「"Micro-Pattern"」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a defect correction method capable of correcting easily a micro pattern omission defective part, without imparting a damage in the vicinity of the defective part and without generating contamination.例文帳に追加

欠陥部の近傍にダメージを与えたり、汚染することなく、微細なパターン抜け欠陥部を容易に修正することが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

In the micro pattern correction method, a correction part is baked by repeating laser-beam scanning from one end to the other in a baking process.例文帳に追加

この微細パターン修正方法では、焼成する工程において、修正部の一方端から他方端までレーザ光の走査を繰り返すことによって修正部を焼成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a three-dimensional micro pattern or a multi-step pattern using a nano imprint process, and to provide a method of manufacturing a mold for forming such a pattern.例文帳に追加

ナノインプリント工程を用いて３次元微細パターンや多段パターンを成形する方法とこのようなパターンを成形するためのモールドの製作方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern capable of forming a micro-pattern equal to a lithographic forming method with the same easiness as that of a print forming method.例文帳に追加

印刷的形成方法と同様な簡易さで、リソグラフィ的形成方法に匹敵する微細パターンを形成することが可能なパターン製造方法を提供する。 - 特許庁

A molding die in which a micro pattern is formed on the surface of a fibrous core material is manufactured, metal is filled in the pattern by plating, and then the molding die is removed.例文帳に追加

繊維状の芯材の表面に微細パターンが形成された鋳型を製造すると共にメッキによりそのパターンに金属を充填し、その後鋳型を除去する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating an electronic device in which the profile and the film thickness of a micro pattern can be controlled with high precision through a simple process while suppressing damage on the device.例文帳に追加

簡単なプロセスで、かつデバイスへのダメージも少なく、微細化されたパターンの形状および膜厚を高精度に制御できる電子装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

MICRO PATTERN INSPECTING METHOD AND SYSTEM, CD-SEM DEVICE MANAGING METHOD AND SYSTEM AND PROGRAM AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM例文帳に追加

微細パターン検査装置、ＣＤ−ＳＥＭ装置の管理装置、微細パターン検査方法、ＣＤ−ＳＥＭ装置の管理方法、プログラムおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

Furthermore, they have excellent conductivity and can be applied easily for the micro pattern formation essential for manufacturing of various display such as various kinds of mobile devices, liquid crystal display, and electronic paper system.例文帳に追加

また、優れた導電性を有し、各種モバイル機器、液晶ディスプレイ、電子ペーパーシステム等、多様なディスプレイ機器の製造に必須の微小パターン形成工程に容易に適用することができる。 - 特許庁

To provide a molding method of a molded resin body which has a micro-pattern set up closely following a transfer pattern of a die on at least one surface of its front and back faces, and the molded body.例文帳に追加

表裏面の少なくとも一方の面に、微細パターンが金型の転写用パターンに忠実に設けられた樹脂製成形体の成形方法及び成形体を提供する。 - 特許庁

Thereby, a large-area micro pattern can be formed, a semiconductor process can be applied to a pattern of several tens of nanometers, and reduction of process expense, reduction of process time and improvement of manufacturing yield can be achieved.例文帳に追加

これにより、大面積微細パターンの成形及び半導体工程の数十ナノパターンへの適用が可能になり、工程費用の低減、工程時間の短縮及び製造収率の向上が図られる。 - 特許庁

To provide a technology for raising the output of supersonic vibration while preventing peeling or falling of a micro pattern formed on a substrate, relating to a substrate processing equipment that uses supersonic vibration.例文帳に追加

超音波振動を利用した基板処理装置において、基板上に形成された微細パターンの剥離や倒壊を防止しつつ、超音波振動の出力を上げることができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a photo-alignment film excellent in photo-alignment of a lyotropic liquid-crystalline dichroic compound, to provide a manufacturing method of the photo-alignment film, and to provide a manufacturing method of a micro-pattern polarizing element using the photo-alignment film.例文帳に追加

リオトロピック液晶性二色性色素化合物の配向性に優れた光配向膜とその製造方法並びにこれを用いたマイクロパターン偏光素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a paste material developing both excellent conductivity at low-temperature treatment and excellent adhesiveness to a printed body, having thixotropy suited for screen printing having a micro pattern.例文帳に追加

低温処理で良好な導電性を発現するとともに被印刷体への良好な接着性を発現し、かつ、微細パターンを有するスクリーン印刷に適するチキソトロピーを有するペースト材料を提供する。 - 特許庁

Then a thin film 15 is allowed to selectively grow on the organic single molecular film pattern 14, and transferred to a 2nd substrate 16 to form a micro-pattern 17 consisting of the thin film 15 on the 2nd substrate 16.例文帳に追加

次いで、有機単分子膜パターン１４上に薄膜１５を選択成長させ、第２の基板１６に転写することにより、第２の基板１６に薄膜１５よりなるマイクロパターン１７を形成する。 - 特許庁

To prevent the generation of a micro pattern defect or dust and to prevent the abrupt deterioration of a chemical filter even if the concentration of chemical contaminants contained in air in a clean room is increased.例文帳に追加

クリーンルームの空気中に含まれる化学汚染物質の濃度が高くなっても、微細なパターン欠陥又は異物の発生を防止できるようにすること及び化学フィルタが急激に劣化しないようにする。 - 特許庁

The method has a process for forming a resist pattern on a film formed on a semiconductor substrate, performing the dry etching using the resist pattern as a mask to form the micro pattern, a process for supplying a resist removing liquid to the micro pattern formation plane of the semiconductor substrate to remove the resist pattern by single wafer processing, and a process for performing rinsing on the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板に設けられた膜上にレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクに用いてドライエッチングを行い、前記膜の微細パターンを形成する工程と、前記半導体基板の微細パターン形成面にレジスト除去液を供給し、枚葉式処理により前記レジストパターンを除去する工程と、前記半導体基板をリンス処理する工程と、を有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

Therefore, the resin is kept in a low melt viscosity when filled in the cavity CV, making it relatively easy to mold resin articles MP with a micro-pattern etc., especially a high precision lens LP.例文帳に追加

よって、キャビティＣＶに充填される際の樹脂溶融粘度を低い状態で維持することができ、微細パターン等を有する樹脂成形品ＭＰ、特に高精度のレンズＬＰの成形が比較的容易になる。 - 特許庁

To provide a microscopic part having various surface characteristics and functional groups, high in precision in a micro pattern and easy to manufacture by studying a new manufacturing method of the microscopic part using macromolecular particulates.例文帳に追加

本発明は、高分子微粒子を用いた新たなマクロ部品の作製方法を検討し、それにより、種々の表面特性や官能基を有すると共に、ミクロパターンの精度が高く、容易に作製できるマイクロ部品の提供を目的とする。 - 特許庁

In this method for producing the nano/microfiber nonwoven fabric by electrospinning, a base material which has a fine concave-convex pattern structure in a collector part of a counter electrode plate is used as a mold, so that the nano/microfiber nonwoven fabric having a micro pattern structure is produced.例文帳に追加

ナノ・マイクロファイバー不織布のエレクトロスピニングによる製造方法であって、対極板のコレクタ部において微小凹凸パターン構造を有する基材を鋳型とすることでマイクロパターン構造を持つナノ・マイクロファイバー不織布を製造する。 - 特許庁

With the wettability improved, the cleaning liquid gets into concave parts of the pattern on the semiconductor substrate, etc., where a micro-pattern is formed, and as a result, poor cleaning caused by inappropriate wettability is circumvented, attaining a good cleaning effect.例文帳に追加

濡れ性の改善によって微細パターンが形成された半導体基板などにおいても、パターン凹部に洗浄液が良好に接触し、その結果、濡れ性が悪いことに起因した洗浄不良が回避され、良好な洗浄効果が得られる。 - 特許庁

To manufacture a semiconductor device excellent in element characteristics with a better yield by removing a resist by wet cleaning and by sufficiently removing particles and metal impurities without damaging a micro pattern after dry etching in a lithographic process.例文帳に追加

リソグラフィ工程のドライエッチング後において、ウェット洗浄によりレジストを除去するとともに、微細パターンにダメージを与えることなくパーティクルや金属不純物を十分に除去し、素子特性に優れた半導体装置を歩留まりよく製造する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing various forms of replica molds for nano imprint using nano imprint and a dry etching process; and a method of forming a multi-step pattern or a micro pattern using a nano imprint process with the manufactured replica molds for nano imprint.例文帳に追加

ナノインプリントと乾式エッチング工程とを用いて多様な形態のナノインプリント用のレプリカモールドを製作する方法と製作されたナノインプリント用のレプリカモールドでナノインプリント工程を用いて多段パターンや微細パターンを成形する方法を提供する。 - 特許庁

An insulating resin film 20 is placed on the open shaping die 10, a pattern following pressurizing medium 60 attached on a frame member 61 is pressed onto the insulating resin film 20 and an uneven micro-pattern is transferred to the insulating resin film pressed by the pattern following pressurizing medium 60.例文帳に追加

開放成形型１０上に絶縁樹脂フィルム２０を配備させ、枠材６１に取り付けられたパターン追従加圧媒体６０を絶縁樹脂フィルム２０に向けて押圧させて、パターン追従加圧媒体６０による加圧成形によって、凹凸状の微細パターンを絶縁樹脂フィルム２０に転写させる。 - 特許庁

The mold for resin molding is a sheet made of 4-methyl-1-pentene base polymer, at least the surface of one side of which a micro-pattern comprising of a pattern having tongues and/or grooves is provided under the condition that the tongue width and/or the groove width is 10 nm-50 μm.例文帳に追加

少なくとも片方の表面に微細パターンを有し、その微細パターンが凸部および／または凹部を有するパターンからなり、その凸部および／または凹部の幅が１０ｎｍ〜５０μmである、４−メチル−１−ペンテン系重合体を含む樹脂からなるシート、そのシートである樹脂成形用モールド。 - 特許庁

Accordingly, the method of manufacturing the multi-resistance film screen forms the metal wiring pattern by photolithography method and screen printing method and then provides the metal wiring pattern for markedly attaining the micro pattern with reduced wiring resistance, resulting in manufacturing of the high-resolution multi-resistance film touch screen.例文帳に追加

これによれば、マルチ抵抗膜スクリーンの製造において金属配線パターンをフォトリソグラフィ法及びスクリーン印刷法を用いて形成することによって、微細パターンが実現され且つ配線抵抗を顕著に減少させた金属配線パターンを提供し、高解像度のマルチ抵抗膜タッチスクリーンを製造することができる。 - 特許庁

The pattern molding method includes; a step (S 140) of applying resists on a plurality of small molds marked with the masks or the micro-patterns, a step (S 150) of pressing the plurality of small molds and imprinting the micro-pattern of a curing resist, a step of curing the resist and a step (S 170) of releasing the plurality of small molds from the resist.例文帳に追加

マスクまたは微細パターンの刻印された複数の小型モールドに、レジストを塗布する段階と、前記複数の小型モールドを加圧し、前記レジストに微細パターンをインプリンティングする段階と、前記レジストを硬化する段階と、前記複数の小型モールドを前記レジストから離型する段階とを含む。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity, realizes a pattern with a high film remaining rate when developed and after cured, has excellent resolution and a pattern profile of a micro pattern, and has high heat resistance and mechanical performance required for the usage for a surface protective film and an interlayer insulating film of a semiconductor element.例文帳に追加

高感度で現像時及びキュア後において高残膜率のパターンを得られ、同時に微細パターンの解像性及びパターン形状に優れ、さらには、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜用途として要求される耐熱性と力学的性能をも高レベルで満足する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To attain high permeability in a GHz band without requiring processing for imparting induction anisotropy by performing heat treatment in a magnetic field or processing for imparting shape anisotropy by forming a micro pattern, and to obtain a soft magnetic member without using a hard substrate material.例文帳に追加

磁界中熱処理を施して誘導異方性を付与する、あるいは微細パターンを形成して形状異方性を付与するといった処理を行なうことなく、ＧＨｚ帯域での高透磁率化を達成すること、さらには硬い基板材料を用いることのない軟磁性部材を得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a polishing pad for polishing semiconductor wafer capable of meeting conflict requirement of uniformity of polishing degree all over the wafer and planarization characteristic of concavity and convexity of micro region in the polishing process for planarizing concavity and convexity of micro pattern formed on the semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエハ上に微細なパターンが形成されており、該パターンの微小な凹凸を平坦化する研磨工程に使われる研磨パッドにおいて、ウエハ全面内において研磨量の均一性と、微小領域での凹凸平坦化特性という相反する要求に応え、なおかつスクラッチの発生の少ない半導体ウエハ研磨用パッドを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an array substrate for a liquid crystal displaying apparatus that can form a low molecular organic semiconductor material with very weak moisture resistance, without using a shadow mask, by a micro pattern that is adjustable up to several μm, and then utilizes the low molecular organic semiconductor material without damaging a micro patterned low molecular organic semiconductor layer.例文帳に追加

本発明は、水分に非常に弱い特性を有する低分子有機半導体物質をシャドーマスクを利用しないで数μｍまで調節可能な微細パターンで形成することができ、微細パターンされた低分子有機半導体層の損傷なしに低分子有機半導体物質を利用した液晶表示装置用アレイ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

There is provided a process method for easily manufacturing various forms of molds which have disadvantages in applying a nano imprint process by using nano imprint and a dry etching process by patterning a molding resin of a substrate having a metal pattern patterned thereon, and forming a nano-class pattern and a complicated three-dimensional micro pattern using a nano imprint process with the manufactured molds without executing a complicated process several times.例文帳に追加

金属パターンがパターニングされている基板のモールド用レジンをナノインプリントと乾式エッチング工程とを用いて、ナノインプリント工程を適用する上で難が多かった様々な形態のモールドを容易に製作し、複雑な工程を数回行うことなく、製作されたモールドでナノインプリント工程を用いてナノ級パターンや複雑な３次元形状の微細パターンの成形を可能にする工程方法を提供する。 - 特許庁