「とっぷり」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

シリンダ注油の大部分をトップリングからボトムリングの間に供給する。例文帳に追加

To feed most of the part of a cylinder lubrication to a part between a top ring and a bottom ring. - 特許庁

鍔部61aがストップリング51に係合して袋ナット61が継手体41の外周面に係止する。例文帳に追加

A collar part 61a is engaged with a stop ring 51 to lock the cap nut 61 in an outer peripheral face of the joint body 41. - 特許庁

ウエハ１は、バッキングパッド２を介してトップリング６の下面に吸着される。例文帳に追加

A wafer 1 is suctioned to a lower surface of the top ring 6 through the backing pad 2. - 特許庁

ロッドの支持ブロックに対する下方への移動はストップリング５３により制限される。例文帳に追加

Downward movement of the rod against the holding block is restricted by a stop ring 53. - 特許庁

これにより、乳頭の位置するトップ領域から乳腺の方向に沿う部分がサポートされる。例文帳に追加

Thus, a part along the direction of the mammary gland from a top area where the nipple is positioned is supported. - 特許庁

トップリング１１の背面には、ウエハ１と同心の円形の空洞部１８が形成されている。例文帳に追加

In a back surface of the top ring 11, a circular cavity part 18 concentric with the wafer 1 is formed. - 特許庁

このストップリング８０は、弁体ユニット５０の上方への抜け止めを実現する。例文帳に追加

The stop ring 80 locks upward movement of the valve element unit 50. - 特許庁

ホース本体２の外周側でストップリング７よりも先端側に外筒リング６を設ける。例文帳に追加

An outer cylinder ring 6 is provided on the outer periphery of the hose body 2 at its front end side beyond the stop ring 7. - 特許庁

ホース本体２を介して外筒リング７を先端側からストップリング６に引っ掛ける。例文帳に追加

The outer cylindrical ring 7 is hooked on the stop ring 6 from the side of the end through the hose body 2. - 特許庁

解像度の異なる表示装置１３１と１３２の画面を１つのデスクトップ領域とする。例文帳に追加

In this system, display screens of display units 131 and 132 with different resolutions are made as one desktop domain. - 特許庁

ウエーハ１は、バッキングパッド８を介してトップリング６の下面に吸着される。例文帳に追加

A wafer 1 is sucked to a lower surface of the top ring 6 through a backing pad 8. - 特許庁

トップリング６の下面には、更に、複数の吸気孔１３が開口している。例文帳に追加

Furthermore, plural suction ports 13 are opened to the lower surface of the top ring 6. - 特許庁

ゴムを介して補強繊維層４を先端側からストップリング７に引っ掛ける。例文帳に追加

The reinforcing fiber layer 4 is caught at its front end side on the stop ring 7 via a rubber. - 特許庁

外筒リング７の内径をストップリング６の外径よりも小径に設定する。例文帳に追加

The inside diameter of the outer cylindrical ring 7 is set to be smaller than the outside diameter of the stop ring 6. - 特許庁

電動サンシェード装置、その最下点ストップリミッターおよびシェード最下点検知方法例文帳に追加

ELECTRIC SUNSHADE APPARATUS, ITS STOP LIMITER FOR LOWEST POINT, AND DETECTING METHOD OF LOWEST POINT OF SHADE - 特許庁

主軸４の先端にはトップブロック５を介してトップリング６が固定されている。例文帳に追加

A top ring 6 is fixed on an end of a main shaft 4 through a top block 5. - 特許庁

ストップリング７からずれた位置の補強繊維層４ａ、及びスパイラルワイヤ５の巻き径をストップリング７の外径よりも小径に設定する。例文帳に追加

A reinforcing fiber layer 4a located deviating from the stop ring 7 and a spiral wire 5 each have a winding diameter set to be smaller than the outer diameter of the stop ring 7. - 特許庁

研磨装置１０は、基板を押圧するトップリング本体２００と、トップリング本体２００の外周部に設けられ、研磨面を押圧するリテーナリング３０２とを備える。例文帳に追加

The polishing apparatus 10 includes a top ring body 200 pressing a substrate, and a retainer ring 302 provided on the outer periphery of the top ring body 200 and pressing a polishing surface. - 特許庁

半導体ウエハをトップリングに装着したまま、該トップリングをターンテーブル外にずらすことなく、被研磨面の膜厚をリアルタイムで検出できるポリッシング方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing method to detect the film thickness of the surface to be polished on the real-time basis without dislocating a top ring to outside a turntable while a semiconductor wafer remains mounted on the top ring. - 特許庁

ｐ型のトップ領域６２とｎ型のドリフト層２４が隣接して並行に伸びており、そのトップ領域６２には正孔が流動し、そのドリフト層２４には電子が流動することを特徴としている。例文帳に追加

A p-type top region 62 and an n-type drift layer 24 are adjacent to each other and stretch in parallel with each other, with holes drifting in the top region 62 and electrons drifting in the drift layer 24. - 特許庁

自走車体５とプラウ６の機枠６ｂを連結するトップリンク１６に油圧シリンダ部２５を備え、油圧シリンダ部２５によってトップリンク１６を伸縮調節するようにしてある。例文帳に追加

This coupling device is equipped with a hydraulic cylinder 25 at a top link 16 that links between the self-propelled vehicle 5 and a machine frame 6b of a plough, and the top link 16 is made flexibly stretchable by the hydraulic cylinder 25. - 特許庁

昇降リンク機構を構成するトップリンクの取付位置を調整できる乗用田植機におけるトップリンク位置調整機構を得ることを課題とする。例文帳に追加

To provide a top link position adjusting mechanism in a sulky rice transplanter capable of regulating the mounting location of a top link constituting a lifting and lowering link mechanism. - 特許庁

ストップリング７からずれた位置の補強繊維層４ａ、及びスパイラルワイヤ５の巻き径をストップリング７の外径よりも小径に設定する。例文帳に追加

The winding diameters of a reinforcing fiber layer 4a and a spiral wire 5 in the position displaced from the stop ring 7 are set to be a smaller diameter than the outer diameter of the stop ring 7. - 特許庁

トップリングによるポリッシング対象物研磨時の異常を迅速且つ確実に検出してこれに適切に対応できるトップリング制御装置を提供する。例文帳に追加

To provide a top ring control device capable of detecting an abnormality when an object to be polished is polished by a top ring speedily and securely and corresponding to it properly. - 特許庁

装着部４１に、三点リンク連結機構１１のトップリンク１１ｂに連結されるトップリンク連結部６０を、上下方向に回動自在で且つ設定位置に固定可能に設ける。例文帳に追加

On a mounting part 41, a top link connecting part 60 connected to a top link 11b of the three point link connecting mechanism 11 is provided so that the top link connecting part 60 is vertically turnable and can be fixed at a predetermined position. - 特許庁

油吸着材（１）をジグザグに折り畳み蛇腹折リ（２）を形成し上下部にストップリング（５）接続ひも（６）を有する支芯ひも（３）を通し接続ひも（７）を設けストップリング（４）を差込み成る例文帳に追加

A bellows ace is obtained by folding an oil adsorbing material (1) zigzag to form bellows folds (2), making a supporting core string (3) having a stop ring (5) and a connection string (6) penetrate the upper and lower parts of the folded oil adsorbing material, arranging another connection string (7) and inserting another stop ring (4). - 特許庁

ストップリング２６内周部は、リテーナ押さえ２０のリング溝２５に嵌め込まれており、ストップリング２６外周部を第１溝部１３ａに嵌め込まれている。例文帳に追加

The inner circumferential part of a stop ring 26 is fitted into a ring groove 25 of a retainer 20, and an outer peripheral part of the stop ring 26 is fitted into the first groove part 23a. - 特許庁

高圧縮比化を目的としてトップリングの位置を高く設定した場合においても、シリンダブロックあるいはシリンダライナの変形をともなうことなくシリンダライナのトップリング付近を的確に冷却する。例文帳に追加

To certainly cool the neighbourhood of a top ring of a cylinder liner without deforming a cylinder block or the cylinder liner even in the case of setting a position of the top ring high for the purpose of increasing a compression ratio high. - 特許庁

トップブロック５の下面には、トップリング６が固定され、トップブロック５の下面周縁部には、トップリング６の外周を取囲む様にガイドリング７が固定される。例文帳に追加

A top ring 6 is fixed to a lower surface of a top block 5, and a guide ring 7 is fixed to a lower surface peripheral edge part of the top block 5 so as to surround the external periphery of the top ring 6. - 特許庁

研磨装置１は、研磨パッド２２と、半導体ウェハＷを保持して研磨パッド２２に押圧するトップリング２０と、トップリング２０を上下動させる上下動機構２４とを備えている。例文帳に追加

The polishing device 1 is provided with the polishing pad 22, a top ring 20 for holding a semiconductor wafer W and pressurizing it to the polishing pad 22, and a vertical movement mechanism 24 for vertically moving the top ring 20. - 特許庁

半導体ウエハをトップリングに装着したまま、該トップリングをターンテーブル外にずらすことなく、被研磨面の膜厚をリアルタイムで検出できるポリッシング装置および方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing device and a method therefor capable of detecting the film thickness of a polished surface in a real time without moving the top ring outer than a turn table, while keeping a semiconductor wafer mounted on the top ring. - 特許庁

また、これに関連して、ストップリングがプラグフレームの挿入穴へ挿入されるときに、ストップリングの係合突起を弾性的にへこます溝が設けられている。例文帳に追加

Also, a groove, which elastically makes a dent in the engaging projection of the stop ring when the stop ring is inserted into the inserting hole of the plug frame in connection with it, is provided. - 特許庁

ストップリング１０の上端部から所定距離だけ下方の位置までの範囲のストップリング１０の内周面とプランジャ８の外周面との間にシール部材１４の環状胴部１４ａが挿入され、胴部１４ａの上端部からストップリング１０の上端部側に環状頭部１４ｂが突出し、頭部１４ｂの内周面がプランジャ８の外周面に接触し、頭部１４ｂの外周面がストップリング１０の内周面よりも外方に突出してストップリング１０の上端と接触している。例文帳に追加

The inner peripheral surface of the head 14b keeps in contact with the outer peripheral surface of the plunger 8, and the outer peripheral surface of the head 14b extends outward beyond the inner peripheral surface of the stop ring 10 and keeps in contact with the top end of the stop ring 10. - 特許庁

本発明の基板処理装置は、基板Ｗを保持する上下動可能なトップリング３１Ａを有する研磨部と、トップリング３１Ａと基板Ｗの受け渡しを行う上下動可能な搬送ステージを有する搬送機構６と、トップリング３１Ａと搬送ステージとの間に配置されたリテーナリングステーション１４３とを備える。例文帳に追加

The substrate processing apparatus comprises: a polishing section having a vertically movable top ring 31A for holding a substrate W; a transfer mechanism 6 having a vertically movable transfer stage performing transfer of the substrate W to/from the top ring 31A; and a retainer station ring 143 disposed between the top ring 31A and the transfer stage. - 特許庁

一方、伸張にあたっては、取得したペア輪郭線（ボトム輪郭線ＬＢおよびトップ輪郭線ＬＴ）の相互間に挟まれる補間処理対象領域内の各画素の濃度値を、トップ輪郭線およびボトム輪郭線のそれぞれまでの最短距離とボトム輪郭線およびトップ輪郭線のそれぞれに関する濃度プレーンの濃度値とに基づいて補間処理により算出する。例文帳に追加

In expansion, a density value of each picture element within an interpolation process object area between an acquired pair of borderlines (the bottom borderline LB and the top borderline LT) is calculated by an interpolation process based upon respective shortest distances to the top borderline and the bottom borderline and density values of density planes respectively relevant to the bottom borderline and the top borderline. - 特許庁

研磨開始後に所定の時間だけ経過したときに、監視用センサ５２の位置、トップリング２０の回転中心の位置、及びトップリング２０の揺動の向きが、それぞれ前記所定の時間だけ前の値にほぼ一致するように、研磨テーブル１８の回転速度とトップリング２０の揺動条件とを定める。例文帳に追加

When prescribed time has elapsed after starting the polishing, rotational speed of the polishing table 18 and a swinging condition of the top ring 20 are fixed so that each of a position of the monitoring sensor 52, a position of a rotation center of the top ring 20 and a direction of the swinging of the top ring 20 may approximately coincide with a previous value by prescribed time. - 特許庁

研磨装置３０は、研磨面３２と、ウェハＷを保持するトップリング３６と、研磨面３２とトップリング３６に保持されたウェハＷとを相対移動させるモータ４６，５６と、トップリング３６に保持されたウェハＷを研磨面３２に対して押圧する上下動機構５４と、研磨面３２をコンディショニングするコンディショナ６０とを備えている。例文帳に追加

The polishing apparatus 30 comprises a polishing surface 32; a top ring 36 for holding a wafer W; motors 46, 56 to move the polishing surface 32 and the wafer W held by the top ring 36 relative to each other; a vertical movement mechanism 54 to press the wafer W held by the top ring 36 against the polishing surface 32; and a conditioner 60 for conditioning the polishing surface 32. - 特許庁

ピストン２に形成されるトップリング溝２１とそれに嵌め込まれるトップリング３との間で形成されるバッククリアランスＣ１の体積Ｖｂａと一気筒の一サイクル当たりに発生するブローバイガス体積Ｖｂｌとの関係が、「３≦Ｖｂａ／Ｖｂｌ≦５」を満たすようにトップリング溝２１を設計する。例文帳に追加

A top ring groove 21 is designed to satisfy relation of 3≤Vba/Vb1≤5 between volume Vba of a back clearance C1 formed between the top ring groove 21 formed on the piston 2 and a top ring 3 fitted in the same, and blow-by gas volume Vb1 generated per one cycle of one cylinder. - 特許庁

接続機構３を収納するハウジング３６の後端部にはストップリング７が組み付けられ、ストップリング７内に、該ストップリング７に反力をとって接続機構３を付勢することで、接続機構３とこの接続機構３に一体的に連結されたフェルール２とを接続方向前方に付勢する付勢手段が内装されている。例文帳に追加

A stop ring 7 is built in the rear end part of a housing 36 which houses the connection mechanism 3, and an biasing means is included in the stop ring 7 so that the connection mechanism 3 and the ferrule 2 which is integrally connected to the connection mechanism 3 are biased in the forward connection direction by biasing the connection mechanism 3 by taking reaction force of the stop ring 7. - 特許庁

東芝府中にとって，この引き分けはトップリーグやマイクロソフトカップでの主要な優勝に続くものだった。例文帳に追加

For Toshiba Fuchu, the draw followed major victories in the Top League and the Microsoft Cup.  - 浜島書店 Catch a Wave

第１のサブ切換バルブ８は、バックストップリミットスイッチ１３のオフにより油圧を解放するように構成する。例文帳に追加

The first sub-selector valve 8 is constituted to release the oil pressure when a back stop limit switch 13 is off. - 特許庁

また、厚肉部１２ｂを、ピストン４が上死点に位置した時のトップリング４ａの位置よりも上側に配置した。例文帳に追加

The thick part 12b is also arranged on the upper side more than a position of a top ring 4a when a piston 4 is positioned in the top dead center. - 特許庁

本発明は、チャネルストップ領域を素子分離絶縁膜の下の半導体基板中に制御性良く形成することを目的としている。例文帳に追加

To form a channel stop region in a semiconductor substrate under an element isolation insulating film with good controllability. - 特許庁

簡単な構成でピストンのトップリングの摩耗やスカッフィングの発生を効果的に防ぐことができる筒内噴射式２サイクルエンジンを提供する。例文帳に追加

To prevent scuffing or wear of a top ring of a piston with simple configuration. - 特許庁

補強繊維層４ａ及びスパイラルワイヤ５がゴムを介して先端側からストップリング７に引っ掛かる。例文帳に追加

The reinforcing fiber layer 4a and the spiral wire 5 are caught at their front end sides on the stop ring 7 via a rubber. - 特許庁