t phとは 意味・読み方・使い方

When the detected pH value after the prescribed time T since the initial operation mode is started is in the prescribed range, the mode is shifted to a feedback control mode.例文帳に追加

初期運転モードの開始から所定時間Ｔが経過した時点で検出ｐＨ値が所定範囲内にある場合には、フィードバック制御モードに移行する。 - 特許庁

In addition, the polishing processing performance of the polishing solution is arbitrarily controlled by changing the relative polishing performance of the solution between the Ta- and T-based metallic films and copper-based metallic films by adding an oxidizing agent or reaction suppressor to the solution or changing the pH of the solution.例文帳に追加

また当該研磨液に酸化剤、反応抑制剤を添加する、或いはｐＨを変化させることにより、Ｔａ系、Ｔｉ系金属膜と銅系金属膜の相対的な研磨特性を変化させ、研磨加工性を任意に制御する。 - 特許庁

This method for producing a polyorganosiloxane comprises polymerizing a 4 (or 3)-t-butoxy-α- and/or β-dialkylchlorosilylethylbenzene synthesized by the hydrosilylation reaction of a t-butoxystyrene or the like and a tetraalkoxysilane in an alcohol by addition of water, and thereafter adjusting the pH of the obtained reaction solution with an anion-exchange resin.例文帳に追加

ｔ−ブトキシヒドロスチレン類のヒドロシリレーション反応により合成された、４（または３）−ｔ−ブトキシ−α−および／またはβジアルキルクロロシリルエチルベンゼン等とテトラアルコキシシランをアルコール中、水を添加することにより重合させた後、得られた反応液のｐＨを陰イオン交換樹脂を用いて調整する。 - 特許庁

In the photosensitive lithographic printing plate which has at least one polymerizable photosensitive layer on a hydrophilic support and is subjected to laser exposure, an unexposed portion of the photosensitive layer satisfies 2≤t≤30 wherein t is a time (second) in which the unexposed portion is thoroughly removed by dissolution in an alkaline aqueous developer of ≤pH 13.例文帳に追加

親水性支持体上に、重合性感光層を少なくとも１層有し、レーザーで露光する感光性平版印刷版において、該感光層の非露光部が、ｐＨ１３以下のアルカリ性水性現像液に対し完全に溶解除去される時間をｔ秒としたときに、２≦ｔ≦３０を満たすことを特徴とする光重合型感光性平版印刷版。 - 特許庁

A substrate holder PH comprises a base PHB, a first holding unit PH1 which is formed on the base PHB for suction-holding a substrate P, and a second holding unit PH2 which is formed on the base PHB for suction-holding a plate member T near the substrate P suction-held by the first holding unit PH1.例文帳に追加

基板ホルダＰＨは、基材ＰＨＢと、基材ＰＨＢに形成され且つ基板Ｐを吸着保持する第１保持部ＰＨ１と、基材ＰＨＢに形成され且つ第１保持部ＰＨ１に吸着保持された基板Ｐの近傍にプレート部材Ｔを吸着保持する第２保持部ＰＨ２とを備えている。 - 特許庁

A substrate holder PH has a base PHB, a first holder PH1 which is formed on the base PHB for suction-holding a substrate P, and a second holder PH2 which is formed on the base PHB for suction-holding a plate member T near the substrate P suction-held by the first holder PH1.例文帳に追加

基板ホルダＰＨは、基材ＰＨＢと、基材ＰＨＢに形成され且つ基板Ｐを吸着保持する第１保持部ＰＨ１と、基材ＰＨＢに形成され且つ第１保持部ＰＨ１に吸着保持された基板Ｐの近傍にプレート部材Ｔを吸着保持する第２保持部ＰＨ２とを備えている。 - 特許庁

A substrate holder PH includes: a base material PHB; a first holding part PH1 which is formed on the base material PHB and holds a substrate P by suctioning the substrate; and a second holding part PH2 which is formed on the base material PHB and holds a plate member T by suctioning the plate member near the substrate P suctioned and held by the first holding part PH1.例文帳に追加

基板ホルダＰＨは、基材ＰＨＢと、基材ＰＨＢに形成され且つ基板Ｐを吸着保持する第１保持部ＰＨ１と、基材ＰＨＢに形成され且つ第１保持部ＰＨ１に吸着保持された基板Ｐの近傍にプレート部材Ｔを吸着保持する第２保持部ＰＨ２とを備えている。 - 特許庁

A cleaned liquid containing remarkably small quantity of the insoluble material is obtained to reduce the load of a filtration vessel B by providing the adjusting means D for controlling, for example, a timer T or a pH value changing structure D1 for a fixed time in the insoluble material decomposition and cleaning device 1 to increase the deposition of the insoluble material present in the separation vessel A in the device 1.例文帳に追加

不溶解物分離浄化処理装置１内の分離槽Ａに存在する不溶解物の析出量を多くするために一定時間コントロールする調整手段Ｄ、例えばタイマーＴやｐＨ値変更機構Ｄ１を装置１に設置することによって、不溶解物の極めて少ない浄化液体が得られ、濾過槽Ｂの負荷を軽減することができる。 - 特許庁