「がら研磨」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

研磨具の研磨パッドの構成に改良を加えて、研磨スラリーの供給下におけるガラス物品の被研磨面に対する研磨加工を可及的適正に行えるようにする。例文帳に追加

To grind a surface to be ground of a glass article while feeding a grinding slurry as adequately as possible by improving the configuration of a grinding pad of a grinder. - 特許庁

金属やガラス・石材及び壁材等の硬い被研磨物を研磨する際、高温の摩擦熱が発生し、回転研磨ディスクには「目詰り」、被研磨物には「焼け」が生じ、被研磨物の表層部には加工変質層を起こす。例文帳に追加

To prevent clogging in a rotary polishing disc and burning in a polished member both caused by generation of high temperature frictional heat in polishing a hard polished member such as metal, glass, stone, and wall member, the burning and clogging causing working alteration layer on a surface layer of the polished member. - 特許庁

研磨が大きく、かつ研磨面の平滑性、均一性に優れた、特に半導体基板材料やガラス材料の研磨に有用な研磨用組成物及び研磨方法の提供。例文帳に追加

To provide a grinding composition which can strongly grind, gives ground surfaces having excellent smoothness and uniformity, and is especially useful for grinding semiconductor substrate materials and glass materials, and to provide a method for grinding. - 特許庁

セリウム系研磨材、セリウム系研磨材スラリー、ガラス基板の研磨方法及びガラス基板の製造方法例文帳に追加

CERIUM POLISHING MATERIAL, CERIUM POLISHING MATERIAL SLURRY, METHOD FOR POLISHING GLASS SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE - 特許庁

高い研磨速度を維持しながら且つ表面欠陥のない高品質の研磨面を生ぜしめる研磨用組成物を提供すること。例文帳に追加

To supply polishing composition that produces high-quality polished surface without causing defects while maintaining a high polishing speed. - 特許庁

本発明は、高速研磨速度でありながらディッシングが少なく、基板を化学的機械的研磨できる金属用研磨液を提供する。例文帳に追加

To provide a metal polishing solution for chemical-mechanical polishing a substrate having less dishing, while working at a high polishing speed. - 特許庁

光学部品・光学製品などのガラスの表面や端面を精密に仕上げ研磨するのに適したガラス面研磨用の研磨具を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing tool for polishing a glass surface appropriate for precisely finishing and polishing the surface and end surface of glass such as an optical component or an optical product. - 特許庁

機械研磨で生じた大きなうねりが存在するガラス基板を平坦度に優れた表面に研磨するガラス基板の研磨方法の提供。例文帳に追加

To provide a process for polishing a glass substrate, capable of polishing a glass substrate having a large waviness formed by mechanical polishing, to have a surface excellent in flatness. - 特許庁

遊技球を搬送しながら研磨する遊技球研磨装置（研磨装置）１８を備えた球循環装置１３を設ける。例文帳に追加

The machine is provided with a ball circulating device 13 equipped with a game ball polishing device (polishing device) 18 which carries and polishes the game balls. - 特許庁

情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス素板に１次研磨処理及び２次研磨処理を施すための研磨工程を経て製造される。例文帳に追加

The glass substrate for the information recording medium is manufactured through the polishing step of subjecting a glass base plate to primary polishing and secondary polishing. - 特許庁

研磨中、ウェーハ外周部は、ウェーハＷが所定角度回転するごとにその非研磨領域を通過しながら研磨される。例文帳に追加

The wafer outer circumferential part is passed in the non-abrasive area every prescribed angle rotation and polished. - 特許庁

研磨具１の心側或は内側から研磨面２に液体を流出させながらワーク３を研磨するようにした。例文帳に追加

The polishing tool 1 is formed such that a workpiece 3 is polished while liquid is poured out from a core side or an inside thereof onto the polishing surface 2. - 特許庁

情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス素板の表面を粗研磨した後、研磨パッドを使用し、精密研磨して製造されている。例文帳に追加

The substrates are manufactured by roughly grinding the surface of glass material and then, precision polishing is conducted using the polishing pad. - 特許庁

被研磨物の搬送装置、被研磨物の搬送方法、ガラス基板の製造方法、ガラス基板、磁気記録媒体及び被研磨物のチャック治具例文帳に追加

CONVEYING DEVICE OF OBJECT TO BE GROUND, METHOD FOR CONVEYING OBJECT TO BE GROUND, MANUFACTURING METHOD OF GLASS SUBSTRATE, GLASS SUBSTRATE, MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND CHUCK JIG OF OBJECT TO BE GROUND - 特許庁

部品の消耗を少ないガラス基板研磨ヘッド及び研磨装置、ガラス基板研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a glass substrate polishing head, a polishing device, and a glass substrate polishing method for reducing consumption of a part. - 特許庁

スラリを供給しながら、ウェーハキャリアに保持されたウェーハを回転する研磨パッドに当接させて研磨するウェーハ研磨装置。例文帳に追加

This wafer polishing device polishes the wafer held by a wafer carrier by bringing the wafer into contact with a rotating polishing pad while supplying slurry. - 特許庁

十分な研磨性を有し連続使用が可能でありながら、被研磨物にスクラッチを発生させにくい研磨シートを提供する。例文帳に追加

To provide an abrasive sheet having sufficient polishing property, continuously usable and hardly scratching a polished object. - 特許庁

熟練した技能を必要とせずに被研磨物と研磨皿を安定運動させながら、高い形状精度を得る研磨方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing method and a device capable of providing high shaping precision while stably moving a polishing object and a polishing plate without skilled technology. - 特許庁

高い研磨速度を維持しながら且つ表面欠陥のない高品質の研磨面を生ぜしめる研磨用組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a polishing composition to obtain a polishing surface with high quality having no surface defect, while maintaining a high polishing speed. - 特許庁

ウェハ研磨中の振動を最小限に抑えながら研磨処理能力を最適にする。例文帳に追加

To optimize polishing processing capability while vibration during wafer polishing is kept to the minimum. - 特許庁

研磨工具４，５及び被研磨物２を相対的に移動させながらケミカルにポリッシングする。例文帳に追加

Chemical polishing is carried out while relatively moving the polishing tools 4 and 5 and the object 2 to be polished. - 特許庁

研磨用液供給装置及び研磨方法及びガラス基板の製造方法及びガラス基板例文帳に追加

POLISHING LIQUID SUPPLY DEVICE, POLISHING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE, AND GLASS SUBSTRATE - 特許庁

フロートガラス研磨システム用下部ユニット及びそれを用いたフロートガラスの研磨方法例文帳に追加

LOWER UNIT FOR FLOAT GLASS POLISHING SYSTEM AND METHOD FOR POLISHING FLOAT GLASS USING THE SAME - 特許庁

角部と研磨テープとの接触角度を変えながら角部を研磨することも可能である。例文帳に追加

The corner part can also be polished while changing a contact angle between the corner part and the polishing tape. - 特許庁

研磨効率を維持しつつワークを研磨しながら同時に加工状態を検出することができるようにする。例文帳に追加

To simultaneously detect a process state while grinding a workpiece without degrading polishing efficiency. - 特許庁

これにより、シリコンウェーハＷを研磨しながら研磨作用面がドレッシングされる。例文帳に追加

As the result of this operation, the dressing of a grinding surface is carried out while grinding the silicon wafer W. - 特許庁

ロールオフを小さくしながら、研磨クロスの寿命を長くすることができる研磨クロスを提供すること。例文帳に追加

To provide a polishing cloth having small roll-off and a long service life. - 特許庁

ガラス基板の外周端面研磨方法、ガラス基板の製造方法及び外周端面研磨装置例文帳に追加

METHOD FOR POLISHING OUTER PERIPHERAL EDGE FACE OF GLASS SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE, AND DEVICE FOR POLISHING OUTER PERIPHERAL EDGE FACE - 特許庁

記録媒体用ガラス基板の研磨装置および記録媒体用ガラス基板の研磨ブラシ例文帳に追加

APPARATUS AND BRUSH FOR POLISHING GLASS SUBSTRATE FOR RECORDING MEDIUM - 特許庁

ガラス基板を、表面に研磨パッドが配備された一対の定盤で挟み、ガラス基板と研磨パッドとの間に研磨砥粒を含む研磨液を供給することでガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。例文帳に追加

A method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk includes a polishing step for polishing a main surface of a glass substrate by sandwiching the glass substrate between a pair of surface plates each having a polishing pad on its surface and supplying a polishing liquid containing polishing abrasive grains between the glass substrate and the polishing pads. - 特許庁

研磨工具を第１の圧力で加工面に押し付けながら補正研磨を行う第１補正研磨工程（ステップＳ３）と、研磨工具を第１の圧力と異なる値の第２の圧力で加工面に押し付けながら補正研磨を行う第２補正研磨工程（ステップＳ６）とを有する。例文帳に追加

This method has a first correction-polishing process (step S3) for conducting correction polishing while pressing a polishing tool onto the worked face by the first pressure, and a second correction-polishing process (step S6) for conducting correction polishing while pressing the polishing tool onto the worked face by the second pressure different in its value from that of the first pressure. - 特許庁

ＮＣ３軸球心研削研磨装置及びＮＣ３軸研削研磨装置を用いたガラスレンズの研削研磨方法例文帳に追加

NC TRIAXIAL CENTRIPETAL GRINDING POLISHING DEVICE AND GRINDING POLISHING METHOD OF GLASS LENS USING NC TRIAXIAL GRINDING POLISHING DEVICE - 特許庁

ガラスの表面研磨および半導体基板の平坦化において、スクラッチを発生させることのない、高い研磨力をもつ研磨剤を提供する。例文帳に追加

To obtain an abrasive having a high grinding force without causing scratch in surface polishing of glass and flattening of a semiconductor substrate. - 特許庁

研磨終了後、第２の研磨ステージ２０から離れたステージ２２にて、研磨終了したガラス基板Ｇを膜枠１４から取り外す。例文帳に追加

In a stage 22 separated from a second polishing stage 20 after finishing the polishing, the glass substrate G finished with the polishing is removed from the film frame 14. - 特許庁

該ドレス治具を用いてドレス処理した研磨パッドの研磨面でガラス基板の主平面を研磨する。例文帳に追加

The main plane of the glass substrate is polished by the polishing surface of the polishing pad dressed by using the dressing tool. - 特許庁

研磨液を循環使用する場合であっても、優れた研磨品質を安定的に供給することのできるガラス基板の研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for polishing a glass substrate capable of stably supplying excellent polishing quality even when using polishing liquid circulatingly. - 特許庁

ハードディスク、ガラス、半導体の湿式研磨時に、被研磨体のスクラッチ傷の発生の少ない研磨材を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing material less producing scratches on a polished body when a hard disk, a glass pane, and a semiconductor are wet-polished. - 特許庁

当該研磨パッドは、基材と、同基材の表面に積層されて研磨時にはガラス素板の表面に接触する研磨部とを備えている。例文帳に追加

The pad is provided with a base stock and a polishing section which is laminated on the base stock and contacts with the surface of the glass material during polishing. - 特許庁

そして、当該研磨パッドによって１次研磨処理を施されたガラス素板は、１次研磨処理後の状態で平滑性の高いものとされている。例文帳に追加

Then, the glass base plate subjected to the primary polishing by the polishing pad has high smoothness in a state after the primary polishing. - 特許庁

ガラス基板の切断分離後、切断分離面に研磨液を塗布して切断分離面を研磨し、次にこの研磨液を除去する。例文帳に追加

The method comprises cutting off a glass substrate, polishing the cutoff surface of the glass substrate with a polishing fluid, and subsequently removing the polishing fluid from the surface. - 特許庁

アコヤ貝貝殻を回転式可傾型バレル研磨機に入れ研磨液および研磨石とともに処理する。例文帳に追加

This method for obtaining a pearl layer powder comprises placing the shells of the Pinctada martensii in a rotating type tiltable barrel grinding machine and treating the shells together with a grinding liquid and a grinding stone. - 特許庁

本発明は、酸化セリウムを砥粒として含有する研磨液や研磨パッドを用いずに、ガラス基板の主平面を平滑な鏡面に研磨するガラス基板の研磨方法と、該研磨方法を用いた研磨工程を有するガラス基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing method of a glass substrate for polishing a main plane of the glass substrate as a smooth mirror surface, without using a polishing liquid and a polishing pad including cerium oxide as an abrasive grain, and to provide a method of manufacturing the glass substrate having a polishing step of using the polishing method. - 特許庁

本発明に係る研磨方法は、表面に酸化ケイ素膜を有する基板を研磨する方法であって、上記ＣＭＰ用研磨液を酸化ケイ素膜と研磨パッドとの間に供給しながら、研磨パッドによって酸化ケイ素膜の研磨を行う工程を備える。例文帳に追加

The polishing method is the one for polishing the substrate having the silicon oxide film on the surface, and includes a step of polishing the silicon oxide film with a polishing pad while supplying the polishing liquid for CMP between the silicon oxide film and polishing pad. - 特許庁

基板１における半導体装置を構成するための金属を有する被研磨面を硬質の研磨パッド４に対して僅かな加工圧をもって押圧すると共に被研磨面と研磨パッド４の当接面にエッチング溶液７を供給しながら被研磨面と研磨パッド４に相対運動を与える。例文帳に追加

In this precise polishing method, a face, having a metal for constituting a semiconductor device in a substrate 1, is pressed with a slight processing pressure with respect to a hard polishing pad 4, and also an etchant 7 is supplied to an abutting face between the face and the polishing pad 4, while a relative movement is given to the face and the polishing pad 4. - 特許庁

研磨スラリータンクから循環供給される研磨スラリーを用いてガラス基板を研磨するに際して、研磨装置と研磨スラリータンクの間に形成される循環経路内に孔径９０μｍ以下のフィルターを設けてガラス基板を研磨することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。例文帳に追加

Thereby, inspection equipment yield of the glass substrate and inspection equipment yield of the magnetic disk can be improved. - 特許庁