「セリウム」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

本発明は、従来の青色発光蛍光材料であるセリウム付活イットリウムシリケートに比べ、長時間の低速電子線励起においても発光強度の低下が小さく、粒径が１μｍ以下である青色発光蛍光材料を提供する。例文帳に追加

To provide a blue light-emitting fluorescent material which has a particle size of ≤1 μm and is less in the deterioration of light-emitting intensity even in a low speed electron beam excitation state for a long time than that of a conventional blue light-emitting fluorescent material: cerium-activated yttrium silicate. - 特許庁

無機質担体に白金族元素を０．００１〜０．２ｗｔ％、セリウムを０．０１〜２ｗｔ％担持させた微粒子状の燃焼促進剤を、該白金族元素の濃度が０．１〜１００ｐｐｍになるように熱可塑性樹脂に配合したことを特徴とする熱可塑性樹脂組成物。例文帳に追加

The thermoplastic resin composition comprises a thermoplastic resin and, incorporated therewith, a particulate combustion accelerator comprising 0.001-0.2 wt.% of a platinum group element and 0.01-2 wt.% of cerium carried on an inorganic carrier in such an amount that the concentration of the platinum group element is 0.1-100 ppm. - 特許庁

酸化ケイ素６０重量％以上７２重量％以下、酸化ホウ素１８重量％以上３０重量％以下、酸化ナトリウム９．５重量％以上１５重量％以下、酸化セリウム０．１重量％以上５．０重量％以下を含有するホウケイ酸塩ガラス。例文帳に追加

The borosilicate glass contains 60 wt.% or more and 72 wt.% or less of silicon oxide, 18 wt.% or more and 30 wt.% or less of boron oxide, 9.5 wt.% or more and 15 wt.% or less of sodium oxide, and 0.1 wt.% or more and 5.0 wt.% or less of cerium oxide. - 特許庁

磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk which uses a polishing agent more excellent in that the polishing agent makes a main surface of a glass substrate for a magnetic disk flat and generation of scratches on the main surface is suppressed than cerium oxide that is conventionally used as the polishing agent for polishing the main surface. - 特許庁

酸化セリウム粒子、水溶性高分子、水溶性有機フッ素化合物及び水を含む表面張力が５ｍＮ／ｍ以上５０ｍＮ／ｍ以下であるＣＭＰ研磨剤を研磨定盤上の研磨パッドに供給し、基板表面を研磨する。例文帳に追加

The method for polishing the substrate comprises steps of supplying the CMP abrasives containing cerium oxide particles, water-soluble polymer, water soluble organic fluorocompound and water, in such a manner that the surface tension is 5 mN/m to 50 mN/m for the polishing pad on the polishing platen, and polishing the surface of the substrate. - 特許庁

ガス吸着法による比表面積から換算した粒子径が１０〜２００ｎｍであり、且つ（動的光散乱法で測定した粒子径）／（ガス吸着法による比表面積から換算した粒子径）の比が２〜６の範囲にある結晶性酸化第二セリウム粒子を含有するゾル。例文帳に追加

The sol containing the crystalline cerium oxide (IV) is as follows: the particle size which is converted from the specific surface area by the gas adsorption method is 10-200 nm and the ratio of the particle size measured by the dynamic light scattering method and the particle size converted from the specific surface area by the gas adsorption method is between 2 and 6. - 特許庁

ガラス基板の端面を酸化セリウム砥粒の使用をできるだけ抑えながら、かつ高い研磨速度で研磨し、面取り部等の端面にキズ等の加工変質層がない磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for acquiring a glass substrate for magnetic recording medium polishing an end face of a glass substrate at a high polishing speed while suppressing a use of cerium oxide abrasives and producing no work-affected layer like a flaw on the end face such as a chamfer part or the like. - 特許庁

含水酸化セリウムの造粒体からなる吸着樹脂５を吸着塔４内に収容し、該吸着塔４に塩水を接触させつつ流通させることで塩水中の銅を除去するように構成したことを特徴とする。例文帳に追加

This apparatus for removing copper in salt water is constituted in such a manner that the adsorption resin 5 comprising a granulated body of hydrous cerium oxide is stored in an adsorption tower 4, the salt water is circulated while being brought into contact with the adsorption tower 4 and, thereby, the copper in the salt water is removed. - 特許庁

水と、平均１次粒子径５ｎｍ以上６０ｎｍ以下のコロイダルシリカと、平均１次粒子径５ｎｍ以上６０ｎｍ以下の非焼成酸化セリウムと、窒素原子を含まない２価以上の有機酸と、窒素含有ヘテロ環化合物とを含有し、ｐＨ８以上１２以下であることを特徴とする。例文帳に追加

A slurry contains moisture, colloidal silica with an average primary particle diameter from 5 to 60 nm, non-fired cerium oxide with an average primary particle diameter from 5 to 60 nm, bivalent or higher organic acid without nitrogen atom and heterocycle compound with nitrogen and its pH is pH8 or more, and pH12 or less. - 特許庁

このため、３成分の作用の相乗効果により、該洗浄薬液は酸化セリウムに対して極めて高い洗浄力を有し、潜傷を発生させない程度の極僅かなエッチング量でガラス素材の表面の異物が除去される。例文帳に追加

Thereby, the cleaning chemical solution shows drastically high cleaning power against cerium oxide by the synergistic effect of the actions of the three components, and foreign matters present on the surface of the glass base material can be removed with a slight etching amount such that a latent flaw is not caused. - 特許庁

光造形装置を用い、酸化セリウムを含有する光硬化性樹脂を厚さ１００μｍずつ硬化させながら順次２０層を積層し、研磨面に開口する孔と、この孔の少なくとも一部に連通し、水平方向に形成される管と、裏面に形成される溝と、を備える研磨パッドを得る。例文帳に追加

A photo molding device is used, 20 layers are successively layered while hardening each 100 μm a photo hardening resin containing cerium oxide, to obtain a polishing pad having a hole opened to a polishing surface, a pipe communicating with at least partly this hole to be formed in a horizontal direction, and a groove formed in a reverse surface. - 特許庁

２個以上の結晶子から構成され結晶粒界を有するか、かさ密度が６．５ｇ／ｃｍ^３以下である酸化セリウム粒子との少なくともいずれかを媒体に分散させたスラリーを含む研磨剤と、この研磨剤を用いる基板の研磨方法及び半導体装置の製造方法。例文帳に追加

This polishing method uses an abrasive containing slurry, in which at least either a cerium dioxide particle composed of more than two crystallites and having crystal grains, or that the bulk density is smaller than 6.5g/cm^3 is dispersed in a medium for polishing a substrate, using this abrasive, and a manufacturing method of a semiconductor device is also provided. - 特許庁

ＣＦ基板１０を再生するにあたり、無機材料膜であるＩＴＯ透明電極４より上層に存する有機材料構造物、即ち配向膜７、柱状スペーサ５及び突起構造物６を、酸化セリウムを含有する研磨剤及び水を用いた湿式研磨によって研磨除去する。例文帳に追加

When a CF substrate 10 is regenerated, the organic material structures, namely, the alignment layer 7, a columnar spacer 5 and the protrusion structure 6 existing in an upper layer of an ITO transparent electrode 4 to be the inorganic material film are polished and removed by using an abrasive containing cerium oxide and by wet polishing using water. - 特許庁

透明なサファイアガラス板２１に、位相差板２２及び直線偏光板２３から選ばれる光学層が粘着剤層２４を介して積層され、そのサファイアガラス板２１と粘着剤層２４の間にフッ化セリウム層２５を有する偏光変換素子２０が提供される。例文帳に追加

A polarizing transducer 20 having an optical layer selected from a phase plate 22 and a linear polarizing plate 23 laminated on a transparent sapphire glass plate 21 via a binder layer 24, and comprising a cerium fluoride layer 25 between the sapphire glass plate 21 and the binder layer 24, is provided. - 特許庁

ポリッシュ工程において酸化セリウムを用いることなく、又はその使用量を低減しつつ、十分な耐衝撃強度が得られると共に、そのような磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造できる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium capable of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium, which has sufficient-high impact resistance, with high productivity without using cerium oxide or while reducing usage amount thereof in a polishing step. - 特許庁

セリウム（IV）塩とジルコニウム塩とを用い、それらを水性媒体に溶解せしめて混合塩水溶液とした形態において、それらの塩を同時並行的に加水分解せしめることにより、セリアとジルコニアとの固溶体微粒子を直接合成し、該混合塩水溶液中に生成せしめる。例文帳に追加

A cerium (IV) salt and a zirconium salt are used and these salts are hydrolyzed simultaneously in parallel in the form that the salts are dissolved in an aqueous medium and is prepared as an aqueous mixed salt solution, by which the solid-solution particulates of ceria and zirconia are directly synthesized and are formed in the aqueous mixed salt solution. - 特許庁

前記混合粉末に、比表面積が５〜２５ｍ^2／ｇの酸化セリウム粉末を５〜２０質量％を添加することが望ましく、さらに、比表面積が５〜６０ｍ^2 ／ｇの酸化チタンを１質量％以下となるように添加することが望ましい。例文帳に追加

It is preferable to add 5-20 mass% cerium oxide powder having a specific surface area of 5 to 25 m^2/g to the above mixed powder, and it is further preferable to add 1 mass% or less titanium oxide having a specific surface area of 5 to 60 m^2/g. - 特許庁

純水，アルミナ粉末，セリウム−ジルコニウム酸化物およびバインダーを混合してｐＨ４に調整し、湿式粉砕を行うことにより製造したスラリーに対し、（Ａ）粒径１μｍのアルミナ粉末，（Ｂ）粒径３μｍのアルミナ粉末，の何れかを添加する。例文帳に追加

Pure water, alumina powder, cerium-zirconium oxide and a binder are mixed to be adjusted to pH4, either of the alumina powder (A) of a particle size of 1 μm or the alumina powder (B) of a particle size of 3 μm is added into the slurry produced by wet crushing. - 特許庁

特に酸化重合乾燥型平版オフセット印刷インキの場合は、ドライヤー（乾燥促進剤）としては有害性のより低いマンガン塩と、セリウム塩若しくは鉄塩と、ポリフェノールとを組み合わせることにより、より安全性が高く、環境への負荷の小さい印刷インキが得られる。例文帳に追加

Particularly, an oxidation polymerization drying type lithographic offset printing ink is obtained by using a less harmful manganese salt of a fatty acid and a cerium salt or an iron salt of a fatty acid together as the driers (drying accelerators) and combining them with the polyphenol, and has higher safety and a small load to the environment. - 特許庁

この車両用燃焼効率改善剤を、車両のエンジンに外気を取り入れる部分のエアクリーナまたはエアフィルタに散布し、本車両用燃焼効率改善剤に含まれるセリウムによりマイナスイオンを含む空気をエンジン内に取り込んで、エンジンの燃焼効率を改善する。例文帳に追加

The combustion efficiency-improving agent for the vehicle is sprayed on an air cleaner or an air filter in a part for taking outside air into the engine for the vehicle and the air containing negative ions is taken into the engine by cerium included in the combustion efficiency-improving agent for the vehicle to improve combustion efficiency of the engine. - 特許庁

電極触媒として、金属銅、金属鉄、硫化銅、硫化鉄、または硫化セリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一種を添加し、さらに導電剤としてアセチレンブラックを加えた混合物をボールミル処理することにより、化学反応を起こさせしめ、複合化させた正極合剤とする。例文帳に追加

A chemical reaction is caused by adding, as an electrode catalyst, at least one kind selected from a group including metal copper, metal iron, copper sulfide, iron sulfide or cerium sulfide, and by performing a ball mill processing of a mixture with acetylene black added as an electrically conductive agent to make a complex positive electrode mix. - 特許庁

この結晶質酸化第二セリウムは、ＣｅＯ_２量に対し２〜２０重量％の界面活性剤で表面処理された、粒子径２００ｎｍ以上の粒子を実質的に含まない、平均粒子径３０〜１００ｎｍ、比表面積７０ｍ^２／ｇ以下のものである。例文帳に追加

This crystalline ceric oxide has been surface-treated with 2-20 wt.%, based on the amount of CeO2, surface active agent and substantially does not contain particles having a particle diameter of ≥200 nm, and has an average particle diameter of 30-100 nm and a specific surface area of ≤70 m2/g. - 特許庁

被処理溶液に、酸化還元電位が０〜８００mVの範囲となるように還元剤を添加する還元工程と、還元工程後の溶液にアルカリ供給してクロム沈殿物として沈殿させてセリウム回収溶液を分離するクロム除去工程とからなる。例文帳に追加

The method consists of: a reduction stage where a reducing agent is added to the solution to be treated in such a manner that the oxidation-reduction potential lies in the range of 0 to 800 mV; and a chromium removal stage where alkali is fed to the solution after the reduction stage, and chromium is precipitated as chromium precipitates to separate a cerium recovery solution. - 特許庁

ガドリニア粉末１と酸化セリウム２を水３に注入し（Ｓ１）、これをミキサー４で攪拌し（Ｓ２）て、取り出した撹拌液２ａを乾燥し（Ｓ３）、二酸化ウラン粉末と混合し（Ｓ４）、成型し焼結して（Ｓ５、Ｓ６）、原子燃料ペレットを製造する。例文帳に追加

A nuclear fuel pellet is produced by putting a gadolinia powder 1 and cerium oxide 2 into water 3 (S1); stirring the mixture with a mixer 4 (S2); taking out and drying the stirred liquid 2a (S3); mixing the liquid with a uranium dioxide powder (S4); and molding and sintering the mixture (S5, S6). - 特許庁

酸化セリウム等の周期律表第３族もしくは第４族金属の無機酸化物を、押出し成形する際においても、成形が可能で、かつ脱硫性能を高く維持できる硫黄化合物除去用吸着剤成形体の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a molding of an adsorbent for removing a sulfur compound, by which an inorganic oxide of a metal of group III or group IV of a periodic table such as cerium oxide can be molded even when the inorganic oxide is subjected to extrusion molding so that the desulfurizing performance of the molded inorganic oxide can be kept high. - 特許庁

酸化スズを主成分とする透光性導電膜５が形成されたガラスバルブ２を、前記透光性導電膜５を除去することなくリサイクル原料８に加工し、前記リサイクル原料８に、酸化セリウムおよび調整用原料を混合し、溶融する。例文帳に追加

This method for producing the glass for a lamp comprises processing a glass bulb 2 having a translucent electroconductive membrane 5 being formed thereon and mainly comprising tin oxide into a recycling raw materials 8 without removing the translucent electro conductive membrane 5, mixing cerium oxide and raw materials for adjustment with the recycling raw materials 8, and melting the resultant mixture. - 特許庁

チタン酸バリウムを主成分とし、チタン酸バリウムに対して鉄、セリウム及びカルシウムから成る群より選ばれる１種以上を０．００７Ａｔ％以上〜０．０４Ａｔ％以下添加して成り、キューリー温度が１３０℃以上である圧電材料を用いたアクチュエータ及び圧力センサ。例文帳に追加

An actuator and a pressure sensor use the piezoelectric material. - 特許庁

そして、このリン酸カルシウムCa_３(PO_４)_２に、赤色蛍光体として＋３価のユーロピウムEu^３＋を添加し、青色蛍光体として＋３価のツリウムTm^３＋又は＋２価のユーロピウムEu^２＋を添加し、緑色蛍光体として＋３価のテルビウムTb^３＋及び＋３価のセリウムCe^３＋を共添加する。例文帳に追加

The calcium phosphate Ca_3(PO_4)_2 is doped with a positive trivalent europium Eu^3+ as a red phosphor, and is doped with a positive trivalent thulium Tm^3+ or a positive divalent europium Eu^2+ as a blue phosphor; and is co-doped with a positive trivalent terbium Tb^3+ and a positive trivalent cerium Ce^3+ as a green phosphor. - 特許庁

酸化セリウムスラリーの製造工程における不純物混入を低減させ、且つ高平坦化可能であり酸化珪素絶縁膜等の被研磨面を傷なく高速に研磨することが可能なＣＭＰ研磨剤の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a CMP abrasive capable of reducing contamination by impurities at the step for producing a slurry of cerium oxide, capable of highly flattening a surface, and capable of allowing the surface to be ground, such as an insulating film of silicon oxide to be polished without defects at a high speed. - 特許庁

通電加熱可能な耐熱性触媒担体上に、鉄化合物及びセリウム化合物を含有する層を形成後、酸化雰囲気下で加熱して酸化物とし、続いて、一酸化炭素雰囲気下で加熱することを特徴とする触媒の製造方法。例文帳に追加

In this method for producing the catalyst, a layer containing an iron compound and a cerium compound is formed on a heat-resistant catalyst carrier capable of being performed with current carrying heating, thereafter is heated under an oxidizing atmosphere to be formed as an oxide, and subsequently, is heated under a carbon monoxide atmosphere. - 特許庁

多成分系ガラス基板を酸化セリウムを主成分とする研磨剤により研磨した後、フッ素系溶液で処理する洗浄工程を有する多成分系ガラス基板の製造方法において、 前記フッ素系溶液は、ｐＨが３以上７以下であることを特徴とする。例文帳に追加

This method for manufacturing the multi-component glass substrate has a cleaning process to polish the multi-component glass substrate by an abrasive consisting mainly of cerium oxide and treat the polished multi-component glass substrate with a fluorine compound-based solution having a pH of 3-7. - 特許庁

酸化セリウム粒子、界面活性剤及び水を含有する液Ａと、界面活性剤及び水を含有する液Ｂとを容器に仕込み、攪拌羽根を回転させて容器内で攪拌して得た混合液を研磨パッド上に供給して基板を研磨することを特徴とするＣＭＰ研磨方法。例文帳に追加

The CMP polishing method comprises preparing a liquid A containing cerium oxide particles, a surface active agent and a water, and a liquid B containing a surface active agent and a water in a container and rotating a stirring vale for stirring in the container to form a mixed liquid which is supplied to a polishing pad for polishing a substrate. - 特許庁

その製造方法としては、ジルコニウムを主成分とし、セリウムおよびイットリウムを除く希土類金属を含む共沈前駆体を得る工程と、該共沈前駆体を大気雰囲気中、７００℃以上１２００℃以下の範囲の温度域で焼成する工程とを含んでいる。例文帳に追加

Its production method comprises the step of obtaining a co-precipitation precursor which contains mainly Zr and the rare earth metal excepting Ce and Y, and the step of calcining the co-precipitation precursor in air atmosphere and in the temperature range of 700°C or above and 1,200°C or below. - 特許庁

好ましくは、室温における体積抵抗率が、５００Ｖ／ｍｍの印加電圧において、１×１０^8 Ω・ｃｍ以上、１×１０^12Ω・ｃｍ以下であり、セリウムを除く金属不純物の含有量が１００ｐｐｍ以下であり、炭素の含有量が０．０５重量％以下である。例文帳に追加

The preferable aluminum nitride sintered compact has a volume resistivity of ≥1×108 and ≤1×1012 Ω.cm at the applied voltage of 500 V/mm and at room temperature and contains ≤100 ppm metal impurities except the cerium and ≤0.05 wt.% carbon. - 特許庁

有機基質を、Ｎ−ヒドロキシ環状イミド、ならびにコバルト化合物、セリウム化合物、チタン化合物、鉄化合物および銅化合物から選ばれる少なくとも２種からなり、有機基質に対して０．１モル％以下の遷移金属化合物の存在下、酸素と接触させる。例文帳に追加

This method for oxidizing an organic substrate comprises contacting the organic substrate with oxygen in ht presence of an N-hydroxy cyclic imide and ≤0.1 mol%, based on the organic substrate, of transition metal compounds consisting of at least two compounds selected from cobalt compounds, cerium compounds, titanium compounds, iron compounds and copper compounds. - 特許庁

半導体集積回路装置の製造において、被研磨面が二酸化ケイ素系材料層の被研磨面である場合に、被研磨面を研磨するための化学的機械的研磨剤として、酸化セリウム粒子、水ならびにグルコン酸および／またはグルコヘプトン酸を含有する研磨剤を使用する。例文帳に追加

In the case where the polishing surface is formed of the material layer of the silicon dioxide system during manufacture of the semiconductor integrated circuit device, a polishing agent including cerium oxide particle, water, gluconic acid and/or gluco-heptonic acid is used as the chemical and mechanical polishing agent for polishing the polishing surface. - 特許庁

酸化セリウムを含有しないガラスを保護層とする太陽電池モジュールに使用可能な、耐紫外線性が改良された太陽電池封止材、及びそれを使用した発電効率の改良された太陽電池モジュールを提供する。例文帳に追加

To provide a solar cell sealing material which can be used for a solar cell module making a glass which does not contain a cerium oxide into a protective layer and in which ultraviolet ray-proof characteristics are improved and the solar cell module using it whose generating efficiency is improved. - 特許庁

酸化セリウム粒子、界面活性剤及び水を含有する液Ａと、界面活性剤及び水を含有する液Ｂとを容器に仕込み、攪拌羽根を回転させて容器内で攪拌して得た混合液を研磨パッド上に供給して基板を研磨することを特徴とするＣＭＰ研磨方法。例文帳に追加

The method for CMP polishing comprises the steps of charging a liquid A containing cerium oxide particles, a surfactant and water and a liquid B containing a surfactant and water in a container, rotary agitation blades, supplying a mixture liquid obtained by agitating the mixture in the container onto a polishing pad, and polishing a substrate. - 特許庁

紫外線および赤外線遮断材料１は、一般式：（ＺｎＯ）_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは整数）で表される亜鉛複合酸化物微粒子１ａの表面に酸化セリウム（ＣｅＯ２）を主成分とする保護層２が形成されている。例文帳に追加

The material 1 for blocking the ultraviolet rays and infrared rays is obtained by forming a protective layer 2 consisting essentially of cerium oxide (CeO) on the surface of a fine particle 1a of a zinc complex oxide represented by the general formula: (ZnO)_kIn_2O_k+3 (k is an integer). - 特許庁

平均粒径５μｍ〜１０μｍの範囲にあるポリスチレン粒子２１と、ポリスチレン粒子２１の平均粒径の１／５〜１／５００の間の範囲にある平均粒径の酸化セリウム粒子２２とを懸濁した液体２０中から、これら粒子を分離して回収する方法。例文帳に追加

The particle separation recovery method comprises separating particles from the liquid 20 having the polystyrene particles 21 of which the average particle size is in a range of 5 μm-10 μm and the cerium oxide particles 22 of which the particle size is in a range of 1/5-1/500 of the average particle size of the polystyrene particles 21 suspended therein. - 特許庁

水酸基を有する溶液Ｌを被加工物Ｄの表面に供給しつつ、砥粒として酸化セリウム粉末を固定した研磨層を可撓性のあるテープ基板上に形成した研磨テープＴを被加工物の表面に押し付け、走行させる、化学的機械的研磨加工方法。例文帳に追加

In this polishing work method, a polishing tape T formed with a polishing layer fixing cerium oxide powder as an abrasive grain on a tape board having flexibility is pressed to a surface of a workpiece while supplying a solution L having hydroxyl group to the surface of the workpiece D and made to run. - 特許庁

ガラス原料バッチから清澄剤を除いた残部を１００質量部として、清澄剤は、例えば、酸化ヒ素：０．０１〜０．５質量部、酸化アンチモン：０〜３質量部、酸化スズ：０〜２質量部、酸化セリウム：０〜１質量部とすることができる。例文帳に追加

The clarificant can contain for example 0.01-0.5 pt.mass of an arsenic oxide, 0-3 pts.mass of an antimony oxide, 0-2 pts.mass of a tin oxide and 0-1 pt.mass of a cerium oxide against 100 pts.mass of the residue that is removed the clarificant from the glass raw material batch. - 特許庁

窒化アルミニウムまたは酸化セリウムを含む粉末を溶媒に分散させてスラリーとし、該スラリーをシリコン鋳造用鋳型内面に塗布して乾燥させる工程を経ることにより、内面に離型層が形成されたシリコン鋳造用鋳型を作製する。例文帳に追加

The mold for casting silicon is manufactured, which has on the inside surface thereof a mold release layer formed by carrying out the steps of: dispersing powders containing aluminum nitride or cerium oxide in a solvent to prepare slurry; applying the prepared slurry to the inside surface of the mold for casting silicon; and drying the applied slurry. - 特許庁

未処理のトップ面６は、ガラス表面の水分や空気中の炭酸ガスとガラス成分との反応物であるアルカリ炭酸塩やアルカリ土類炭酸塩により変色しているので、防曇コーティング層７を設ける前にセリ粉（酸化セリウム粉）を含む洗浄剤で十分に洗浄しておく。例文帳に追加

Because the untreated top surface 6 is discolored by an alkali carbonate or alkaline-earth carbonate, i.e., a reactant of a glass component and water on a glass surface or carbon dioxide in the air, the untreated top surface 6 is previously sufficiently cleaned with a cleaning agent including cerium oxide powders before forming the cloudiness-proof coating layer 7. - 特許庁

アルミニウムまたはアルミニウム合金の表面におけるスマットを除去するためのスマット除去組成物であり、（Ａ成分）濃度０．１〜２．０％の硫酸第二セリウム、及び（Ｂ成分）濃度１〜５％の硫酸水溶液からなることを特徴とするスマット除去組成物。例文帳に追加

The smut removal composition for removing smut on the surface of aluminum or an aluminum alloy consists of: ceric sulfate of a concentration of 0.1 to 2.0% (A component); and a sulfuric acid aqueous solution of concentration of 1 to 5% (B component). - 特許庁