第２の欠陥検出では、第２の真のデバイス欠陥と擬似欠陥とが分離されない状態で検出されるため、擬似欠陥検出で検出した擬似欠陥を用いて、第２の真のデバイス欠陥を分離して検出する。例文帳に追加

In the second defect detection, since detection is performed in the unseparated state between the second true device defect and a pseudo defect, the second true device defect is detected separately by using a pseudo defect detected by the pseudo defect detection. - 特許庁

欠陥発生状態の監視方法およびその装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR MONITORING DEFECT OCCURRENCE CONDITION - 特許庁

物体が歪んだ状態で見えるという視覚の欠陥例文帳に追加

a defect of vision in which objects appear to be distorted発音を聞く  - 日本語WordNet

欠陥状態表示装置およびその方法例文帳に追加

DEFECTIVE CONDITION DISPLAY DEVICE, AND ITS METHOD - 特許庁

被検体内部の欠陥を定量的に表示することができる欠陥状態表示方法を提供する。例文帳に追加

To provide a defective condition display method capable of quantitatively displaying defects inside a specimen. - 特許庁

メモリ１２２が備える欠陥情報リスト１２２ａは、欠陥情報リスト１２２ａは、データに欠陥のあるページとそのページの状態を保存する。例文帳に追加

A defect information list 122a provided for the memory 122 stores a page including defective data and the state of the page. - 特許庁

検査装置によって検出された欠陥位置座標に基づいて欠陥の分布状態を解析し、繰り返し欠陥、密集欠陥、線状分布欠陥、環・塊状分布欠陥、ランダム欠陥のうちいずれかの分布特徴カテゴリに分類する。例文帳に追加

It is a defect data analysis method to analyze the defect distribution status based on defect position coordinates detected by an inspection device to classify into any one of the distribution characteristics categories among iterations defect, high density defect, line distribution defect, ring/massive distribution defect, and random defect. - 特許庁

検査装置によって検出された欠陥位置座標に基づいて欠陥の分布状態を解析し、繰り返し欠陥、密集欠陥、線状分布欠陥、環・塊状分布欠陥、ランダム欠陥のうちいずれかの分布特徴カテゴリに分類する。例文帳に追加

Distribution state of defects is analyzed based on a defect position coordinate detected by an inspection equipment and classified into one distribution feature category of repetitive defect, aggregated defect, linear distribution defect, annular block distribution defect or random defect. - 特許庁

第１の欠陥検出では、擬似欠陥と正常状態とが分離されない状態で検出されるため、擬似欠陥検出によって擬似欠陥を検出する。例文帳に追加

In the first defect detection, since detection is performed in the unseparated state between a pseudo defect and a normal state, the pseudo defect is detected by pseudo defect detection. - 特許庁

この状態は回路パターン検査後の自動欠陥分類時に維持される。例文帳に追加

This condition is maintained, when an automatic defect classification is performed after the circuit pattern inspection. - 特許庁

この状態は回路パターン検査後の自動欠陥分類時に維持される。例文帳に追加

This condition is maintained at automatic defect classification time, after circuit pattern inspection. - 特許庁

欠陥遺伝子や、発達の不十分さから生じる異常な身体状態例文帳に追加

an abnormal physical condition resulting from defective genes or developmental deficiencies発音を聞く  - 日本語WordNet

半導体内不純物および欠陥の電子状態測定方法例文帳に追加

METHOD OF MEASURING ELECTRONIC STATE OF IMPURITY AND DEFECT IN SEMICONDUCTOR - 特許庁

結晶欠陥状態予測方法、シリコンウェーハの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR ESTIMATING CRYSTAL DEFECT STATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SILICON WAFER - 特許庁

切片ｂから無欠陥状態のチェーン抵抗が推定できる。例文帳に追加

The chain resistance R in no-defect status can be presumed by an intercept b. - 特許庁

密着前に第１状態の検査用基板１００での欠陥検査をし、密着後の第２状態の検査用基板１００での欠陥検査結果と第１状態の検査用基板１００での欠陥検査結果とを比較する。例文帳に追加

Defects on the plate 100 for the 1st state are inspected before contacting the carrier and the plate, and compared with the defects on the plate 100 for the 2nd state after contacting. - 特許庁

簡便かつ実際の欠陥に近い状態で欠陥の評価を行うことの可能な半導体の結晶欠陥の検出方法及び結晶欠陥の観察方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of detecting crystal defects of a semiconductor and a method of observing crystal defects, whereby the defects can be evaluated conveniently under conditions of approximating actual defects. - 特許庁

ラインを停止すること無く、欠陥検出器の誤作動によって付された欠陥マークを除去し、有効な欠陥マークのみを付した状態で成品を得ることができる薄鋼板への欠陥マーキングシステムを提供する。例文帳に追加

To provide a defect marking system to a thin steel sheet capable of removing a defect mark imparted by the error operation of a defect detector without stopping a line and obtaining a product at a state an effective defect only is marked. - 特許庁

基板が熱膨張した状態で欠陥検査を行っても正確な欠陥位置を得ることができ、生産効率を向上させることができるＰＤＰ用基板の欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide a defect inspection device for a PDP substrate and a defect inspection method capable of obtaining a precise defect location even if the defect inspection is carried out with the substrate in a state of thermal expansion, and capable of improving production efficiency. - 特許庁

目視又は画像処理等により配線パターンの欠陥の有無を確認し、欠陥を検出した場合は、その位置、座標及び大きさ等の欠陥情報を確認すると共に欠陥の種類を判定し、欠陥の種類及び状態に応じて加工方法及び加工条件を設定する（ステップＳ１）。例文帳に追加

The presence or absence of a defect in a wiring pattern is confirmed by visual observation, image processing, or the like; defect information on the position, coordinates, size, or the like is confirmed, and the type of the defect is determined; when the defect is detected; and a machining method and machining conditions are set according to the type and state of the defect (step S1). - 特許庁

欠陥検査装置の調整方法、欠陥検査装置の調整状態の評価方法、及びパターンの方位角の設定方法例文帳に追加

METHOD OF ADJUSTING DEFECT INSPECTION DEVICE, EVALUATING METHOD OF ADJUSTING STATE OF DEFECT INSPECTION DEVICE, AND SETTING METHOD OF AZIMUTHAL ANGLE OF PATTERN - 特許庁

更に、欠陥候補となるマトリクス要素の全ての存在状態に基いて検査対象となるワークの欠陥の有無を判定する。例文帳に追加

On the basis of the state of all the presence of the matrix elements as the defect candidates, the presence or absence of defects in the work to be inspected is determined. - 特許庁

検査対象物表面の状態にかかわらず、欠陥部位の誤検出を防止し、欠陥部位に対する検出精度の低下を防ぐ。例文帳に追加

To prevent erroneous detection of a defect portion regardless of the state of a detection object surface, and to prevent decline of detection accuracy to the defect portion. - 特許庁

補助容量部のピンホール欠陥による上部電極と下部電極との短絡欠陥をアクティブマトリクス基板の状態で修正する。例文帳に追加

To correct a short circuit defect between an upper electrode and a lower electrode due to a pinhole defect in an auxiliary capacitor part while the state of an active matrix substrate is present. - 特許庁

炉内機器に発生する個々の表面欠陥の状態に対して最適な欠陥処置方法を選択し適用することを可能にする。例文帳に追加

To select and apply an optimum defect treatment method to a condition of an individual surface defect occurring in an in-furnace apparatus. - 特許庁

結晶欠陥が修復された状態でイオン注入を行うことができるので、半導体基板１０の結晶欠陥を低減することができる。例文帳に追加

Since the ion injection is performed in the state with crystal defects repaired, the crystal defects of the semiconductor substrate 10 is reduced. - 特許庁

その結果、当該共通欠陥が存在すると判定された基板のみに、当該共通欠陥に対応する識別番号が付与された状態となる。例文帳に追加

Resultantly, a state is acquired, wherein the discrimination number corresponding to the common defect is imparted only to a substrate determined that the common defect exists thereon. - 特許庁

さらに、部分放電波形の測定による欠陥状態の判別結果と合わせて、欠陥発生要因を特定する。例文帳に追加

Further, the defect generating factor is specified based on this and the decision results of the defect condition by measurement of the partial discharge waveform. - 特許庁

この電流印加により結晶欠陥の発生が促進されて、使用時には、結晶欠陥が飽和に達した状態となり、光出力が安定する。例文帳に追加

Generation of crystal defects is accelerated by application of a current and since a state saturated with crystal defects is reached when in use, optical output is stabilized. - 特許庁

表面欠陥分布状態の把握と欠陥深さ評価の双方に適した渦電流探傷プローブを提供すること。例文帳に追加

To provide an eddy current flaw detection probe suitable for both of the grasping of a surface flaw distribution state and the evaluation of the depth of a flaw. - 特許庁

非接触状態で精度よくかつ高速に欠陥を測定することができる基板の欠陥検査方法および検査装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a method for inspecting a defect in a substrate and to provide an inspection apparatus for rapidly measuring a defect in a noncontact state with high accuracy. - 特許庁

これによって、ブルー相以外の配向状態を示す欠陥（配向欠陥）を抑制した液晶表示装置を作製する。例文帳に追加

This can provide the liquid crystal display device in which the defect (orientation defect) representing other oriented states than the blue phase is suppressed. - 特許庁

表示された状態の表面画像２０２内での表面欠陥２０４の相対位置と、表示された状態の裏面画像２０１ｂ内での裏面欠陥２０３ｂの相対位置とに基づいて、表面欠陥２０４と裏面欠陥２０３ａ（２０３ｂ）との関連性を示すための標識が、さらに表示される。例文帳に追加

A mark for indicating relationship between a front-surface defect 204 and a rear-surface defect 203a (203b) is further displayed based on a relative position of the front-surface defect 204 within the displayed front-surface image 202 and a relative position of the rear-surface defect 203b within the displayed rear-surface image 201b. - 特許庁

画像処理による欠陥検査方法であり、被検査体の表面状態に依存することなく、クラック等の欠陥の有無の検出が自動的に精度よく検査できる欠陥検査方法を提供することを目的とするものである。例文帳に追加

To provide a defect-inspecting method using image processing, independent of the surface state of an inspected object, and automatically and accurately detecting and inspecting the existence of defects, such as cracks. - 特許庁

その際、検査用画像データを欠陥検出用画像の画像状態に対応させて変換することにより、欠陥検出用画像から検出される異常個所が、真の欠陥であるか否かを判定することができる。例文帳に追加

In this case, the image data for inspection is converted in correspondence with the image state of the image for defect detection, and thus it is discriminated whether the abnormal position detected from the image for defect detection is a true defect or not. - 特許庁

検査対象物の表面状態の欠陥を極めて高精度に検出することが可能な欠陥検出方法及び欠陥検出装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a defect detection method and a defect detection device capable of detecting a defect of the surface state of an inspection object with extremely high accuracy. - 特許庁

空間フィルタを備えたＤＦ欠陥検査装置において、事前に空間フィルタの設定状態を把握して補正し、欠陥検査精度を格段に向上させて信頼性の高い欠陥検査を実現することを可能とする。例文帳に追加

To achieve high reliability defect inspection by obtaining and correcting the setting state of a spatial filter in advance, thereby markedly enhancing precision of defect inspection in a DF defect inspection device equipped with a spatial filter. - 特許庁

透明体シート状物表面に発生した曲率変化の小さな凹凸状欠陥を、最も鮮明な明暗像になる状態で結像させることにより、欠陥を漏れなく検出し、信頼性の高い欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a highly reliable defect inspection device detecting defects without omission by forming, in a clear contrast image, an image of a rugged defect with small curvature changes formed on a transparent body sheet-like material surface. - 特許庁

材料や形状、サイズ、付着状態等が様々な態様の異物欠陥に対して、安定で確実な欠陥修正を行えるフォトマスク用欠陥修正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for correcting defects of a photomask which stably and reliably corrects various types of defects caused by foreign substances, based on materials, shapes, sizes and adhesive degrees. - 特許庁

小型・高密度化するパワーモジュールのような機器内部の絶縁欠陥発生箇所の詳細な位置検出および欠陥状態の判別をすることで欠陥発生要因の特定を行うことのできる被測定物の欠陥検出装置と方法を提供する。例文帳に追加

To provide a device and method for detecting defects of an object to be measured for specifying a defect generating factor by detecting a detailed position of an insulation defect generating part and determining the defect state inside an apparatus such as a miniaturized power module increasing in density. - 特許庁

このとき得られるデジタルな画像をもとに、評価部８１は赤外カットフィルタ１０の検査部分に欠陥があるか否かを評価し、欠陥がある場合には、その欠陥の位置、大きさ、形状などの欠陥の状態をＨＤＤ８２に記録する。例文帳に追加

An evaluation part 81 evaluates the presence of the defect in the inspection portion of the infrared cut-off filter 10, based on a digital image obtained therein, and records a state of the defect such as a position and a size a shape of the defect, in an HDD 82, when the defect exists. - 特許庁

走査光学系の欠陥を、装置に組み込む前の単体の状態で検査することを可能にする。例文帳に追加

To inspect the defect of a scanning optical system in the single state before integration into a device. - 特許庁

欠陥レビュー時には、静電偏向器１２の偏向量を欠陥検出時より低下させた状態で１次電子線を試料に照射して試料１９の欠陥欠陥候補の２次電子画像を形成することにより立体的なＳＥＭ像が得られる。例文帳に追加

In reviewing the defects, by irradiating the primary electron beam on the testpiece in such a state that the deflection amount of the electrostatic deflector 12 is reduced than the detection time of defects, and by forming the secondary electron microscopic picture of the defect candidate of the testpiece 19, the three-dimensional SEM image is obtained. - 特許庁

範囲外であれば、画像欠陥の自動補正を行うか否か、ユーザの選択待ち状態とする。例文帳に追加

If the result is out of the range, the device waits until the user determines whether to make the automatic correction of an image defect or not. - 特許庁