文帳に追加

ニッケルシームレスベルトのような極めて薄肉の円筒状基体の外周面に浸漬コーティング法によって感光層を形成する場合に、その表面に白化現象を生じさせないような感光層形成方法を提供することである。 - 特許庁

The surface plasmon resonance element comprises: a transparent substrate 20; a porous dielectric substance layer 21 formed on the surface of the transparent substrate; a metallic thin membrane 24 formed on the porous dielectric substance layer; and a prism 25 adhering to the bottom of the transparent substrate.例文帳に追加

透明基板２０と、透明基板の上面に形成された多孔性誘電体層２１と、多孔性誘電体層上に形成された金属薄膜２４と、透明基板の底面に付着されたプリズム２５とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

A sensor 20 is scanned along the protruded surface 104a on the first layer side being the outside of the thin plate to perform eddy current flaw detection while a transmission and reception element is scanned along the protruded surface 104a on the side of the first layer to perform ultrasonic flaw detection.例文帳に追加

薄板のうち外側である第一層側の凸部表面１０４ａに沿ってセンサ２０を走査させて渦流探傷を行うと共に、第一層側の凸部表面１０４ａに沿って送受信子を走査させて超音波探傷を行う。 - 特許庁

A support layer 3 for reinforcement made from glass or ceramics is formed on one surface of a flexible film 1 by a thin film forming method, and on the other surface of the flexible film 1, a metal layer 4 with a circuit pattern is then formed to produce a circuit board 31a.例文帳に追加

可撓性フィルム１の一面に、薄膜形成法でガラスまたはセラミックスからなる補強用支持層３を形成し、次に可撓性フィルム１の他面に、回路パターンを有する金属層４を形成して、回路基板３１ａを形成する。 - 特許庁

A thin-film antenna in which a difference between the maximum height of a projection portion existing on a surface of the smoothing layer and a maximum depth of a recess portion is equal to or less than 1 μm, less than a film thickness of an antenna, or radio wave is transmitted/received via a surface of the smoothing layer is formed.例文帳に追加

平滑層の表面に存在する凸部の最大高さと凹部の最大深さとの差が１μｍ以下か、またはアンテナの膜厚よりも小さく、該平滑層の表面に電波を送受信する薄膜状のアンテナを形成する。 - 特許庁

The far infrared ray camouflaged sheet is provided by laminating a metallic thin film layer and a camouflaging coloring agent-containing resin layer on at least one surface of the sheet and a thermal radiation rate of the surface is distributed in many ranks.例文帳に追加

本発明の遠赤外線偽装シートは、シートの少なくとも片面に、金属薄膜層および迷彩用着色剤含有樹脂層が積層されてなり、かつ、その表面の熱放射率が多段階に分布していることを特徴とするものである。 - 特許庁

A jewel worked in a thin plate-like state is adhered onto a sheet-like base material, a powder of the jewel is adhered to its surface by a transparent adhesive, a top coating layer is laminated on its surface, and the overall or part of the pattern layer is formed.例文帳に追加

シート状基材上に薄板状に加工した宝石を接着させ、その表面に透明な接着剤によって宝石の粉末を付着させ、その表面にトップコート層を積層して模様層の全部又は一部を形成する - 特許庁

The surface of titanium or a titanium alloy is subjected to grinding and oxidation treatment with an acid liquid, and is thereafter subjected to washing treatment with water, thus a thin, uniform and dense surface oxidized layer of <10 nm is formed on the surface of the metal.例文帳に追加

チタンまたはチタン合金の表面を酸液により研磨並びに酸化処理し、その後水により洗浄処理して、当該金属の表面に１０ｎｍ未満の薄い均一かつ緻密な表面酸化層を形成させる。 - 特許庁

Since an intermediate layer 16 where many pores 24 of a uniform opening diameter are oriented is formed by a PLD method for which a pressure and a frequency are controlled and a porous thin film layer 18 is formed on the surface and in the pores 24, the opening diameter of the pores 24 is reduced by the thin film layer 18.例文帳に追加

圧力及び周波数を制御したＰＬＤ法で一様な開口径の多数の細孔２４が配向した中間層１６が形成され、その表面やその細孔２４内に多孔質の薄膜層１８が形成されることから、その細孔２４の開口径がその薄膜層１８によって縮小される。 - 特許庁

In the external packaging film (1, 1b) for packaging the object product, a wear resistant protective layer 10 is formed on the outer surface side of a film substrate 2, and a thin film area 11 having thin thickness layer is formed on the protective layer to print the management data 20 such as the recommended use limit of the object product.例文帳に追加

フィルム基材２の外表面側に耐摩耗性の保護層１０が形成されて、被外装品を包被するための外装フィルム（１,１ｂ）であって、前記保護層には、前記被外装品の使用推奨期限などの管理データ２０を印刷するために、層の厚さが薄い薄膜領域１１が形成されている。 - 特許庁

A plurality of conductive thin wires 20 buried in an elastic elastomer 22 layer are extended in almost the vertical direction to the surface and back of the elastic elastomer 22 layer in a straight line, and recessed parts 26 are formed in the periphery part of a hole of the elastic elastomer 22 layer in which the conductive thin wires 20 are buried.例文帳に追加

本発明の目的は、弾性エラストマー２２層内に埋設される複数の導電細線２０が、このエラストマー２２層の表及び裏面に略垂直方向に伸びて直線状となり、導電細線２０が埋設された弾性エラストマー２２層の孔の周縁部分に窪み部２６を設けることによって達成できる。 - 特許庁

When the metal thin film type magnetic layer having 5 to 55 nm thickness is deposited on the other principal surface side of the non-magnetic substrate by a vacuum thin film deposition method, a shielding layer consisting of diamond like carbon and having 3 to 25 nm thickness is provided between the non-magnetic substrate and the magnetic layer by plasma CVD method.例文帳に追加

非磁性支持体の一主面側に真空薄膜形成法により、厚さ５ｎｍ以上、５５ｎｍ以下の金属薄膜型磁性層を形成するに際して、該非磁性支持体と該磁性層との間にダイヤモンドライクカーボンからなる厚さ３ｎｍ以上、２５ｎｍ以下のシールド層をプラズマＣＶＤ法により設ける。 - 特許庁

In the semiconductor epitaxial wafer having a semiconductor thin film grown on a semiconductor substrate by epitaxial growth, indium 108 is bonded to the surface of uppermost layer of the semiconductor thin film, i.e. the surface of the semiconductor epitaxial wafer 100.例文帳に追加

半導体基板上に、エピタキシャル成長法を用いて成長した半導体薄膜を有する半導体エピタキシャルウェハにおいて、半導体エピタキシャルウェハ１００の表面である前記半導体薄膜の最表層の表面に、インジウム１０８を付着させた構造とする。 - 特許庁

To provide a thin film which is formed on a surface of a product such as a container and equipment for food and has a layer in which Ag having antibacterial effect is alloyed with Sn, and to provide a method of producing the same, and an article whose surface is coated with the thin film.例文帳に追加

本発明は食品用容器・器具等の製品表面に形成される抗菌性効果のあるＡｇをＳｎと合金化させた層を有する薄膜およびその製造方法ならびにこの薄膜によって表面を被覆された物品を提供する。 - 特許庁

The surface of a conductor pattern 3 except the lower electrode forming region 17 of a thin film capacitor element 12 is covered with a first resist film 13, and a metal film layer 5 is formed on all the surface of the conductor pattern 3.例文帳に追加

導体パターン３の表面を、薄膜コンデンサ素子１２の下部電極形成領域１７を除いて、第１のレジスト膜１３で覆い、導体パターン３の全面に金属被膜層５を形成する。 - 特許庁