To improve the reflectivity of a reflection mirror of an oblique incidence in the total reflection range of X rays.例文帳に追加

Ｘ線の全反射領域における斜入射の反射ミラーの反射率を向上させる。 - 特許庁

To provide a total reflection fluorescence X-ray analyzer capable of precisely analyzing even if scattered X-rays and impure rays occur by primary X-rays from the inner wall of a total reflection fluorescence X-ray analyzer, by preventing the rays entering into a detector.例文帳に追加

１次Ｘ線によって全反射蛍光Ｘ線分析装置の内壁などから散乱Ｘ線や不純線が発生してもそれらが検出器に入射するのを防止して、正確な分析ができる全反射蛍光Ｘ線分析装置を提供する。 - 特許庁

TOTAL REFLECTION FLUORESCENT X-RAY ANALYSIS METHOD AND APPARATUS HAVING CONFIGURATION USING SAMPLE SUBSTRATE AND REFLECTOR FOR ACHIEVING MULTIPLE TOTAL REFLECTION AND CONVERGENCE OF X RAYS例文帳に追加

試料基板と反射板を用いてＸ線が多重全反射して収束する構成にした全反射蛍光Ｘ線分析法および該分析装置 - 特許庁

The crystal is irradiated with X-rays under a condition shifted from a Bragg reflection condition by a minute angle, the X-rays transmitted through the crystal are detected and the strain of the crystal is detected on the basis of the displacement from the locus by the incident X-rays at a position where the transmitted X-rays are detected.例文帳に追加

ブラッグ反射条件から微小角ずれた条件でＸ線を結晶に照射し、結晶から透過するＸ線を検出し、透過Ｘ線が検出される位置の入射Ｘ線による軌跡からの変位に基づいて結晶の歪みを検出する。 - 特許庁

The respective parametric X-rays are extracted by being reflected selectively by reflection monocrystals 3, 5, 7, 9, 10 for X-ray selection.例文帳に追加

それぞれのパラメトリックＸ線を、Ｘ線選択用の反射単結晶３、５、７、９、10で選択的に反射させて取り出す。 - 特許庁

The method for X-ray analysis of the sample includes directing of a beam of X-rays to impinge on an area of the periodic feature on the surface of the sample, and receiving the X-rays scattered from the surface in a reflection mode so as to detect a diffraction spectrum in the scattered X-rays as a function of the azimuth.例文帳に追加

試料をＸ線解析する方法は、試料の表面上の周期構造の領域に衝突するようにＸ線ビームを方向付け、方位角の関数として散乱Ｘ線の回折スペクトルを検出するように反射モードで表面から散乱したＸ線を受け取ることを含む。 - 特許庁

X rays are irradiated to a flocculate thus obtained at an angle causing them to be totally reflected, and the radiated X rays are detected to perform total reflection fluorescent X-ray analysis (S105).例文帳に追加

この凝集物にＸ線を全反射する角度で照射し、放射Ｘ線を検知することにより、全反射蛍光Ｘ線分析を行う（Ｓ１０５）。 - 特許庁

The actual reflectivity of an X-ray total reflection mirror with a multi-layer structure is more approximate to the theoretic value than that of an X-ray total reflection mirror with a single-layer structure because each layer absorbs less X rays.例文帳に追加

多層膜構成のＸ線全反射ミラーの実際の反射率は、各層の吸収が少ないために、単層膜構成のＸ線全反射ミラーに比べて理論値に近い。 - 特許庁

The white X rays are applied to the sample 2 at an incident angle ranging from 0 to 1° in a step of 0.1°, the illuminated X rays are totally reflected, and the reflection factor of the intensity of the reflected X rays is measured by a silicon drift detector 9 to measure an energy distribution.例文帳に追加

試料２に白色Ｘ線を入射角が０から１°まで、０.１°ステップで入射し、照射されたＸ線を全反射させ、反射Ｘ線の強度をシリコンドリフト検出器９で反射率を測定してエネルギー分布を測定する。 - 特許庁

Primary X rays consisting of either non-dispersed white X rays or dispersed monochromatic X rays are collimated or condensed by an X-ray mirror 2 and enter the surface of a sample 3 at an incident angle near a total reflection critical angle, and fluorescence X rays 4 from the sample 3 are measured by a wavelength dispersion system.例文帳に追加

分光していない白色Ｘ線或いは分光した単色Ｘ線のいずれかからなる一次Ｘ線１をＸ線ミラー２によって平行化或いは集光したのち、試料３の表面に全反射臨界角近傍の入射角で入射させ、試料３からの蛍光Ｘ線４を波長分散方式で測定する。 - 特許庁

In a case where the sample 10 is of aluminum, the dose rate of the X-rays 103 is larger than in a case where it is of lead or iron, and the larger the dose rate is, the larger the reflection angle of the X-rays 103 is.例文帳に追加

反射Ｘ線103における線量率は、サンプル１０がアルミニュームであるとき、鉛や鉄であるときよりも大きく、また反射Ｘ線103の反射角度が大きいほど大きい。 - 特許庁

Incidence X rays 103 of copper Cuα1 (1.5374 Å) from an X-ray tube 101 pass through a slit 102 and is reflected from a crystal r surface that is an artificial crystal ingot 105 at an incidence point 104, and enters an X-ray detection section 112 as reflection X-rays 111.例文帳に追加

Ｘ線管１０１からの銅Ｃｕα_１（１．５３７４Å）の入射Ｘ線１０３はスリット１０２を通り入射点１０４で人工水晶インゴット１０５である水晶ｒ面で反射し、反射Ｘ線１１１として、Ｘ線検出部１１２に入る。 - 特許庁

To obtain a photoelectron spectroscopic device which can set the incident angle of X-rays at the critical total reflection angle in a short time.例文帳に追加

短時間でＸ線入射角を全反射臨界角に設定することができる光電子分光装置を提供すること。 - 特許庁

A fifth reflection surface pair 34 used for asymmetrically reflecting the X-rays by Ge {111} plane, and a reflecting surface 38 is non parallel with the {111} face.例文帳に追加

第５の反射面ペア３４はＧｅ｛１１１｝面でＸ線を非対称反射させるものであり、反射面３８は｛１１１｝面に対して非平行である。 - 特許庁

Spectroscopy of fluorescent X-rays emitted from a sample in a total reflection condition or its periphery is carried out by means of a curved crystal 1.例文帳に追加

全反射条件またはその近傍において試料から放出される蛍光Ｘ線（Ｂ）の分光を湾曲結晶（１）により行う。 - 特許庁

A first reflection surface pair 11 is used for diffracting X-rays by Ge {220} plane or {440} plane.例文帳に追加

第１の反射面ペア１１はＧｅ｛２２０｝面または｛４４０｝面でＸ線を回折させるためのものである。 - 特許庁

The interval between two reflecting surfaces 12, 14 of the first reflection surface pair 11 is used as a direct passage, to enable passage of an incident X-rays 42.例文帳に追加

第１の反射面ペア１１の二つの反射面１２、１４の間はダイレクト通路になっていて入射Ｘ線４２が通過できる。 - 特許庁

To provide a reflection type projection optical system in which good reflection characteristics are provided even for X-rays, an increase in the sizes of reflection mirrors is suppressed and aberration correction is properly conducted.例文帳に追加

Ｘ線に対しても良好な反射特性を有し、反射鏡の大型化を抑えつつ収差補正を良好に行うことのできる反射型の投影光学系。 - 特許庁

To provide a reflection type projection optical system which has good reflection characteristics even to X-rays and where reflection mirrors are prevented from getting larger and an aberration is excellently compensated.例文帳に追加

Ｘ線に対しても良好な反射特性を有し、反射鏡の大型化を抑えつつ収差補正を良好に行うことのできる反射型の投影光学系。 - 特許庁

Primary X-rays x_1 are irradiated with a predetermined incident angle from an X-ray tube 4 arranged on the surface side of the magnetic tape T, and the intensity of fluorescence X-rays f_1 generated from a target element in the magnetic film 3 is detected by a semiconductor detector 11 arranged in the reflection angle corresponding to the incident angle.例文帳に追加

磁気テープＴの表面側に配置したＸ線管球４から所定の入射角で１次Ｘ線ｘ_1 を入射させ、磁性膜３内のターケット元素から発生する蛍光Ｘ線ｆ_1 の強度を入射角に対応する反射角の方向に配置した半導体検出器１１で検出する。 - 特許庁

This device comprises a sample base 13 for mounting a sample 1, a primary X-ray irradiation part 2 for making primary X-rays incident on the surface of the sample at an incident angle causing total reflection, and a detector 11 for detecting fluorescent X-rays generated from the sample 1.例文帳に追加

試料１を載置する試料台１３と、１次Ｘ線を試料１の表面に対し全反射を起こす入射角で入射させる１次Ｘ線照射部２と、試料１の表面に対向して配置され、試料１から発生する蛍光Ｘ線を検出する検出器１１とを備えている。 - 特許庁

X rays emitted from the radiation source impinge on the reflection mirror via the interval, and are totally reflected by the reflection mirror and overlap each other for irradiation as the flux.例文帳に追加

前記線源から射出されたＸ線が前記間隙を介して前記反射ミラーに入射し、前記反射ミラーでそれぞれ全反射して互いに重畳することにより、前記フラックスとして照射される。 - 特許庁

The microchip 1 is used to bring the object liquid to be measured to spill out as the analysis sample in the analysis section 10, and after drying the analysis sample preferably, primary X-rays are made incident under the total reflection condition, and fluorescent X-rays are detected.例文帳に追加

このマイクロチップ１を使用して、分析部１０に測定対象液を分析試料として溢れ出させ、好ましくは分析試料を乾燥させた後、１次Ｘ線を全反射の条件で入射させて蛍光Ｘ線を検出する。 - 特許庁

The inclined angle of the analytical sample is set to be brought into the total reflection angle of characteristic X-rays used in the analysis or the extraction angle near thereto, using an energy dispersion type X-ray spectrometer set to the X-ray extraction angle same to those of the wavelength dispersion type X-ray spectrometers.例文帳に追加

波長分散形Ｘ線分光器と同一のＸ線取出し各度に設定されたエネルギー分散形Ｘ線分光器を用いて、分析に用いる特性Ｘ線の全反射角またはその近傍の取出し角度になるように分析試料の傾斜角度を設定する。 - 特許庁

To provide a total reflection fluorescence X-ray analyzer which can significantly improve the utilization efficiency and the measuring limit of X rays by using a secondary target method ideal for the analysis of light elements.例文帳に追加

軽元素分析に好適な２次ターゲット法を用いて、Ｘ線の利用効率および測定限界を大幅に向上できる全反射蛍光Ｘ線分析装置を提供する。 - 特許庁

Reflection waves of X-rays generated by the partial discharge 50 from the tip of the movable contact piece 23 and the tips the fixed contact part 25 are detected by an X-ray detection unit 40 disposed outside a container 21.例文帳に追加

部分放電５０により発生したＸ線の、可動接触子２３の先端部および固定側接触部２５の先端部からの反射波を、容器２１の外部に設けたＸ線検知部４０で検知する。 - 特許庁

Moreover, the phase change of the X rays due to the sample 2 is allowed to emerge on the X-ray image pick-up element 3 as interference contrast by locating a reflection standard 7 in a symmetrical position to the surface S1 of the object with respect to a beam splitter 6.例文帳に追加

また、反射原器７をビームスプリッタ６に関して物体面Ｓ１と対称の位置に配置し、試料２によるＸ線の位相変化をＸ線撮像素子３上に干渉コントラストとして出現させる。 - 特許庁

To provide a total reflection fluorescent X-ray analyzer which condenses a solution to the minute region of a pinpoint and capable of analyzing an ultrafine amount of a sample with high sensitivity using the condensed sample to be meanured, and an analyzing method using total reflection fluorescent X-rays.例文帳に追加

溶液をピンポイントの微小領域に凝縮させると共に、凝縮した測定対象試料を用いて超微量の測定対象試料を高感度で分析できる全反射蛍光Ｘ線分析装置および全反射蛍光Ｘ線を用いた分析方法を提供する。 - 特許庁

Oxygen absorption material 2 containing iron powder under examination is put on a goniometer 3, X-rays is irradiated from an X-ray generator 1, Bragg reflection intensity at a diffraction angle of 44.5 degrees is measured by a counter 4, and the quality of the oxygen absorption material is examined on the basis of the Bragg reflection intensity thus measured.例文帳に追加

鉄粉を含む検査酸素吸収材料２をゴニオメータ３上に載置し、Ｘ線発生装置１からＸ線を照射し、回折角度４４．５°におけるブラッグ反射強度をカウンタ４により測定し、測定されたブラッグ反射強度に基づいて、酸素吸収材料の品質を検査する。 - 特許庁

The sample S is exposed to the atmosphere to be irradiated with X rays L and the angle dependence of the reflection intensity thereof can be measured.例文帳に追加

試料Ｓは大気中に露出されており、Ｘ線Ｌが照射され、その反射強度の角度依存性を測定することができるように構成されている。 - 特許庁

The inspection method includes obtaining of a first reflectivity spectrum of the sample 22, while the sample 22 is irradiated with parallel X-rays, and processing the first reflectivity spectrum, in order to measure the diffuse reflection characteristics of the sample 22.例文帳に追加

その検査方法はＸ線の平行光線でサンプル２２を照射中に、サンプル２２の第１の反射率スペクトルを取得し、サンプル２２の散漫反射特性を測定するために第１の反射率スペクトルを処理する。 - 特許庁

The optical system is equipped with a plurality of reflection mirrors stacked via an interval mutually for a plane direction orthogonal to an emission axis of the X rays from the radiation source.例文帳に追加

前記光学系は、前記線源からの前記Ｘ線の射出軸と直交する平面方向について、互いに間隙を介して積層される複数枚の反射ミラーを備える。 - 特許庁

That is, as a result that one part or the all of incident rays is converted into X direction or Z direction by the top face 4A, the possibility of fulfilling the total reflection condition is enhanced.例文帳に追加

すなわち、入射光線のＹ方向成分の一部又は全てが前記天面４ＡによってＸ方向又はＺ方向に変換される結果、光線が全反射条件を満たす可能性が高まる。 - 特許庁

To permit highly accurate measurement of the shape of a reflection surface or the like of a non-spherical mirror and a reflected wave front of the non-spherical mirror having a multilayer film for reflecting X rays formed on the surface.例文帳に追加

非球面ミラーの反射面形状等、表面にＸ線を反射させる多層膜を形成した非球面ミラーの反射波面等を高精度に計測することができる干渉計を提供する。 - 特許庁

To prevent lowering of the quantitative and qualitative analyzing accuracy of impurities, when the impurities on the surface of a semiconductor wafer are analyzed quantitatively and qualitatively by total reflection fluorescent X-rays or the like.例文帳に追加

全反射蛍光Ｘ線等により半導体ウェーハ表面上の不純物の定量、定性分析を行う際に、不純物の定量、定性分析精度の低下を防止する。 - 特許庁

To provide an X-ray image detection device which includes a photodetector and on which X-rays are incident toward a scintillator from the side of the photodetector that has a new structure capable of satisfactorily exhibiting adhesion between a support body and a phosphor and reflection characteristics of light, respectively.例文帳に追加

光検出器を備え、光検出器側からシンチレータに向かってＸ線が入射するＸ線画像検出装置において、支持体と蛍光体との密着性、および光の反射特性のそれぞれを良好に発揮しうる新規な構造のシンチレータを提供すること。 - 特許庁

In the method for measuring the structure of the silicon surface, soft X-rays are made incident onto a wafer surface under condition of total reflection, and intervals between peaks in the intensity of diffraction (especially the interval between a maximum peak and the following peak) are measured to identify a step width.例文帳に追加

シリコン表面構造を計測する方法において、軟Ｘ線をウェーハ表面に全反射条件で入射し、回折強度のピーク間隔（とくに最大ピークとその次のピークとの間隔）を測定することによりステップ幅を同定する。 - 特許庁

The spacing d between the atomic reflection planes continuously varies in the at least one direction for enhanced matching of incident angles of x-rays from a divergent source impinging on the optical surface with the Bragg angles on at least some points of the optical surface.例文帳に追加

該複数の原子反射面の間隔ｄは、該光学表面の少なくとも一部にブラッグ角で該光学表面に衝突する発散性の線源からのｘ線の入射角との適合を高めるため少なくとも一つの方向で連続的に変化する。 - 特許庁