「tFd」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In a liquid crystal display device, an element substrate includes a TFD element, a pixel electrode, a data line, an overcoat layer, and a columnar photospacer including a substantially regular polygon flat face.例文帳に追加

液晶表示装置において、素子基板は、ＴＦＤ素子、画素電極、データ線、オーバーコート層、及び、略正多角形の平坦面を含む柱状のフォトスペーサを有する。 - 特許庁

An IPS type liquid crystal device using a TFD element can complement loss of the pixel voltage by an electrostatic capacitance held between a capacitive electrode 13 provided in each pixel region 7 and a portion of a scanning line 8.例文帳に追加

ＴＦＤ素子を用いたＩＰＳ型液晶装置において、各画素領域７について設けられた容量電極１３と走査線８の一部との間に保持される静電容量により画素電圧の損失を補完することができる。 - 特許庁

A plurality of scanning lines are formed on a color filter substrate, a plurality of data lines, TFD elements and pixel electrodes are formed on an element substrate and a liquid crystal is encapsulated in between the both substrates.例文帳に追加

カラーフィルタ基板には複数の走査線が、素子基板には複数のデータ線とＴＦＤ素子及び画素電極が形成され両基板間に液晶が封入されている。 - 特許庁

Then, the surface of each electrode film 142 is subjected to anode oxidization collectively by using the wiring film 141, and an upper electrode 11 in the TFD 13 is formed on the surface of an obtained anode oxide film 18.例文帳に追加

そして、この配線膜１４１を使って各電極膜１４２の表面を一括して陽極酸化し、得られた陽極酸化膜１８の表面に、ＴＦＤ１３の上電極１１を形成する。 - 特許庁

Only pixel electrodes 234 of the subpixels on one side among subpixels positioned on both sides of each data line 212 are electrically connected to each of the data lines 212 via a TFD elements, respectively, between subpixels adjacent each other in the row directions.例文帳に追加

行方向で隣接するサブ画素列の間において、各データ線２１２には、その両側に位置するサブ画素のうち、一方側のサブ画素の画素電極２３４のみがＴＦＤ素子を介して電気的に接続している。 - 特許庁

A manufacturing method of a TFD element forms a first insulating film 63a composed of a TaO_x on a lower electrode 62a by a gas phase method such as a sputtering method etc.例文帳に追加

ＴＦＤ素子の製造方法は、スパッタ法などの気相法にて下部電極６２ａ上にＴａＯ_ｘ膜からなる第１の絶縁膜６３ａを形成する。 - 特許庁

Here, one scanning line, for example, the scanning line 212ab is alternately connected with the pixel electrodes 234 of the adjoining rows A and B via the TFD elements 220.例文帳に追加

ここで、走査線の１本は、例えば、走査線２１２ａｂは、相隣接するＡ行およびＢ行の画素電極２３４に対し、ＴＦＤ素子２２０を介して交互に接続されている。 - 特許庁

A plurality of scanning lines are formed on a color filter substrate, a plurality of data lines, pixel electrodes, TFD elements and the like are formed on an element substrate and a liquid crystal is encapsulated in between the both substrates.例文帳に追加

カラーフィルタ基板には複数の走査線が、素子基板には複数のデータ線、画素電極及びＴＦＤ素子等が形成され両基板間に液晶が封入されている。 - 特許庁

In the electrooptical apparatus 1a, data lines 52a, thin film diode (TFD) elements 56a and pixel electrodes 34a are formed on an element substrate 10 and a resin spacer 9 is formed so that the data lines 52a may be covered.例文帳に追加

電気光学装置１ａにおいて、素子基板１０には、データ線５２ａ、ＴＦＤ素子５６ａおよび画素電極３４ａが形成され、さらには、データ線５２ａを覆うように樹脂スペーサ９が形成されている。 - 特許庁

In particular, the shading layer overlaid by being formed in the neighborhood of a position corresponding to the TFD element is formed so as to have flatness larger than a flat face of the photospacer.例文帳に追加

特に、ＴＦＤ素子に対応する位置近傍に形成される重ね遮光層は、フォトスペーサの平坦面より大きく且つ平坦性を有するように形成されている。 - 特許庁

In a liquid crystal display using a TFD element, a plurality of the dummy pixel electrodes 80 are provided so as to make a vertical row on both sides of the effective display region V, respectively.例文帳に追加

ＴＦＤ素子を用いた液晶装置において、有効表示領域Ｖの両側に、それぞれ縦列をなすように複数のダミー画素電極80を設ける。 - 特許庁

To provide a method of forming TFD element assuring a sufficient improvement of element characteristic and not causing problems such as a rise of manufacturing cost and increase of TAT.例文帳に追加

素子特性の向上が充分に図れると同時に、製造コストの高騰、ＴＡＴの増大等の問題が生じることのないＴＦＤ素子の形成方法を提供する。 - 特許庁

Then, a plurality of electrode films 142 that form the body of the lower electrode of TFD 13 are formed along the line on the surface of the wiring film 141, by using the mask sputtering method and the droplet discharge method.例文帳に追加

次に、この配線膜１４１の表面に、マスクスパッタ法や液滴吐出法を用いて、ＴＦＤ１３の下電極の本体部となる電極膜１４２を前記ラインに沿って複数形成する。 - 特許庁

In a plurality of analogue circuit blocks, the supply of the impressed signal for external measurement Tfd and control of the output of the measurement results Tdet are performed in order.例文帳に追加

複数のアナログ回路ブロックでは、順番に外部測定用印加信号Ｔｆｄの供給と測定結果Ｔｄｅｔの外部出力の制御が実行される。 - 特許庁

When the TFD array substrate is applied to the liquid crystal device, the liquid crystal device whose liquid crystal display panel is less likely to break, even when pressurization force is applied to a display panel surface can be formed.例文帳に追加

よって、このＴＦＤアレイ基板を液晶装置に適用すれば、表示パネル面に押圧力が付与された場合でも液晶表示パネルが割れ難い液晶装置を構成することができる。 - 特許庁

The Ta-W alloy film which is formed using such a Ta-W-based sputtering target is applied, for example, to a first electrode 3 of a TFD element 1.例文帳に追加

このようなＴａ−Ｗ系スパッタリングターゲットを用いて成膜したＴａ−Ｗ合金膜は、例えばＴＦＤ素子１の第１の電極３に適用される。 - 特許庁

The TFD element 1 has an MIM structure of the first electrode 3/anodic oxide film 4/second electrode 5 and is applied to a switching element of a liquid crystal display device or the like.例文帳に追加

ＴＦＤ素子１は第１の電極３／陽極酸化膜４／第２の電極５によるＭＩＭ構造を有し、液晶表示装置のスイッチング素子等に適用される。 - 特許庁

By forming the first insulating film 63a by the gas phase method, the first insulating film 63a can be thickened without causing the failure such as charge-up and resist burning, so that a capacity of the TFD element can be reduced.例文帳に追加

第１の絶縁膜６３ａを気相法で形成したことで、チャージアップやレジストが焦げるような不具合は生じさせずに第１の絶縁膜６３ａを厚膜化でき、ＴＦＤ素子容量を小さくできる。 - 特許庁

To prevent a nonlinear resistance element such as a TFD element and an electrode from short-circuiting during surface pressing in a liquid crystal device using photospacers and to prevent trouble due to a shock in a low-temperature state from occurring.例文帳に追加

フォトスペーサを用いた液晶装置において、面押し時にＴＦＤ素子等といった非線形抵抗素子と電極とが短絡することを防止し、しかも、低温状況下での衝撃による障害が発生することを防止する。 - 特許庁

A light source 1, a first polarizing plate 2, a TFD liquid crystal display panel 3, an optical anisotropic plate 4, a second polarizing plate 5, and a photodetector 7 of a spectral measuring device 6 are arranged on a straight line.例文帳に追加

光源１と、第一偏光板２と、測定対象であるＴＦＤ液晶表示パネル３と、光学異方体板４と、第二偏光板５と、分光測定器６の光検出器７を直線上に配置する。 - 特許庁

As a result, the same gradation values are no more continuously displayed and therefore the occurrence of the crosstalk which becomes a problem particularly with the TFD liquid crystal or the like due thereto is reduced.例文帳に追加

これにより、同一の階調値が連続して表示されることがなくなるので、それに起因して特にＴＦＤ液晶などで問題となるクロストークの発生が低減される。 - 特許庁

The inspection method of the liquid crystal panel of a TFD driving system displays an image by each MIM element and each liquid crystal pixel both disposed at each intersection of a data line group and a scanning line group orthogonal to each other.例文帳に追加

互いに直交されるデータ線群と走査線群との各交点に配設されるＭＩＭ素子と液晶画素とによって画像を表示するＴＦＤ駆動方式の液晶パネルの検査方法。 - 特許庁

A non-linear resistor, e.g., a TFD element 33 includes a first metal 36, an insulating layer 37 overlapping the first metal 36, and a second metal 38 overlapping the insulating layer 37.例文帳に追加

第１金属３６と、その第１金属３６に重ねられた絶縁層３７と、その絶縁層３７に重ねられた第２金属３８とを有する非線形抵抗素子、例えばＴＦＤ素子３３である。 - 特許庁

Thus, formation of an oxidized film is prevented on the surface of the second metallic film of the TFD element and the surface of the first electrically conductive layer of the external connection wiring.例文帳に追加

これにより、ＴＦＤ素子の第２金属膜の表面及び外部接続用配線の第１導電層の表面に酸化膜が形成されるのを防止できる。 - 特許庁

A light source 1, a first polarizing plate 2, a TFD liquid crystal display panel 3, an optical anisotropic plate 4, a second polarizing plate 5, and a photodetector 7 of a spectral measuring device 6 are arranged on a straight line.例文帳に追加

光源１と、第一偏光板２と、測定対象であるＴＦＤ液晶表示パネル３と、第二偏光板５と、分光測定器６の光検出器７を直線上に配置する。 - 特許庁

The overcoat layer 33 is formed, in such a way that the thickness t1 of a region V0, overlapping with the TFD element 21 in plan view, is made thinner than thickness t2 of a region in its periphery.例文帳に追加

オーバーコート層３３は、ＴＦＤ素子２１に平面的に重なる領域Ｖ０の厚さｔ１が、その周辺の領域の厚さｔ２に比べて薄く形成される。 - 特許庁

By adding the retardation of the optical anisotropic plate 4 to the retardation of the TFD liquid crystal display panel 3, the minimum peak of the transmittance is shifted to a practical range of the spectral measuring device 6.例文帳に追加

光学異方体板４のリターデーションを、ＴＦＤ液晶表示パネル３のリターデーションに加算することで、透過率の最低ピークを分光測定器６の実用範囲にシフトする。 - 特許庁

In the liquid crystal device, the capacity ratio (=pixel capacity/element capacity) of the element capacity of the TFD element to the pixel capacity formed in liquid crystal related to the pixel electrode is set to 5 to 7, preferably, 6 to 7.例文帳に追加

この液晶装置では、画素電極に係る液晶に形成される画素容量とＴＦＤ素子の素子容量との容量比（＝画素容量／素子容量）は５〜７、より好ましくは６〜７に規定されている。 - 特許庁

The nonlinear resistance element is in what is called TFD (MIM) structure of metal-an insulating layer-metal, so that the manufacturing step is simple and the side electric field type display device can be manufactured at low cost.例文帳に追加

非線形抵抗素子は金属−絶縁層−金属のいわゆるＴＦＤ（ＭＩＭ）構造であるため、製造工程が単純であり、低コストでいわゆる横電界方式の表示装置を製作することができる。 - 特許庁

The element substrates has data lines, scanning lines, TFD elements, pixel electrodes, etc.; one pixel region is divided into two regions which are a reflecting display region and a transmitting display region; and an interdigital electrode portion is formed in each region.例文帳に追加

素子基板は、データ線、走査線、ＴＦＤ素子、画素電極等を有しており、１つの画素領域内は、反射表示領域と透過表示領域の２つの領域に分割され、各領域には、櫛歯状電極部が形成されている。 - 特許庁

In a TFD (Thin Film Diode) liquid crystal device, a plurality of wirings are formed on a first substrate and a plurality of wirings corresponding to the plurality of wirings on the first substrate are formed on a second substrate.例文帳に追加

ＴＦＤ液晶装置において、第１の基板には複数の配線が形成され、第２の基板には第１の基板の複数の配線に対応する複数の配線が形成される。 - 特許庁

The photospacers 21 which hold the layer thickness of the liquid crystal layer constant and have insulating properties are formed partially on the plurality of TFD elements 19.例文帳に追加

複数のＴＦＤ素子１９の一部の上には、液晶層の層厚を一定に保持すると共に絶縁性を備えたフォトスペーサ２１が形成される。 - 特許庁

The liquid crystal device has a couple of substrates which are opposed to each other across a liquid crystal layer and a plurality of TFD elements 19 which are provided on a 1st light-transmissive substrate 11a being on of the couple of substrates.例文帳に追加

液晶層を挟んで互いに対向する一対の基板と、それら一対の基板のうちの一方である第１透光性基板１１ａ上に設けられる複数のＴＦＤ素子１９とを有する液晶装置である。 - 特許庁

Where, an auxiliary capacitor C is electrically connected between the second sub liquid crystal capacitor L2 and a TFD 40 so as to be connected to the second sub liquid crystal capacitor L2 in series and connected to the first sub liquid crystal capacitor L1 in parallel.例文帳に追加

ここで、第２の副液晶容量Ｌ２とＴＦＤ４０との間には、第２の副液晶容量Ｌ２に直列、かつ、第１の副液晶容量Ｌ１に並列に補助容量Ｃが電気的に接続されている。 - 特許庁

To reduce the manufacturing cost of a TFD element-driven reflection and reflection/semitransmission type liquid crystal display device using an MIM type nonlinear element and, at the same time, to improve the refinement and contrast of the device by proposing a new manufacturing process.例文帳に追加

ＭＩＭ型非線型素子を用いたＴＦＤ素子駆動の反射型及び反射半透過型液晶表示装置の、新しい製造工程を提案することで、製造コストを低減し、かつ高精細化、高コントラスト化を実現する。 - 特許庁

To simplify a step of manufacturing an in-plane-switching liquid crystal display device by using a nonlinear resistance element such as a TFD (thin film diode) as a switching element.例文帳に追加

スイッチング素子として、ＴＦＤ（Thin Film Diode）などの非線形抵抗素子を使用することにより、横電界方式の液晶表示装置の製造工程を単純化する。 - 特許庁

These regulations are suitable for the case when performing a 130 ppi or higher highly precise display in an active matrix liquid crystal device using a TFD element.例文帳に追加

これらの設定は、ＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス型液晶装置で１３０ｐｐｉ以上の高精細表示を行う場合に好適である。 - 特許庁

Plural data lines 2, plural TFDs 8 connected with each of these plural data lines, and plural pixel electrodes 14 connected with these plural TFDs 8 each are arranged on TFD array substrate 1, and a color filter is arranged on a counter substrate.例文帳に追加

ＴＦＤアレイ基板１上に複数のデータ線２と、これら複数のデータ線２の各々に接続された複数のＴＦＤ８と、これら複数のＴＦＤ８の各々に接続された複数の画素電極１４とが設けられ、対向基板上にはカラーフィルターが設けられている。 - 特許庁

When a TFD 10 of lateral structure is manufactured, a resist mask 19 is formed on a tantalum film 13 and a thick first insulating film 17, and then the first insulating film 17 and the tantalum film 13 are subjected to dry etching.例文帳に追加

ラテラル構造のＴＦＤ１０を製造するにあたって、タンタル膜１３および分厚い第１の絶縁膜１７の上にレジストマスク１９を形成した後、第１の絶縁膜１７およびタンタル膜１３に対してドライエッチングを行う。 - 特許庁

When forming the nonlinear element (for example TFD 13) on the flexible plastic substrate 10, first a wiring film 141 for energization for anode oxidization is formed in a line on the plastic substrate 10 by using a mask sputtering method and a droplet discharge method.例文帳に追加

可撓性を有するプラスチック基板１０上に非線形素子（例えばＴＦＤ１３）を形成する場合に、まず、係るプラスチック基板１０の上に、マスクスパッタ法や液滴吐出法を用いて、陽極酸化のための通電用の配線膜１４１をライン状に形成する。 - 特許庁

To provide an electro-optical device manufacturing method of stably manufacturing an electro-optical device which is capable of stable display by preventing the occurrence of poor conduction between conductive films of an element formed by laminating a plurality of conductive films, such as a TFD element or wiring.例文帳に追加

ＴＦＤ素子、配線等のように複数の導電膜を積層して成る要素に関してそれらの導電膜間に導通不良が発生するのを防止することにより、安定した表示を行うことができる電気光学装置を安定して製造できる電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

While a vehicle is traveling (determined to be YES in S110), A delay period Tfd is secured by T1 between a time when the fuel cut conditions are satisfied and a time when the fuel injection is actually stopped so that deceleration shock is not increased by the execution of rapid fuel cut according to S120.例文帳に追加

走行状態時（Ｓ１１０のＹＥＳ判定時）には、Ｓ１２０により、急速な燃料カットの実行によって減速ショックが大きくならないように、燃料カット条件成立時点から実際に燃料噴射が停止されるまでのディレイ期間ＴｆｄをＴ１確保する。 - 特許庁

Accordingly, even when the increasing rate of the I/V value of the TFD by the annealing process at the center area of the initial circuit board 200 is small, the I/V characteristic does not fluctuate since a thick insulating film is formed to the first metal layer 222 formed in such a region.例文帳に追加

従って、元基板２００の中心領域でのアニール処理によるＴＦＤのＩ／Ｖ値のアップ度合いが小さい場合でも、このような領域に形成されている第１金属層２２２には厚い絶縁層が形成されるので、Ｉ／Ｖ特性がばらつかない。 - 特許庁

The non-linear element 10x is a TFD (thin film diode) element provided with: a lower electrode 13x; an insulation layer 14x covering the surface of the lower electrode 13x; and an upper electrode 15x opposite to the lower electrode 13x via the insulation layer 14x.例文帳に追加

非線形素子１０ｘは、下電極１３ｘ、この下電極１３ｘの表面側を覆う絶縁層１４ｘ、およびこの絶縁層１４ｘを介して下電極１３ｘに対向する上電極１５ｘを備えたＴＦＤ素子である。 - 特許庁

A resin scattering layer having fine recesses and projections on the surface in at least a reflective display region is formed to a predetermined thickness on at least a reflective display region of a TFD (thin film diode) element substrate, a reflecting layer having the recesses and projections on its surface is formed thereon, and an overcoat layer of a predetermined thickness is formed thereon.例文帳に追加

ＴＦＤ素子基板の少なくとも反射表示領域には表面に微細な凹凸を有する樹脂散乱層が所定厚さにて形成され、表面に凹凸が反映された反射層が形成されており、その上には、所定厚さのオーバーコート層が形成されている。 - 特許庁