「"化学研磨"」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

化学研磨により薄型化された貼合せガラス基板ＧＬを受入れて、その後の処理を実行する後処理装置ＥＱＵである。例文帳に追加

The postprocessing apparatus EQU receives a stuck glass substrate GL of which the thickness is reduced with chemical polishing and conducts postprocessing thereafter. - 特許庁

円錐ころ４の全表面に、酸化物除去処理としての化学研磨処理が施された被処理領域９が形成される。例文帳に追加

A treated region 9 where chemical polishing treatment as an oxide removing treatment is performed, is formed on the entire surface of the cone roller 4. - 特許庁

次に、エッチングによる化学研磨を行った（ステップＳ３）後、ウェハの両面を粗研磨する（ステップＳ４）。例文帳に追加

The wafer is subjected to chemical polishing through etching (step S3), and then both surfaces of the wafer are roughly polished (step S4). - 特許庁

短時間でかつ高精度に化学研磨を行うことができる歯車およびその研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a gear and a grinding method therefor in which chemical polishing is performed in a short period of time and with high precision. - 特許庁

化学研磨用治具に固定したチタン製の薄板をディッピング槽に浸けてメッシュの表面に付着したデブリを除去する。例文帳に追加

A thin board fixed on a jig for a chemical polishing and made of titanium is dipped in a dipping tank, and a debris is removed adhering on the surface of a mesh. - 特許庁

化学研磨した後の銅箔材１０の表面に形成された凹部１１の深さの平均値は、０．０５μｍ以上０．３μｍ以下である。例文帳に追加

The average depth of a recess 11 formed on the surface of the copper foil material 10 after subjected to chemical polishing is 0.05 μm or more and 0.3 μm or less. - 特許庁

従来よりも寿命が長い、ガラス基板表面を薄板化研磨するためのガラス基板用化学研磨液を提供する。例文帳に追加

To provide a chemical polishing solution for a glass substrate, which is used for polishing the surface of the glass substrate to reduce the thickness of the substrate and has a life longer than that of a conventional one. - 特許庁

化学研磨処理において、容器内面に茶褐色膜が形成されない内面処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide an inner surface treatment method never forming a brown film on the inner surface of a container in a chemical polishing treatment. - 特許庁

貼り合わせガラス板の場合は、当該ガラス板を研磨液に浸漬してガラス表面を２００μｍ以上化学研磨する。例文帳に追加

In the case of laminated glass, the glass plate is chemically polished to a depth of at least 200 μm by immersion in a polishing fluid. - 特許庁

また、ｐＨが０〜３で、鉄含有金属表面、及び銅含有金属表面を化学研磨するのに適用できる。例文帳に追加

Further, the solution has a pH value from 0 to 3, and is applicable for chemically polishing an iron-containing metal surface and a copper-containing metal surface. - 特許庁

さらに、内部めっき前に化学研磨液などで内部の余分なめっきや不純物を除去することでより均一に内部めっきを施すことができる。例文帳に追加

Further, an excess internal plating or impurities are removed by a chemical polishing solution, or the like, before internal plating to plate the inside more uniformly. - 特許庁

パイプを切断加工した後、スリット(22)を設け、電解研削、化学研磨を必要により組み合わせて割スリーブの内径を上記の規格とする。例文帳に追加

A slit (22) is formed after the pipe is cut and processed, and the inside diameter of the split sleeve is set as the standard combining electrochemical grinding and chemical polishing when necessary. - 特許庁

熱処理により周溝１１ｂ内に形成された熱酸化被膜は、化学研磨処理により除去される。例文帳に追加

The thermal oxide layer formed in the circumferential groove 11b by the heat treatment is removed by the chemical polishing treatment. - 特許庁

化学研磨後の表面に残存する直径１μｍ以上の第２相粒子の数を、２０００個／ｍｍ^２以下とする。例文帳に追加

The number of second phasic particles which remained bigger than 1 μm in diameter on the surface after the chemical polishing is to be less than 2000/mm2. - 特許庁

２段階プロセスは、部分焼結発光管を熱間等方加圧し、発光管表面を化学研磨する段階を含む。例文帳に追加

Two-stage processes including stages of hot isotropic pressurization of the partially sintered light emitting tube and chemically polishing the light emitting tube surface is carried out. - 特許庁

また、エッチング後に、機械研磨または機械化学研磨を行なうことにより、２枚のガラス基板１、２の表面をより一層平坦化する。例文帳に追加

The surfaces of the two glass substrates 1, 2 are further flattened by carrying out mechanical polishing and mechanochemical polishing. - 特許庁

歯内療法ファイル（１０）の製造方法は、所望のテーパを有する歯内療法ファイルを作製するために化学研磨工程を含む。例文帳に追加

A method of manufacturing endodontic files (10) involves a chemical milling process to yield endodontic files having a desired taper. - 特許庁

対象物が化学研磨品である場合であっても良好な検査ができるパターン検査方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a pattern inspection method in which an object can be inspected satisfactorily even when the object is a chemically polished product. - 特許庁

ガラス基板を化学研磨によって均一に薄型化し、表示面の湾曲が可能な液晶表示装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a liquid crystal display device, which can uniformly make a glass substrate small in thickness by chemical polishing and curving a display surface. - 特許庁

深絞り加工性に優れ、しかも化学研磨した際の光輝性にも優れたアルミニウム合金材料を提供する。例文帳に追加

To provide an aluminum alloy material which has excellent deep drawability and further exhibits excellent brightness on chemical polishing. - 特許庁

鉄を主成分とする合金の化学研磨剤及びこれを用いた鉄を主成分とする合金の表面処理法方法例文帳に追加

CHEMICAL POLISHING AGENT FOR ALLOY CONSISTING ESSENTIALLY OF IRON, AND SURFACE TREATMENT METHOD FOR ALLOY ESSENTIALLY CONSISTING OF IRON USING THE SAME - 特許庁

更に、化学研磨の終了後には、水晶ウェハ７を純水にて洗浄してポリッシュ加工は終了する。例文帳に追加

Further after the end of chemical polishing, the crystal wafer 7 is cleaned with pure water to finish polishing work. - 特許庁

バスケット単位で実行される化学研磨処理を複数回繰り返した後、沈殿空間に沈殿する反応生成物を排出口から排出する。例文帳に追加

After the chemical polishing carried out in a basket unit is repeated several times, a reaction product deposited in a deposition space is discharged from a discharge port. - 特許庁

粗化処理層２０は、下地めっき層を施さずに化学研磨した後の銅箔材１０の表面上に形成されている。例文帳に追加

The roughened layer 20 is formed on the surface of the copper foil material 10 after subjected to chemical polishing without applying an undercoat layer. - 特許庁

表面に鋭利に尖っている角部を有する金属材料の前記角部を優先的に腐食・研磨して丸めることのできる化学研磨液と研磨方法、及び、化学研磨してできあがった金属材料を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a chemical polishing liquid with which, in a metallic material having a sharp corner part on the surface, the corner part can be preferentially etched/polished, and rounded, to provide a chemical polishing method, and to provide a metallic material produced by being subjected to chemical polishing. - 特許庁

容器内周面４が、化学研磨液を用いる化学研磨処理によって平滑化されており、微細孔と汚れとが一括して除去されていることから、汚れと内部に充填された物質とが反応することが無く、充填された物質の劣化、成分変化、濃度変化が防止される。例文帳に追加

The deterioration and the change in the components and the concentration of the substance filled are prevented without reacting the substance filled in the interior with stain, since an inner peripheral surface 4 of a container is smoothed and micropores and the stain are collectively removed by a chemical abrasive process using chemical abrasive liquid. - 特許庁

傾斜状態に保持されたガラス板ＧＬの表面に沿って、エッチング液を流下させる化学研磨工程と、化学研磨工程を経たガラス板を除去液に浸漬する浸漬工程と、除去液から取り出したガラス板を洗浄液で洗浄する洗浄工程とを複数回繰り返す。例文帳に追加

This method comprises repeating a plurality of times a series of a chemical polishing step of allowing the etchant to flow downwardly along the surface of the glass sheet GL which is kept slanted, an immersion step of immersing the glass sheet having been subjected to the chemical polishing step in a removing liquid, and a washing step of washing the glass sheet taken out from the removing liquid with a washing liquid. - 特許庁

本発明は、耐熱性絶縁フィルムと銅箔を積層後、化学研磨で薄化させることにより製造する極薄銅箔積層フィルムであって、化学研磨後の銅箔表面を防錆処理する事により、長期保管が可能で、軽量で搬送が容易な極薄銅箔積層フィルムの製造方法及びこれらの移送方法を提供する事を目的とする。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of lightweight and very thin copper foil laminated-film easy-to-convey, formed by laminating the copper film on a heat-resistant insulating film, then by thinning by chemical polishing, preservable over a long time by subjecting the copper foil surface after the chemical polishing to the rustproofing treatment, and a transferring method thereof. - 特許庁

金属めっきを施す銅又は銅合金のめっき前処理として必要十分なレベルの表面状態を、むらなどの発生無く形成できる銅又は銅合金の化学研磨剤と、被めっき物としてその化学研磨剤を用いてめっき前処理を施した銅又は銅合金を用いる金属めっき方法を提供する。例文帳に追加

To provide a chemical polishing agent of copper or copper alloy which forms a surface state of a required and sufficient level, without generation of unevenness or the like, as pretreatment of plating of the copper or the copper alloy to which metal plating is applied, and to provide a metal plating method using the copper or the copper alloy treated before plating using the chemical polishing agent, as a plated material. - 特許庁

上記課題を解決するために、銅又は銅合金表面のめっきの前処理に用いる化学研磨剤として、硫酸第二鉄、硫酸、非イオン性界面活性剤、ハロゲンイオンの各成分を含み、且つ、硫酸の含有量と硫酸第二鉄の含有量との比［硫酸の含有量］／［硫酸第二鉄の含有量］の値が１〜４である化学研磨剤を用いる。例文帳に追加

The chemical polishing agent to be used for pretreatment of plating of a surface of the copper or the copper alloy includes each component of ferric sulfate, sulfuric acid, a nonionic surface active agent, and a halogen ion, wherein a value of a ratio of contents of the sulfuric acid to contents of the ferric sulfate, [the contents of the sulfuric acid]/[the contents of the ferric sulfate] is 1 to 4. - 特許庁

ディスクの情報を読み取る機能若しくはディスクに情報を書き込む機能を有するヘッドが付設されるアルミニウム製のヘッドアクチュエータ１の表面処理方法であって、ヘッドアクチュエータ１を適宜な手段により形成した後、該ヘッドアクチュエータ１を化学研磨薬品処理槽２に浸漬して前記ヘッドアクチュエータ１に形成されているバリを該化学研磨薬品により除去するものである。例文帳に追加

The surface treatment method for the aluminum head actuators 1 annexed with heads having a function to read the information of disks or a function to write the information to the disks consists in forming the head actuators 1 by suitable means, then immersing the head actuators 1 into a chemical polishing agent treating vessel 2 and removing the burn formed at the head actuators 1 by chemical polishing agent. - 特許庁

機械研磨では薄膜化過程は化学研磨より再現性があるので、(研磨用の)機械は始動されてから薄膜化がほとんど完了するまで、そのままにしておくことができる。例文帳に追加

In mechanical polishing, thinning process is more reproducible than chemical polishing and hence the machine may be started and then left alone until thinning is almost complete.  - 科学技術論文動詞集

陽極酸化処理の前処理として、化学研磨処理又はアルカリエッチング処理が施されていることにより、グレー色の色調でありながら、その光沢についても調整される。例文帳に追加

As pretreatment to the anode oxidation treatment, chemical polishing treatment or alkali etching treatment is performed thereto, thus, even if being a gray color tone, its gloss is also controlled. - 特許庁

油圧緩衝器１０のピストンロッド２０において、ピストンロッド２０の外周面に、機械研削を施した後、化学研磨を施し、その後、陽極酸化処理を施したもの。例文帳に追加

In this piston rod 20 for a hydraulic shock absorber 10, after mechanical grinding is applied, chemical grinding is applied, thereafter anodic oxidation treatment is applied to an external peripheral surface of the piston rod 20. - 特許庁

半導体の半田メッキ工程において、化学研磨処理により発生したスマットやＣｕ素地から剥離したＡｇ被膜を確実に除去することの出来る特殊銅合金材の前処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for pretreating a special copper alloy material in which smut generated by chemical polishing or an Ag coating stripped from Cu base can be removed surely in the solder plating process of semiconductor. - 特許庁

フッ化物および過酸化水素フリーの環境に優しい化学研磨液を提供くし、それを使用してＣｕ合金材、特にコルソン系のＣｕ合金材を綺麗に、安定して研磨する方法を提供する。例文帳に追加

To provide an eco-friendly chemical polishing liquid which does not contain a fluoride and hydrogen peroxide, and to provide a method for neatly and stably polishing a Cu alloy material, particularly a Corson Cu alloy material by using the same. - 特許庁

化学研磨で、単結晶サファイア基板を研磨しても表面粗さは平坦化されているものの、凹凸分布に規則性が見られないため、窒化物半導体をエピタキシャル成長させるのに適していない。例文帳に追加

To solve the problem of a single-crystal sapphire substrate that even though surface roughness is planarized, after chemical polishing, no regularity is seen in its roughness distribution, therefore it is not suitable for the epitaxial growth of a nitride semiconductor. - 特許庁

シリコン粒子凸部は、他の部品表面と接触し、化学研磨されたアルミニウム系金属凹部は、潤滑剤を溜め込むことで良好な耐摩耗性を示す。例文帳に追加

The projecting parts of the silicon particles are contacted with the other component surface, and the recessed parts of the aluminum based metal subjected to the chemical polishing exhibit satisfactory wear resistance by the storage of a lubricant. - 特許庁

モノ過硫酸水素塩とリン酸を含有し、モノ過硫酸水素塩濃度が１０〜２０ｇ／Ｌ、リン酸濃度が１００〜２００ｍＬ／Ｌである化学研磨液を使用する。例文帳に追加

The chemical polishing liquid to be used includes a hydrogen monopersulfate of 10 to 20 g/L and phosphoric acid of 100 to 200 mL/L. - 特許庁

水晶ウェハに化学研磨として機能するポリッシュ加工を施した際に、所望の研磨特性が得られる水晶ウェハのポリッシュ加工の手段を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a means for polishing a crystal wafer, obtaining desired polishing characteristic in applying polishing work functioning as chemical polishing to the crystal wafer. - 特許庁

これによって、電解研磨や化学研磨、または不動態化処理等の清浄な表面処理を効果的に施すことができ、しかも、この空孔から金属イオン等の不純物の溶出や、発錆を防止することができる。例文帳に追加

In this way, the clean surface treatment, such as an electrolytic grinding, a chemical grinding or a passivating treatment, can efficiently be applied, and thus, the elution of the impurities, such as metal ion or the development of rust, from the voids can be prevented. - 特許庁

サーボ領域におけるパターン外の記録膜をエッチングで除去し、エッチングで生じたパターン内外の凹凸は、非磁性膜成膜とＣＭＰ化学研磨を用いて平坦にする。例文帳に追加

A recording film outside a pattern in a servo area is eliminated by etching, irregularity caused by etching inside and outside the pattern is made flat by using non-magnetic film formation and CMP chemical polishing. - 特許庁

化学研磨や電解研磨を施さずに圧延のままで微細なクラックなどの欠陥の無い平滑な表面を有する高純度アルミニウム圧延板を提供する。例文帳に追加

To provide a high purity aluminum rolled sheet having a smooth surface free from defects such as fine cracks as-rolled without applying chemical polishing and electrolytic polishing. - 特許庁

基材作製工程においては、圧延による転写、化学研磨、電解研磨、又は機械研磨のいずれかにより、表面粗さＲａが０．００１〜０．０５μｍのアルミニウム合金からなる基材２を作製する。例文帳に追加

In the base material production process, the base material 2 comprising the aluminum alloy having surface roughness Ra of 0.001-0.05 μm is produced by one of transfer by rolling, chemical polishing, electrolytic polishing and mechanical polishing. - 特許庁

電解研磨と比べて、複雑な形状や微小な部品、は開口部の大小による研磨量の偏りがなく、均一した研磨量が得られるレーザ加工によるメタルマスクの化学研磨方法を得る。例文帳に追加

To obtain a method for chemical-polishing a metal mask by laser processing which can suppress deviation of the amount of polishing due to the size of an opening part and can obtain an uniform amount of polishing compared to electrolytic polishing for a component having a complicated shape or a minute structure. - 特許庁