PATTERN MEASUREMENT SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加

パターン計測システムおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a measurement system easy to manufacture a grating or a pattern.例文帳に追加

格子またはパターンの製造が容易である測定システムを提供する。 - 特許庁

And a second measurement system 52 (52X, 52Y), which has a measurement visual field that is narrower than that of the first measurement system 51, is used to observe the pattern RAM by a measurement magnification that is higher than that of the first measurement system 51.例文帳に追加

また、第１計測系５１よりも狭い計測視野を備えた第２計測系５２（５２Ｘ、５２Ｙ）を用いて、パターンＲＡＭを第１計測系５１よりも高倍な計測倍率で観察する。 - 特許庁

PATTERN DIMENSION MEASUREMENT METHOD USING ELECTRON MICROSCOPE, PATTERN DIMENSION MEASUREMENT SYSTEM AND MONITORING METHOD OF SECULAR CHANGE OF ELECTRON MICROSCOPE DEVICE例文帳に追加

電子顕微鏡を用いたパターン寸法計測方法、パターン寸法計測システム並びに電子顕微鏡装置の経時変化のモニタ方法 - 特許庁

A projection optical system 150 of a projector 100 projects a pattern image MI for measurement which includes a measurement line LM1 onto a projection screen SC.例文帳に追加

プロジェクタ１００の投写光学系１５０は、測定線ＬＭ１を有する測定用パターン画像ＭＩを、投写スクリーンＳＣに投写する。 - 特許庁

To provide an overlay measurement system for producing an overlay compensation value by measuring an overlay pattern, and an overlay measurement method therefor.例文帳に追加

オーバーレイパターンを計測してオーバーレイ補正値を生成するオーバーレイ計測装置及びそのオーバーレイ計測方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of pattern images for calibration are formed by splitting a light, passed through a light diffusion member of a mask device for measurement, an opening pattern PHG_j for calibration formed in a mask for measurement of the mask device for measurement, and the optical system to be inspected in order, through the wave front splitting of an optical system for measurement.例文帳に追加

測定用マスク装置の光拡散部材、測定用マスク装置の測定用マスクに形成された較正用開口パターンＰＨＣ_j、及び被検光学系を順次介した光を測定用光学系により波面分割して複数の較正用パターン像が形成される。 - 特許庁

A capacitance distribution on a real touch panel coordinate system is acquired as a measurement distribution, a feature pattern appearing in the measurement distribution is regarded as a measurement pattern, a coordinate transformation matrix, which makes the measurement pattern coincide with a regular pattern, is obtained, and a touch panel coordinate system/display coordinate system transformation function is updated so as to reflect coordinate transformation by the obtained coordinate transformation matrix.例文帳に追加

現実のタッチパネル座標系上の静電容量の分布を計測分布として取得し、計測分布に現れる特徴のパターンを計測パターンとして、計測パターンを正規パターンに一致させる座標変換行列を求め、求めた座標変換行列による座標変換が反映されるようにタッチパネル座標系-表示座標系変換関数を更新する。 - 特許庁

SCANNING ELECTRON MICROSCOPE SYSTEM FOR DIMENSION MEASUREMENT, AND EVALUATION SYSTEM OF CIRCUIT PATTERN FEATURE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

寸法計測走査型電子顕微鏡システム並びに回路パターン形状の評価システム及びその方法 - 特許庁

'CORONA PATTERN GRAPH', 'EXISTENCE MULTIDIMENSIONAL MULTIFORM MEASUREMENT SYSTEM', 'RELATIVE EXCURSION FORM EVALUATION SYSTEM', AND METHOD AND PROGRAM THEREFOR例文帳に追加

「コロナパターングラフ」、「存在多次元多形状測定方式」と「相対偏位形状評価方式」、その方法およびプログラム。 - 特許庁

In a step 417, an optimum dosage for exposure for a measurement pattern for optical characteristic measurement of the projection optical system is temporarily determined on the basis of the detection result of a formation state of an image of the measurement pattern formed in a plurality of regions on a wafer through exposure processing in a step 406.例文帳に追加

ステップ４１７において、ステップ４０６の露光処理によってウエハ上の複数の領域に形成された計測用パターンの像の形成状態の検出結果に基づいて、投影光学系の光学特性計測のための前記パターンの露光の最適ドーズ量が仮に決定される。 - 特許庁

This position measurement system is provided with a plurality of concentric circle pattern projection devices 3a, 3b and 3c in the neighborhood of a display 2 of a computer (PC) 1.例文帳に追加

本位置計測システムは、コンピュータ（ＰＣ）１のディスプレイ２の近傍に複数の同心円模様投影装置３ａ，３ｂ，３ｃを備える。 - 特許庁

To obtain a wavefront aberration measuring device which allows for high-precision measurement of the wavefront aberration of a tested optical system by suppressing the impact of interference pattern due to noise light.例文帳に追加

ノイズ光による干渉縞の影響を抑えて被検光学系の波面収差を高精度に計測することのできる波面収差計測装置。 - 特許庁

Successively, the optical characteristics of the optical system for measurement are calculated according to pieces of position information on the plurality of pattern images for calibration.例文帳に追加

引き続き、複数の較正用パターン像それぞれの位置情報に基づいて、測定用光学系の光学特性を算出する。 - 特許庁

To prevent contamination due to a metal foreign substance and an organic substance of a wafer pattern surface caused by dust generated from a wafer transport system of a length measurement device.例文帳に追加

測長装置のウェハ搬送系からの発塵によるウェハパターン面の金属異物および有機物汚染を防止する。 - 特許庁

Then the image plane of the projecting optical system is detected by repeating slit scanning type spatial image measurement by using the pattern plate 90 while servo-controlling the optical axis direction and inclination of the pattern plate 90 by using the multi-point AF system.例文帳に追加

そして、多点ＡＦ系を用いてパターン板９０の光軸方向位置及び傾斜をサーボ制御しつつパターン板９０を用いてスリットスキャン方式の空間像計測を繰り返して投影光学系の像面を検出する。 - 特許庁

To provide an SEM system for length measurement capable of high-accuracy and precise OPC (optical proximity correction) evaluation which is important from now on with advancement in a finer semiconductor design pattern, and to provide an evaluation system for a circuit pattern feature and a method therefor.例文帳に追加

半導体設計パターンの微細化に伴い今後重要となる高精度かつ詳細なＯＰＣ評価が可能とした測長ＳＥＭシステム並びに回路パターン形状の評価システム及びその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a printing system obtaining a calibration result suitable for an image forming apparatus each time by storing a measurement pattern for density correction generated by an image processor in the image processor and by enabling a user to reuse a measurement pattern for density correction for a calibration function when the user obtains the suitable measurement pattern for density correction by chance.例文帳に追加

画像処理装置で生成された濃度補正用測定パターンを画像処理装置内に記憶できるようにし、キャリブレーション機能において、利用者が偶然的に適した濃度補正用測定パターンを手に入れた場合、その濃度補正用測定パターンを再度利用すること事が可能にし、毎回同じようなその画像形成装置に適したキャリブレーション結果を得ることができる印刷システムを提供する。 - 特許庁

In the system for monitoring around a mobile object, a sensor control device stores a sweeping pattern of a frequency sweep width corresponding to a distance measurement range provided by each distance measurement sensor.例文帳に追加

移動体周辺監視システムにおいて、センサ制御装置は、各距離測定センサによる距離測定範囲に対応した周波数掃引幅の掃引パターンを記憶している。 - 特許庁

In the measurement of optical characteristics like the measurement of group delay using the interference system, correction is performed (63) on the basis of the detection of an optical pattern showing vibration noise to at least partially set off the vibration noise.例文帳に追加

干渉システムを使用した群遅延の測定のような光学特性の測定において、振動ノイズを表す光パターンの検出に基づいて補正を行う(63)ことにより、振動ノイズを少なくとも部分的に相殺することができる。 - 特許庁

To provide a magnetic measurement system for specifying the moving direction and orientation of a magnetic body, and for discriminating a movement pattern from the measurement data of two magnetic sensors.例文帳に追加

２つの磁気センサの計測データにより、磁性体の運動方向、向きが特定でき、運動パターンを区別し得る磁気測定システムを提供する。 - 特許庁

When a data quantity to be treated by an application of a construction object system, a processing pattern thereof and machine information are received from a client, the sizing support server constructs a measurement system for measuring processing performance in a client, and executes a pseudo application of an application system used in the measurement system on the client to measure machine performance (execution CPU time or usage memory amount).例文帳に追加

サイジング支援サーバ１００は、測定されたマシン情報と構築対象マシン情報とマシン性能の相対性能比を用いて、測定システムで測定した値を構築対象のマシン用に補正する。 - 特許庁

To provide a pattern size guarantee system for a photomask which can decide whether the photomask is normal by automatically referring to and comparing measurement specifications (design value, size tolerance, etc.), with pattern size measurement results of the photomask obtained by a plurality of size measuring instruments.例文帳に追加

複数の寸法測定装置で得られたフォトマスクのパターン寸法測定結果に対し測定仕様（設計値、寸法公差等）を自動的に参照、比較して、フォトマスクの合否判定を行うことができるフォトマスクのパターン寸法保証システムを提供することを目的とする。 - 特許庁

The surveying system of this invention comprises: a surveying instrument on which encoded pattern information with semantic meaning is printed; and a measuring instrument for inputting the measurement data on the basis of the pattern information of the surveying instrument, collecting the measurement data and transmitting them to a computer.例文帳に追加

本発明の測量システムは、意味を持つ符号化されたパターン情報が印刷された測量用具と、測定用具のパターン情報に基づいて計測データを入力して計測データを収集しコンピュータに送信する採寸用具とを備える。 - 特許庁

And the pattern RAM on the prescribed mask R is measured by the first measurement system 51 after the position relationship between the measurement visual field of the second measurement system 52 and the pattern RAM is determined, on the basis of the position information corresponding to the information when the existence of the identification information regarding the prescribed mask R is recognized in the stored information.例文帳に追加

そして、所定マスクＲ上のパターンＲＡＭを第１計測系５１で計測する前に、記憶された情報の中に所定マスクＲに関する識別情報の存在が認識されるとその情報に対応する位置情報に基づいて、第２計測系５２の計測視野とパターンＲＡＭとの位置関係を決定する。 - 特許庁

A first measurement system 51 is used to observe a pattern RAM formed on a mask R, and correspondingly stores the position information of the pattern RAM with identification information for identifying the mask R.例文帳に追加

第１計測系５１を用いて、マスクＲ上に形成されたパターンＲＡＭを観察し、パターンＲＡＭの位置情報をマスクＲを識別するための識別情報と共に対応付けて記憶する。 - 特許庁

The alignment mark of the partial transfer pattern on a transfer mask is measured in step 23, and the coordinate system of an actual alignment mark is computed in step 25 based on the above-mentioned measurement in this mask pattern transfer method.例文帳に追加

転写マスク上の部分転写パターンのアライメントマークを計測し（ステップ２３）、これらを基に実際のアライメントマークの座標系を算出する（ステップ２５）。 - 特許庁

The line width of the image of the line pattern 41 is measured at a plurality of positions in the lengthwise direction of the image of the central line pattern 41 and the optical characteristic of the optical system to be analyzed is obtained on the basis of a result of the measurement.例文帳に追加

中央のラインパターン４１の像の長手方向の複数の位置において、それぞれラインパターン４１の像の線幅を計測し、その計測結果に基づいてその被検光学系の光学特性を求める。 - 特許庁

An image is formed by an optical system to be analyzed of a measurement pattern 43A comprising a linear line pattern 41 extended in an X direction, and two line patterns 42A, 42B symmetrically tilted with respect to the line pattern 41 at a tilt angle θ.例文帳に追加

Ｘ方向に伸びた線状のラインパターン４１と、このラインパターン４１に対して対称に傾斜角θで傾斜した２つのラインパターン４２Ａ及び４２Ｂとからなる計測用パターン４３Ａの被検光学系による像を形成する。 - 特許庁

A board is exposed at a specified pattern through a projection optical system after projection magnification of the projection optical system is adjusted based on measurement result of a mark formed on the board placed on a board stage.例文帳に追加

基板ステージ上に載置された基板上に形成されているマークの計測結果に基づいて投影光学系の投影倍率を調整した後に、投影光学系を介して基板を所定パターンで露光する。 - 特許庁

In a projection exposure apparatus having a projection optical system projecting a pattern formed on an original plate on a substrate to be exposed, at least two oscillation measurement means are provided for measuring oscillation of the projection optical system.例文帳に追加

原版に形成されたパターンを被露光基板上に投影する投影光学系を有する投影露光装置において、前記投影光学系の振動を計測するための少なくとも２個の振動計測手段を設ける。 - 特許庁

To provide a position measurement system for accurately measuring displacement of an edge or a attention portion without being influenced by a coating pattern that varies depending on product types (that is, without requiring changes in the system arrangement in accordance with product types).例文帳に追加

品種によって変わる塗工パターンに影響されずに（すなわち品種による段替えが発生せずに）、エッジまたは注目部位の位置ずれを正確に測定する位置測定システムを実現する。 - 特許庁

Wave front distribution in the measurement optical system of the wave front sensor is calculated from the light reception results of each calibration pinhole pattern image PHI' and then the wave front aberration determined from light reception results of the CCD under a state where the entire surface of the measurement opening 46 is illuminated is corrected thus calibrating the wave front aberration measuring equipment.例文帳に追加

各較正用ピンホールパターン像ＰＨＩ’の受光結果から波面センサの測定用光学系における波面の分布を算出し、測定用開口４６の全面を照明した状態でのＣＣＤの受光結果から求めた波面収差を補正して、波面収差測定装置を較正する。 - 特許庁

Therefore, the system automatically recognizes the shape of a pattern 33a after the OPC process by recognizing the coordinates of each vertex and sets candidates [1] to [5] for a dimension measurement window which is a candidate for a region where the dimension measurement is done, in a space between coordinates of vertexes.例文帳に追加

そこで、システムが自動で、ＯＰＣ処理後のパターン３３ａに対して、例えば、頂点座標を認識するなどでパターン３３ａの形状を認識し、各頂点座標の合間の空間に寸法測定を行う領域の候補となる寸法測定ウインドウの候補［１］〜［５］を設定する。 - 特許庁

Based on the read data of a test pattern 200, the output density corresponding to an input pixel value at a measurement point is measured and plotted in the coordinate system of the input pixel value-output density, and then the output density is complemented between the measurement points thus obtaining a measured density curve 204.例文帳に追加

テストパターン２００の読取データに基づいて、入力画素値に対応した測定点における出力濃度を測定し、入力画素値−出力濃度の座標系にプロットし、各測定点間の出力濃度を補完して測定濃度曲線２０４を得る。 - 特許庁

To provide a method and a system for forming a wood grain pattern having a natural flow by measuring the distribution information on diving angles of fibers on the surface of a natural wood so as to model a three dimensional pattern of a wood grain on the basis of the measurement in order to extract a wood grain vessel pattern from the wood grain pattern.例文帳に追加

天然木材の表面における繊維の潜り角の分布情報を測定し、これを基に木理の三次元的なパターンをモデリングし、この木理パターンを用いて木目導管パターンを抽出することにより、自然な流れを持つ木目模様の生成を行う方法およびそのためのシステムを提供する。 - 特許庁

A system constant of the interconnected power system and a representative load pattern are recoded in a database 20 in advance, and a system parameter operator 110 calculates a system parameter which minimizes the voltage variation on the basis of the system constant and the representative load pattern, and a temperature calculated from a measurement value of a temperature sensor 7.例文帳に追加

連系される電力系統の系統定数および代表的負荷パターンをデータベース２０に予め記録し、この系統定数および代表的負荷パターンと、温度センサ７の計測値から算出した気温に基づき、系統パラメータ演算器１１０が電圧変動を最小化する系統パラメータを算出する。 - 特許庁

To provide a system which extracts a characteristic signal pattern from an image measurement result and detects a measurement problem, and to provide an automatic analyzer capable of precisely analyzing a plurality of items from one measurement result by feeding back an abnormality detected result to an apparatus and carrying out a recovery operation and a remeasurement.例文帳に追加

画像計測結果より特徴ある信号パターンを抽出して、計測不具合を検知するシステムを提供すること、また異常を検知した結果を装置にフィードバックして回復動作や再計測を実施することで、一つの計測結果から複数の項目を精度よく分析可能な自動分析装置を提供すること。 - 特許庁

Since only the measurement points whose irradiation region is within partition regions of the substrate are selected by the controller, a multi-point focusing position detection system (40, 42) uses only the selected measurement points to make accurate measurement of the position (and the slope) in the optical axis direction of the partition regions, where a mask pattern is to be transferred.例文帳に追加

この場合、制御装置では、計測点の照射領域が区画領域からはみ出さない計測点のみを選択することができるので、多点焦点位置検出系（４０，４２）では選択された計測点のみを使用して、マスクパターンの転写対象の区画領域の光軸方向の位置（及び傾斜）を高精度に計測する。 - 特許庁

When performing an angle measurement processing on an arrival signal by an interferometer system, the angle measurement processing device receives the arrival signal by a plurality of antenna elements for angle measurement in an antenna part, obtains the reception level received by one of the antenna elements and the reception level received in a sum pattern as a synthesized beam, and compares them.例文帳に追加

インターフェロメータ方式により到来する信号の測角処理を行う際に、到来する信号を空中線部内の測角用の複数のアンテナ素子で受信し、その中の１つのアンテナ素子で受信した受信レベルと、合成ビームとして和のパターンにより受信した受信レベルとを取得して、これらを比較する。 - 特許庁

The system is equipped with a scanning electron microscope 30 for measuring a pattern line width in a vacuum chamber 20 for dry etching so as to carry out intermediate length measurement of a pattern line width while a dry-etched photomask substrate 10 is mounted in the vacuum chamber for dry etching.例文帳に追加

ドライエッチング用真空チャンバー２０にパターン線幅を測長する走査型電子顕微鏡３０を備え、ドライエッチングしたフォトマスク基板１０をドライエッチング用真空チャンバー内に載置した状態でパターン線幅を中間測長する。 - 特許庁

To provide an optical substrate having a positioning pattern with which a position shift between top and reverse patterns of a relatively thick substrate such as a photomask substrate can be observed by a simple measurement system.例文帳に追加

簡単な測定系によってフォトマスク基板などの比較的厚い基板の、基板表裏面パターンの位置ずれを観測することができる位置合わせパターンを有する光学基板を提供する。 - 特許庁

The pattern includes an effective line to space ratio and can be tested, by using a microscope or a stepper system, or can be measured directly using a detector for the zeroth-order diffraction measurement.例文帳に追加

このパターンは、効果的なライン対スペース比を含み、顕微鏡またはステッパ・システムを使用して試験することができ、または０次回折測定用の検出器を使用して直接測定することができる。 - 特許庁

To provide a dry etching system having a function of intermediate length measurement for producing a photomask in which the pattern line width of a dry-etched metal film always satisfies dimensional specifications.例文帳に追加

ドライエッチングした金属膜のパターン線幅が常に寸法規格を満たしたフォトマスクを作製する中間測長機能を備えたドライエッチングシステムを提供する。 - 特許庁