「Xe」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A longitudinal acceleration estimating part 82 determines estimated longitudinal acceleration G_xe based on the longitudinal force F_1-F_4 and a prescribed equation of motion.例文帳に追加

前後加速度推定部８２は、前後力Ｆ_1，…，Ｆ_4及び所定の運動方程式に基づき推定前後加速度Ｇ_xeを算出する。 - 特許庁

The high voltage side capacitor 9b is used for power supply to a trigger circuit 13 exciting Xe gas inside the Xe tube 10.例文帳に追加

このとき、Ｘｅ管１０内のＸｅガスを励起するトリガ回路１３への電力供給には、高電圧側のコンデンサ９ｂを用いる。 - 特許庁

A second addition circuit 11 adds a position error signal Xe to the delay signal XL and outputs the position error signal Xe added to the delay signal XL.例文帳に追加

第２の加算回路１１は、位置誤差信号Ｘｅと、遅延信号ＸＬを加算して出力する。 - 特許庁

The cluster ion contains fullerene, bismuth, gold or Xe.例文帳に追加

クラスタイオンはフラーレン、ビスマス、金、またはＸｅをを含む。 - 特許庁

In the PDP apparatus 1, a discharge space in a panel part 10 is filled with discharge gas containing Xe in total pressure P_AL (kPa), and a Xe partial pressure ratio R_XE to the total pressure P_AL (kPa) is ≥20%.例文帳に追加

ＰＤＰ装置１では、パネル部１０における放電空間にＸｅを含む放電ガスが全圧Ｐ_ＡＬ（ｋＰａ）で充填されており、全圧に対するＸｅ分圧比Ｒ_ＸＥが２０（％）以上である。 - 特許庁

A reflecting plate 18, which covers an outer periphery of the Xe lamp 17, is composed of a main reflector 18a which surrounds an upper side of the Xe lamp 17 and both lateral sides, along a main scanning direction, of the Xe lamp 17, and a side reflector 18b which closes both lateral sides, along a subscanning direction, of the main reflector 18a.例文帳に追加

Ｘｅランプ１７の外周を覆う反射板１８は、Ｘｅランプ１７の上方及び主走査方向に沿う両側方とを囲むメインレフ１８ａと、このメインレフ１８ａの副走査方向に沿う両側方を塞ぐサイドレフ１８ｂとからなる。 - 特許庁

Xenon (Xe), krypton (Kr), or their mixed gas is used as the plasma gas.例文帳に追加

プラズマガスとして、キセノン（Ｘｅ），クリプトン（Ｋｒ），もしくはその両方の混合ガスを用いる。 - 特許庁

As the discharge gas GH, a low ionization energy gas such as xenon gas (Xe) is used.例文帳に追加

この放電用ガスＧ_H としては、キセノンガス（Ｘｅ）などの低イオン化エネルギーガスを用いる。 - 特許庁

There are Xe lamp, rare gas lamp, mercury lamp, hydrogen lamp types for flash lamps.例文帳に追加

フラッシュランプにはＸｅランプを初め、希ガスランプ、水銀ランプ、水素ランプなどがある。 - 特許庁

A high-pressure oxygen product 24 is extracted in gas form from the upper region of the Kr/Xe condensing column 15.例文帳に追加

高圧酸素製品(24)はＫｒ／Ｘｅ濃縮塔(15)の上部領域から気体状態で抽出する。 - 特許庁

As for the rare gas, argon (Ar) is especially preferable, and Ne, Kr and Xe are preferable.例文帳に追加

特に好ましい希ガスは、アルゴン（Ａｒ）であり、他の好ましい希ガスはＮｅ、Ｋｒ、およびＸｅである。 - 特許庁

A discharge gas having Ne and Xe gas as a main component is introduced in a panel 1 from a cylinder 28.例文帳に追加

ボンベ２８からＮｅおよびＸｅガスを主体とした放電ガスをパネル１に導入する。 - 特許庁

The Xe lamp 14 is insusceptible to aging as compared with a mercury fluorescent lamp.例文帳に追加

Ｘｅランプ１４は、水銀蛍光ランプと比較して経年劣化が少ない。 - 特許庁

Discharge gas including Xe gas is filled into a discharge space 13 of a panel part 10.例文帳に追加

パネル部１０の放電空間１３には、Ｘｅガスを含む放電ガスが充填されている。 - 特許庁

Xenon (Xe) gas is mixed with an atomic substance (for example, Kr, Ar, Ne, N_2 or NH_3) that emits free electrons of the number which is not less than the half of that of the electrons liberated from one Xe atom from a molecule or an atom in a temperature range where decavalent ions (Xe^10+) of Xe appear and exists as molecules or atoms at room temperature.例文帳に追加

キセノン（Ｘｅ）ガスと、Ｘｅの１０価イオン（Ｘｅ^１０＋ ） が出現する温度域で、１個のＸｅ原子から遊離される電子の数の少なくとも半分以上の数の自由電子を１個の分子或いは１個の原子から放出する、室温で分子または原子状の物質（例えばＫｒ， Ａｒ， Ｎｅ， Ｎ_２ ，ＮＨ_３ ）を混合する。 - 特許庁

Each Xe lamp is driven by one lamp drive part 24 with a shifted light-emitting timing.例文帳に追加

各Ｘｅランプを１つのランプ駆動部２４により発光タイミングをずらして駆動する。 - 特許庁

The optical fixing unit 9 employs a plurality of Xe lamps 14 as a fixing light source.例文帳に追加

光定着器９は、定着光源として、複数本のＸｅランプ１４を使用している。 - 特許庁

Six parallel-connected Xe tubes (the xenon flash tubes) 26, and one main capacitor 51 supplying a charge to the six Xe tubes 26 are provided in a lighting circuit 41.例文帳に追加

点灯回路４１には、並列に接続された６本のＸｅランプ（キセノンフラッシュランプ）２６と、これら６本のＸｅランプ２６に対して電荷を供給する１個のメインコンデンサ５１とが設けられている。 - 特許庁

The internal database further has an additional storage place XE and the storage place XE stores additional call reference to a second database TDS and is used when matching with the other call reference is not found.例文帳に追加

内部データベースはさらに追加の記憶場所ＸＥを有し、記憶場所ＸＥは、第２のデータベースＴＤＳへの追加の呼参照を格納し、その他の呼参照との一致が見出されない場合に使用される。 - 特許庁

The lamp control section 39 adjusts the lighting frequency of each Xe lamp 14 such that the total illuminance of the plurality of Xe lamps 14 reaches a required quantity of fixing light.例文帳に追加

ランプ制御部３９は、複数のＸｅランプ１４の合計の照度が必要な定着光量に達するように、各Ｘｅランプ１４の点灯周波数を調節する。 - 特許庁

A mixed gas of Xe, Kr or Ar and Xe or a mixed gas of Ar and Kr which can reduce the electron temperature of plasma is used as a noble gas in processing a film to be processed being an insulating film.例文帳に追加

さらに、絶縁膜である被加工膜を加工する際の希ガスとして、プラズマの電子温度を低減できるＸｅもしくはＫｒもしくＡｒとＸｅの混合ガスもしくはＡｒとＫｒの混合ガスを適用した。 - 特許庁

A surface temperature T of the main capacitor 45, which is charged with a voltage to be applied to a Xe lamp 17, is measured by a temperature sensor 48, before light is emitted by the Xe lamp 17.例文帳に追加

Ｘｅランプ１７を発光させる前に、Ｘｅランプ１７への印加電圧が充電されるメインコンデンサ４５の表面温度Ｔを温度センサ４８で測定する。 - 特許庁

To concentrate Xe to a high concentration simultaneously with N_2 at the time of recovery of Xe, which is contained in a waste gas from a semiconductor device fabrication apparatus, in a high concentration at a high recovery efficiency.例文帳に追加

半導体製造装置からの排ガスに含まれるＸｅなどを高濃度、高回収率で回収するに際し、ＸｅなどをＮ_２などと同時に高濃度に濃縮できるようにする。 - 特許庁

This gas discharge display comprises a discharge gas, consisting of five kinds of gases of He, Ne, Ar, Kr and Xe or four kinds of gases of He, Ne, Kr and Xe.例文帳に追加

放電ガスが、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ及びＸｅからなる５種類のガス、又はＨｅ、Ｎｅ、Ｋｒ及びＸｅからなる４種類のガスからなることを特徴とするガス放電表示装置により上記の課題を解決する。 - 特許庁

A cooling trap 43 for purifying the discharge gas is installed in the introduction passage of the discharge gas, and mixing-in of water and carbon dioxide which are an impurity gas component in the discharge gas is prevented without changing the Xe gas concentration in the discharge gas.例文帳に追加

放電ガスの導入経路において、放電ガスを純化するための冷却トラップ４３を設けて、放電ガスのXeガス濃度を変えることなく、放電ガス中の不純物ガス成分の水や二酸化炭素の混入を防止する。 - 特許庁

A PDP has, as a protection membrane 8, a structure in which at least one kind of rare gas atoms selected from He, Ne, Ar, Kr, Xe, and Rn is dispersed in the range of 10 ppm to 1,000 ppm against MgO that becomes a base material.例文帳に追加

本実施の形態におけるPDPは保護膜８として、母材となるMgOに対し、He, Ne, Ar, Kr, Xe, Rnから選択された少なくとも1種類の希ガス原子を10ppm〜1000ppmの範囲で分散させた構造とする。 - 特許庁

In this electronic flash device, a flash is emitted toward an object by a flash tube Xe, and electric charges for making the flash tube Xe emit light are stored on a main capacitor C_1.例文帳に追加

このストロボ装置にあっては、被写体に向けて発光管Ｘｅにより閃光発光が行われ、この発光管Ｘｅを発光させるための電荷がメインコンデンサＣ__1 に蓄積される。 - 特許庁

The Xe tube is excited by the impression of the trigger voltage, and light emitting current is flowed to the arc tube 15 by the discharge electrodes 15a, 15b of the Xe tube through the second secondary coil, and light-emission is started.例文帳に追加

トリガ電圧の印加によりＸｅ管が励起され、第２の２次巻き線を介してＸｅ管の放電電極１５ａ，１５ｂに印加されている放電電圧により発光管１５に発光電流が流れ、発光が開始される。 - 特許庁

Xenon gas is doped from a compact Xe gas cylinder 15 to gas for an excimer laser in a chamber 10 supplied from an Ar/Ne gas cylinder 13 and an Ar/Ne/F2 gas cylinder 14, and the rate of the xenon gas is detected by an Xe gas sensor 16, and the supply of the xenon gas to be supplied from the Xe gas cylinder 15 is controlled by a gas controller 18.例文帳に追加

Ａｒ／Ｎｅガスボンベ１３及びＡｒ／Ｎｅ／Ｆ2 ガスボンベ１４から供給されたチャンバ１０内のエキシマレーザ用ガスに小型のＸｅガスボンベ１５からキセノンガスを添加し、Ｘｅガスセンサー１６でキセノンガスの割合を検知して、ガスコントローラ１８でＸｅガスボンベ１５からチャンバ１０に供給するキセノンガスの供給を制御する。 - 特許庁

Xe microcrystals combined with each other and the resultant particles were arranged in the form of solid octahedrons. 例文帳に追加

キセノンの微結晶同士が結合し、結果として生じた微粒子は、三次元的な八面体の形に配列された。 - 科学技術論文動詞集

Preferably, the rare gas contains at least one of krypton (Kr), argon (Ar) and xenon (Xe).例文帳に追加

好ましくは、希ガスとして、クリプトン（Ｋｒ）、アルゴン（Ａｒ）、キセノン（Ｘｅ）の少なくとも何れか１つを含有する。 - 特許庁

Odd numbered sustaining electrodes are connected to form a sustaining electrode group XO and even numbered sustaining electrodes are connected to form a sustaining electrode group XE.例文帳に追加

奇数番号の維持電極を接続して維持電極群ＸＯとし、偶数番号の維持電極を接続して維持電極群ＸＥとする。 - 特許庁

To miniaturize a lamp drive part when a xenon flash lamp (Xe lamp) is used as a fixing tool of a multi-printer.例文帳に追加

マルチプリンタの定着器としてキセノンフラッシュランプ（Ｘｅランプ）を用いたときのランプ駆動部を小型化する。 - 特許庁

The component A is composed of one or more compounds selected from Kr, Xe, Ar and CH_2F_2 and the component B is composed of cyclopentane and/or cyclopentene.例文帳に追加

Ａ成分：Ｋｒ、Ｘｅ、Ａｒ、及びＣＨ_２Ｆ_２から選択される１以上の化合物 Ｂ成分：シクロペンタン及び／又はシクロペンテン - 特許庁

The deposition process may be accompanied with a carrier gas not containing oxide, such as He, Ar, Kr, Xe, hydrogen, and hydrocarbon.例文帳に追加

Ｈｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、水素、炭化水素などの酸素を含まないキャリアガスを成膜時に同伴させてもよい。 - 特許庁

The photographing equipment includes a first light emitting section having a xenon (Xe) tube and a main capacitor, and a second light emitting section having the LED.例文帳に追加

キセノン（Ｘｅ）管とメインコンデンサとを備える第１の発光部と、ＬＥＤを備える第２の発光部を配備する。 - 特許庁

Accompanying gas which does not contain oxygen such as He, Ar, Kr, Xe, hydrogen, hydrocarbon whose carbon number is 2-6 or the like can be accompanied upon forming the film.例文帳に追加

Ｈｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、水素、炭素数２〜６の炭化水素などの水素を含まない同伴ガスを成膜時に同伴させてもよい。 - 特許庁

A rectifying facility which has a low-pressure column 3 for separation of nitrogen and oxygen and a Kr/Xe condensing column 15, is used.例文帳に追加

窒素／酸素分離用の低圧塔(３)とＫｒ／Ｘｅ濃縮塔(15)とを有する精留設備を用いる。 - 特許庁

In manufacturing the semiconductor device with the damascene interconnect structure, the surface of wiring is subjected to reverse sputtering with Xe plasma.例文帳に追加

ダマシン配線構造を有する半導体装置を製造するに際し、配線表面を、Ｘｅのプラズマで逆スパッタリングする。 - 特許庁

The holding unit 22 holds a plurality of data XD which are sequentially supplied for every unit term U as data XE.例文帳に追加

保持部２２は、順次に供給される複数のデータＸDを単位期間Ｕ毎にデータＸEとして保持する。 - 特許庁

It is preferable to add an element having a main emission wavelength of 200 nm or less, such as Xe, into a discharge gas.例文帳に追加

望ましくは２００ｎｍ以下の主要発光波長を有する元素例えばＸｅを放電ガスに混入する。 - 特許庁

Ar, He or Xe is preferably employed as the inert gas and dummy heating is performed for 30-480 min at a temperature of 850-1,050°C.例文帳に追加

好ましくは、不活性ガスとして、Ａｒ、Ｈｅ、またはＸｅを用い、８５０〜１０５０℃の温度で、３０〜４８０分間空焼きを行う。 - 特許庁

To achieve a method of manufacturing a gas discharge panel, with usage of high-scarcity-value Xe gas restrained.例文帳に追加

本発明によれば、希少価値の高いＸｅガスの使用量を抑えた、ガス放電パネルの製造方法を実現することができる。 - 特許庁

Next, the SiF_4 and Xe are exhausted while reducing the pressure by evacuating air to the predetermined reachable vacuum degree with a vacuum pump.例文帳に追加

次いで、真空ポンプにより所定の到達真空度まで真空引きすることで、ＳｉＦ_4及びＸｅを減圧排気する。 - 特許庁

He gas is mixed with at least one gas selected from among Ne, Ar, Kr, Xe and Rn to form a sputter-gas mixture.例文帳に追加

Ｈｅガスと、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、ＸｅおよびＲｎから選択される少なくとも１つのガスとを混合してスパッタリングガス混合物を得る。 - 特許庁