「セリウム」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

本発明は、酸化セリウムを高い結晶性をもって大面積で製膜することができる、新規な薄膜結晶の製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a novel method for producing a thin-film crystal, capable of producing cerium oxide with high crystallinity and a large area. - 特許庁

研摩後に得られる面に傷が残らない研摩材スラリーを簡単に調製できる粉末状のセリウム系研摩材およびその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a powdery cerium abrasive easily providing an abrasive slurry remaining no scratch on a polished surface obtained by polishing with the slurry, and to provide a method for producing the abrasive. - 特許庁

また、本発明のＣＭＰ研磨液は、セリウム系砥粒と、分散剤と、ポリアクリル酸化合物と、界面活性剤と、リン酸化合物と、水とを含有し、リン酸化合物の含有量が所定範囲である。例文帳に追加

In addition, the CMP polishing liquid of the present invention contains cerium-based abrasive grains, a dispersant, a polyacrylic acid compound, a surfactant, a phosphate compound and water, and the content of the phosphate compound is in a prescribed range. - 特許庁

粒径１〜２０ｎｍというナノレベルの微細な粒径を有し、しかも粒径が均一な酸化セリウムＣｅＯ_２のナノ粒子が、ゼオライト中に分散した形で存在する複合体を提供する。例文帳に追加

To provide a composite having fine particle sizes in such a nano level that the particle sizes are 1-20 nm, in which nanoparticles of cerium oxide CeO_2 whose particle sizes are uniform exist in a dispersed form in zeolite. - 特許庁

ガラス板の主表面を酸化セリウムの砥粒を含有する研磨液と研磨パッドを用いる研磨により、ガラス板片面の取り代を１５μｍ以上研磨することにより、サイドエッチングがない溝を形成することができる。例文帳に追加

By polishing the major surface of the glass plate using a polishing solution containing cerium oxide abrasives and a polishing pad, and polishing the machining allowance of one side of the glass plate by 15 μm or more, grooves without side etching can be formed. - 特許庁

ＣｅＯ_２／ＴＲＥＯ≧４０質量％であれば、Ｆ、Ｌａ、Ｎｄ含有の有無にかかわらず、研摩速度が大きく、研摩傷が少ないセリウム系研摩材を提供する。例文帳に追加

To provide a cerium-based abrasive material having large grinding rate and causing few polishing defects whether F, La and Nd are contained or not, if CeO_2/TREO is ≥40 mass%. - 特許庁

セリウム原子の価数を３価に固定化することで、酸素吸放出能が低減され、還元雰囲気で放出される酸素でＣＯが酸化されて消費されるのが抑制される。例文帳に追加

Thus, oxygen occlusion/releasing capacity is reduced, to suppress consumption of CO by oxidation with oxygen released in a reduction atmosphere. - 特許庁

さらに、この酸化セリウム研磨剤を用いた基板の研磨方法を提供することで、研磨表面を傷つけることなく高速に研磨することが可能となる。例文帳に追加

Moreover, the high-speed polishing can be realized, without giving damages to the polishing surface, by providing a method of polishing a substrate using the cerium oxide polishing agent. - 特許庁

水難溶性のセリウム化合物（Ａ）から選ばれる１種又は２種以上を含有する親水化処理剤及びこれにより得られる親水性皮膜によって、上記課題を解決する。例文帳に追加

There are provided: a hydrophilization-treating agent containing at least one selected from hardly water-soluble cerium compounds (A); and a hydrophilic film obtained by using the above agent. - 特許庁

適切な研磨速度を維持しつつ、スクラッチの発生を低減し、半導体表面を精密に研磨可能な、酸化セリウム研磨剤及びこの研磨剤を用いた基板の研磨法を提供する。例文帳に追加

To provide a cerium oxide abrasive capable of reducing generation of scratch while maintaining a suitable polishing speed and precisely polishing a surface of a semiconductor, and a polishing method for a substrate using the abrasive. - 特許庁

フッ素含有量が少ないにもかかわらず、研摩面の表面粗さ及び微小うねりが非常に小さくできる、ガラス基板仕上げ用のセリウム系研摩材を提供する。例文帳に追加

To provide a cerium-based abrasive material for finishing a glass substrate that can reduce surface roughness and minute undulation of the abraded surface to a large extent though it has a small fluorine content. - 特許庁

フロートガラス素板の表面を酸化セリウム砥粒を用いて鏡面研磨し、その後鏡面研磨面の表面層を２．５重量％のフッ酸水溶液で０．２μｍエッチング除去する。例文帳に追加

The surface of a float glass base plate 1 is subjected to a mirror finish grinding by using a cerium oxide whetstone. - 特許庁

ブレーン法平均粒径（Ｄ_Ｂ）を基準とする粒径設定が行われたセリウム系研摩材は、必要な研摩速度が確保されるように研摩材粒子の粒度分布が制御されている。例文帳に追加

In this cerium-based abrasive wherein the particle diameter is set based on D_B, abrasive particle diameter distribution is controlled for achieving a required polishing rate. - 特許庁

本発明の酸化セリウム系研摩材は、タップ法による見掛け密度が１．７〜３．０ｇ／ｍＬであるとともに、ＣｅＯ_２／ＴＲＥＯが９５質量％以上であることを特徴とする。例文帳に追加

The cerium oxide-based abrasive has 1.7-3.0 g/mL apparent density by a tap method and contains ≥95 mass% CeO_2/TREO. - 特許庁

Ｘ線回折における酸化セリウムの（１１１）面ピークに対する（２００）面ピーク、（３１１）面ピークの相対強度が、各々０．４５〜０．５、０．３５〜０．４である。例文帳に追加

In an X-ray diffraction of cerium oxide, the relative intensity of a (200) plane peak and that of a (311) plane peak to a (111) plane peak are 0.45-0.5 and 0.35-0.4 respectively. - 特許庁

配線パターンによる凹凸を有する半導体基板の被研磨面内全体での高平坦化を可能にする酸化セリウム研磨剤および基板の研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a cerium oxide polishing agent and a method of polishing substrate for highly planarizing the overall part of the surface to be polished of a semiconductor substrate which includes uneven surfaces resulting from wiring pattern. - 特許庁

外層から内層に向かって、酸素吸収層、臭味バリア層、ヒートシール層とが積層され、前記酸素吸収層は、熱可塑性樹脂に酸素欠陥を有する酸化セリウムを配合してなることを特徴とする。例文帳に追加

In an oxygen absorbing laminated body, an oxygen absorbing layer, an odor barrier layer, and a heat seal layer are laminated from an outer layer toward an inner layer, the oxygen absorbing layer is obtained by blending a cerium oxide having an oxygen defect with thermoplastic resin. - 特許庁

酸化セリウムを含む希土類酸化物を主成分とする高い研磨速度の持続耐久性に優れたガラス研磨用研磨材及びその研磨品質の評価方法を提供する。例文帳に追加

To provide an abrasive material for polishing glass, which has a rare earth oxide containing a cerium oxide as a main component and improves durability of a high polishing rate, and to provide a method for evaluating its polishing quality. - 特許庁

貴金属線にガス感応部を設けた半導体式ガス検知素子であって、ガス感応部は、酸化スズに、アンチモンを０．８ｍｏｌ％以下の範囲、セリウムを０．８ｍｏｌ％以下の範囲で、固溶させてある。例文帳に追加

A semiconductor type gas sensing element is constituted by providing a gas sensing part on a noble metal wire where 0.8 mol% or less of antimony and 0.8 mol% or less of cerium are solid-dissolved in tin oxide in the gas sensing part. - 特許庁

酸化第二セリウムを含有する樹脂組成物であって、耐候性、透明性に優れ、且つ混合時の熱変色等の問題のない樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a resin composition which contains ceric oxide and is excellent in weatherability and transparency and has no problem of thermal discoloration or the like when mixing ceric oxide. - 特許庁

空気中、１０００℃での酸化・還元後においても４００℃以下の低温領域において高い酸素吸収・放出能を有するセリウム−ジルコニウム複合酸化物とその製造方法を提供する。例文帳に追加

To produce a cerium-zirconium multiple oxide having high oxygen- absorption-desorption performance at low temp. region of ≤400°C even after being oxidized and reduced at 1,000°C in air and to provide a method for producing the same. - 特許庁

耐候性が高いヘキサセルジアンを主結晶相とする結晶化ガラスにおいて、更にポリッシュレートが高く、例えば酸化セリウムによって充分に実用的な速度でポリッシュ加工が可能な結晶化ガラスを提供する。例文帳に追加

To provide a crystallized glass which contains hexacelsian having high weather resistance as the principal crystal phase, ensures a high polishing rate and can be polished, e.g. with cerium oxide at a sufficiently practical rate. - 特許庁

合成石英ガラスからなる光学部材を、酸化セリウム系研磨剤を用いて研磨した後、加熱した、硫酸を主成分とする水溶液を用いて洗浄する。例文帳に追加

The optical part of the synthetic quartz glass is polished with a cerium oxide-based abrasive, then cleansed with a heated aqueous solution composed principally of sulfuric acid. - 特許庁

さらに必要に応じて、上記セリウム含有複合酸化物にＺｒやＴｉなどの第３の元素を複合化して、上記第２の元素と第３の元素との複合金属酸化物の酸強度Ｈｏが−５．６以下となるようにする。例文帳に追加

Further, as necessary, the acid strength Ho of the composite metal oxide with the second element and a third element is made to be -5.6 or less by complexing the third element such as Zr or Ti to the composite oxide containing cerium. - 特許庁

洗浄性、初期研摩速度、研摩速度持続性、研摩精度の研摩特性について、従来の研摩材よりもさらに高性能化したセリウム系研摩材を提供する。例文帳に追加

To provide a cerium abradant having higher performance than the performance of the conventional abradant with respect to abrasion properties such as cleanability, initial speed of abrasion, persistence of the speed of abrasion, and accuracy in abrasion. - 特許庁

この光触媒は、（１）酸化セリウムと、（２）ランタンを含む化合物を混合し、得られた前駆体を空気中で５００〜１４００℃の温度に加熱した後に、（３）助触媒として白金を担持することにより製造することができる。例文帳に追加

The cerium oxide (1) is mixed with a compound containing a lanthanum (2) to obtain a precursor, the obtained precursor is heated at the temperature of 500-1,400°C in the air, and then platinum is carried as the promoter (3) to produce the photocatalyst. - 特許庁

炭化セリウム等と混合した混合組成物を研磨材料として用いてもよいし、水に分散させて液状コロイドにして滴下状態で研磨してもよい。例文帳に追加

A mixture composition with cerium carbide, etc., may be used as an abrasive material, and the carbonized material may be dispersed in water to give a liquid colloid and be used for polishing in the state of dropping. - 特許庁

ディスク状ガラス基板表面に、ガラスより硬度の高い砥粒と酸化セリウム砥粒とからなる遊離砥粒スラリーとテープを用いて機械的テクスチャー加工を行う。例文帳に追加

The surface of the disk-like glass substrate is subjected mechanical texturing by using a free abrasive grain slurry consisting of abrasive grains having the hardness higher than the hardness of glass and cerium oxide abrasive grains and a tape. - 特許庁

酸化セリウム濃縮液は分散槽６において分散剤による分散処理が行われ、遠心分離器７において粗大粒子が除去され、調製槽８で成分調整が行われて、スラリー槽２に給送される。例文帳に追加

The enriched cerium oxide solution is subjected to dispersion processing by a dispersant in a dispersion tank 6, coarse particles are removed from the obtained solution in a centrifugal separator 7, and the components thereof are adjusted in a preparation tank 8 and fed to a slurry tank 2. - 特許庁

研摩力が低下した使用済みセリウム系研摩材スラリーについて、大幅な再加工処理を行うことなく、簡易な再生処理により研摩材としての性能を再生させることができる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method which enables the reproduction of the performance as a polishing material, of a used cerium-based abrasive slurry whose polishing force is reduced, by a simple reproduction processing without large reworking processing. - 特許庁

結晶性が高い酸化セリウム及びそれを用いた高速研磨でありながら研磨傷の低減が達成できる研磨材、基板の研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a cerium oxide having a high crystallinity, to provide a polishing material using the cerium oxide and capable of reducing polishing flaws even though high speed polishing is applied and to provide a polishing method for a substrate. - 特許庁

また、本発明のＣＭＰ研磨液は、セリウム系砥粒と、分散剤と、ポリアクリル酸化合物と、界面活性剤と、ｐＨ調整剤と、リン酸化合物と、水とを含有し、リン酸化合物の含有量が所定範囲である。例文帳に追加

In addition, the CMP polishing liquid of the present invention contains cerium-based abrasive grains, a dispersant, a polyacrylic acid compound, a surfactant, a pH adjusting agent, a phosphate compound and water, and the content of the phosphate compound is in a prescribed range. - 特許庁

一次粒子の凝集物の形の多結晶酸化セリウム粉末は、７０〜１５０ｍ^２／ｇの比表面積、５〜２０ｎｍの平均一次粒子直径および２０〜１００ｎｍの投影された、平均凝集物直径を有する。例文帳に追加

The polycrystalline cerium oxide powder in a form of primary particle aggregate has 70-150 m^2/g specific surface area, 5-20 nm average primary particle diameter and 20-100 nm projected average aggregate diameter. - 特許庁

粗大粒子濃度がより低く、かつより高い研摩力が確保されており、しかも被研摩面の洗浄性に優れるセリウム系研摩材の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing cerium based polishing agent low in concentration of coarse particles, holding a high polishing force and excellent in cleaning property of the polished face. - 特許庁

［式中、Ｍはセリウムイオン；Ｌは下式２：で表される配位子を表し、Ｘは対イオン；Ｌ’は単座又は２座の配位子；ａは１又は２；ｂは０〜５の整数；ｃは０〜５の整数である。例文帳に追加

In formula (1), M is a cerium ion; L is a ligand represented by formula (2); X is a counter ion; L' is a monodentate or bidentate ligand; (a) is 1 or 2; b is an integer of 0-5; c is an integer of 0-5. - 特許庁

第１および第２の保護膜２、３は、これらを主体的に構成する酸化亜鉛および酸化セリウムの粒径が好ましくは０．００５〜０．０１μｍであり、膜厚が．１〜１．５μｍである。例文帳に追加

Zinc oxide and cerium oxide as main constituents of the first and the second protective films 2, 3 are preferably to have particle sizes of 0.005 to 0.01 μm and film thicknesses of 1 to 1.5 μm. - 特許庁

対向する一対の電極（３、３）を管内に有する発光管（１）を備え、発光管（１）内には、希ガスと、セリウムのハロゲン化物（７）とが含まれており、かつ、水銀が含まれていない、無水銀メタルハライドランプである。例文帳に追加

This is a non-mercury metal halide lamp which is equipped with an arc tube (1) having a pair of electrodes (3, 3) opposed to each other within, and which contains a rare gas and a halide (7) of cerium and does not contain mercury in the arc tube (1). - 特許庁

添加元素として、Ｓｎ（スズ）と、Ｃｅ（セリウム）および／またはＧｄ（ガドリニウム）とを含み、ＳｒＧａ_２Ｓ_４（ストロンチウムチオガレート）を母体とする蛍光体。例文帳に追加

The phosphor contains Sn (tin), and Ce (cerium) and/or Gd (gadolinium) as additive elements and uses SrGa_2S_4 (strontium thiogallate) as a base material. - 特許庁

特定の元素相対比率のカリウム、セシウム、セリウム、クロム、コバルト、ニッケル、鉄、ビスマス及びモリブデンを含む触媒酸化物の複合体を含み、マンガン及び亜鉛を実質的に含まない触媒組成物を用いる。例文帳に追加

A catalyst composition to be used herein contains a complex of a catalytic oxide that contains potassium, cesium, cerium, chromium, cobalt, nickel, iron, bismuth, and molybdenum at a specific element relative ratio, but does not substantially contain manganese and zinc. - 特許庁

ポリフェノールを含有する試料にセリウム化合物を作用させ、生成した結晶物を定量することによってポリフェノールの濃度を算出するポリフェノールの定量法。例文帳に追加

By the method of assay of polyphenol, the concentration of polyphenol is calculated by allowing a cerium compound to act on a sample containing polyphenol and assaying generated crystal matters. - 特許庁

さらに好ましくは、該無機系紫外線吸収剤が、酸化亜鉛、酸化セリウムおよびルチル型酸化チタンから選択される少なくとも１種を主成分とする粒子である、インクジェット記録用光硬化型インク組成物。例文帳に追加

More preferably, the inorganic UV absorbent is particles containing as a principal component at least one kind selected from among zinc oxide, cerium oxide and rutile type titanium oxide. - 特許庁

本方法はさらに、ボンディングコート混合物上にトップコート混合物を施工するステップを含み、トップコート混合物は、チタン酸亜鉛又は酸化セリウムの少なくとも１つを含む。例文帳に追加

The method further contains a step of applying a top coat mixture on the bonding coat mixture, and the top coat mixture contains at least one of the zinc titanate and the cerium oxide. - 特許庁

第１の層２ａは、酸化セリウム膜で構成されており、第２の層２ｂは、酸化チタンと酸化プラセオジムとの混合物からなる層で構成されている。例文帳に追加

The first layer 2a is composed of a cerium oxide film, and the second layer 2b is composed of a layer made of a mixture of titanium oxide and praseodymium oxide. - 特許庁

本発明の研磨剤は、単結晶シリコンを含む被研磨面を化学的機械的に研磨するための研磨剤であり、酸化セリウム粒子と水溶性ポリアミンと水をそれぞれ含有し、ｐＨが８〜１３の範囲にあることを特徴とする。例文帳に追加

The abrasive is the one for chemically and mechanically polishing the surface to be polished, containing the single-crystal silicon, and contains cerium oxide particles and water-soluble polyamine and has a pH of 8 to 13. - 特許庁

鉛イオンを選択的に捕捉するためのリン酸セリウムを含有する濾過膜の切り出し作業やセッティング作業を不要とし、現場で簡便迅速に鉛イオンの定量が可能な簡易分析器を提供する。例文帳に追加

To provide a simplified analyzer, dispensing with cut-out work or setting work for a filtering film that contains cerium phosphate for selectively capturing lead ions, and allowing the quantity of lead ions to be determined on site in a simple and rapid manner. - 特許庁