「局所加熱」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

また、加熱領域を局所的に限定することで、ベルトＡを急激に加熱し、ファーストプリントなどの待機時間の短縮も実現可能とする。例文帳に追加

Further, a heating area is locally limited to shorten a standby time for fast printing by abruptly heating the belt A. - 特許庁

具体的には、加熱室１０内の局所的にマイクロ波が供給されたり、加熱室１０内全体にまんべんなくマイクロ波が供給されたりする。例文帳に追加

Specifically, the microwave is supplied locally in the heating chamber 10 or throughout the heating chamber 10. - 特許庁

局所加熱ヒータ２２で金型２０を加熱することによって、複数の樹脂材料の流れが合流するまで樹脂材料を溶融温度に保持する。例文帳に追加

The die 20 is heated with the locally heating heater 22 to keep the resin materials at a melting temperature until flows of the resin materials join together. - 特許庁

ヒータにより各金属ピン２２を加熱した後、各金属ピン２２の先端を各はんだ７に接触させ、各はんだ７を局所的に加熱する。例文帳に追加

After each of metallic pins 22 is heated, its tip end is brought into contact with a solder 7, and the solder 7 is locally heated. - 特許庁

レーザーやキセノンランプなど高価な光源装置を用いなくても、優れた局所加熱性が得られる局所加熱装置ならびにプリント基板のリワーク方法を提供する。例文帳に追加

To provide a local heating apparatus and a reworking method for printed boards whereby excellent local heating is obtained even without using such an expensive light source as a laser and a Xe lamp. - 特許庁

さらに、機能的結合個所に、更なる薄片化を行うと同時に局所加熱を行うイオン照射と局所的に高周波加熱を行う高周波電界印加との少なくとも一方を行なう。例文帳に追加

Furthermore, the position of the functional connection is further thinned, and simultaneously at least one of ion irradiation for local heating and high frequency electric field application for high-frequency heating is carried out. - 特許庁

基板ホルダ１４を移動させることにより、局所加熱ヒータ１１による局所加熱帯領域は、基板１ａ，１ｂ，１ｃ，・・・・・に対して一定の相対速度で移動する。例文帳に追加

A local heating belt region with the heater 11 is moved at a constant relative velocity to the substrates 1a, 1b, 1c, etc., by moving a substrate holder 14. - 特許庁

金属薄板１の局所的に加熱された部分は、変形抵抗が低下するとともに伸びが大きくなるので、加熱された部分の局所的な伸びにより、断面積が減少し、板厚が減少する。例文帳に追加

In the locally heated parts of the metallic thin sheet 1, as deformation resistance is lowered and also elongation is increased, by the local elongation in the heated parts, the cross-sectional area is reduced and the thickness is decreased. - 特許庁

加工されるワークを囲む炉と、この炉の内部に配置され、ワークを局所的に加熱する局所加熱ユニットと、を有する熱処理装置とする。例文帳に追加

The heat treatment apparatus has: a furnace surrounding the workpiece to be worked; and a locally heating unit, which is arranged in the inner part of the furnace and locally heats the workpiece. - 特許庁

窓極１と対極２を加圧し、窓極１と対極２の無機系接着剤３が塗布されていない部分を冷却しながら、無機系接着剤３を局所加熱装置１６で局所加熱して、固化する。例文帳に追加

The window electrode 1 and the counter electrode 2 are pressurized and the inorganic-based adhesive 3 is locally heated by a local heater 16 for hardening while a portion, where the inorganic-based adhesive 3 is not applied in the window electrode 1 and the counter electrode 2, is being cooled. - 特許庁

加熱回転体を局所加熱する加熱装置及び前記加熱装置を備えた画像形成装置において、耐久寿命に影響を与えることなく、安全に、ファーストプリントアウトタイムの短縮を図る。例文帳に追加

To safely shorten first print-out time without affecting durable lifetime, in a heating device that partially heats the heating rotational body and an image forming apparatus having the heating device. - 特許庁

通常は加熱室内全体の均一加熱を実現しつつ、目的に応じて局所集中加熱をも実現するマイクロ波加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide a microwave heating device for uniformly heating the entire interior of a heating chamber in ordinary cases, and for intensively heating a limited area in accordance with the intended use. - 特許庁

通常は加熱室内全体の均一加熱を実現しつつ、目的に応じて局所集中加熱をも実現するマイクロ波加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide a microwave heating apparatus to achieve uniform heating of a whole interior of a heat chamber in normal use, and also to achieve partial intensive heating in accordance with the intended use. - 特許庁

局所的に被加熱物を加熱する装置を用いる場合に、棒状に成型する装置を用いなくても被加熱物の効率的な加熱を可能とすること。例文帳に追加

To efficiently heat a heated object without using a device for shaping the heated object into a rod shape, in the case of using a device for locally heating the heated object. - 特許庁

加熱用回転体を局所加熱する加熱装置及び前記加熱装置を備えた画像形成装置において、画質、騒音を悪化させることなく、ファーストプリントアウトタイムの短縮を図る。例文帳に追加

To shorten first print-out time without degrading image quality and increasing noise, in a heating device for partially heating a heating rotation body; and to provide an image forming apparatus that has the heating device. - 特許庁

チャンバ11内に、ワークＷをはんだ融点より低い温度で全体的に予加熱する第１加熱手段12と、予加熱したワークＷの複数の局所に溶融はんだを供給して部分的にはんだ付けする局所はんだ付け手段13とを設ける。例文帳に追加

A first heating means 12 for uniformly pre-heating a work W at the temperature lower than the melting point of a solder, and a local soldering means 13 which feeds the molten solder to a plurality of local points of the pre-heated work W to implement the local soldering are provided in a chamber 11. - 特許庁

導電性構造物Ｘを局所的に急速加熱かつ急速冷却して整形する装置において、導電性構造物Ｘに近接配置された加熱コイル１ａの高周波磁場によって導電性構造物Ｘを局所的に急速加熱する。例文帳に追加

In an apparatus to shape the conductive structure X by locally subjecting to quick heating and quick cooling, the conductive structure X is locally subjected to quick heating by a high frequency magnetic field of a heating coil la arranged close to the conductive structure X. - 特許庁

基板の局所化領域が短時間の間加熱され基板の局所化領域が加熱されている間、基板の上に位置するシリコン膜を照射してシリコン膜をアニールし、加熱された基板領域と熱接触するシリコン膜の一部分を結晶化する。例文帳に追加

While localization region of a substrate is heated for short time, and localization region of the substrate is heated, one portion of silicon film, which touches heated substrate region by heat contact, is crystallized by irradiating the silicon film located on the substrate to anneal the silicon film. - 特許庁

本方法では、記録磁性膜１２に対して加熱手段２２，Ｌを対向させて相対移動させながら、加熱手段２２，Ｌにより領域Ｙ内の記録磁性膜１２を局所的に加熱し、加熱手段２２，Ｌの対向箇所が領域Ｙから領域Ｓへと移行するのに対応してその加熱を停止する。例文帳に追加

In this method, the recording magnetic film 12 in the region Y is heated locally by heating means 22, L while moving the heating means 22, L relatively opposing to the recording magnetic film 12, and the heating is stopped corresponding to that an opposing part of the heating means 22, L is shifted to the region S from the region Y. - 特許庁

本発明に係る局所加熱装置７０は、処理基板１３上に散在する加熱対象点のなかから一括加熱が可能な加熱対象点を複数個抽出して、抽出した加熱対象点を一括加熱するように、加熱手段３を制御する温度調整部５および一括加熱制御部６を備えている。例文帳に追加

The apparatus 70 for local heating includes a temperature adjuster 5 and a collective heating control part 6, wherein the adjuster 5 and the control part 6 select a plurality of points to be collectively heated from the points to be heated scattered on a substrate 13 to be treated and control a heater 3 to collectively heat the selected points to be heated. - 特許庁

局所加熱は、サセプター２１上の試料の被酸化領域に赤外光を照射する光源２３や、サセプターを加熱する加熱手段によって行う。例文帳に追加

Local heating is conducted either by means of a light source 23 for irradiating infrared light on the target oxidation region of the sample on a susceptor 21, or by heating the susceptor. - 特許庁

半導体ウエハＷの裏面側の加熱機構６は、加熱された気体を気体ノズル５から半導体ウエハＷの裏面に向けて供給し、噴射ノズル３の噴射位置に対応する部位を局所的に加熱する。例文帳に追加

A heating mechanism 6 for a back surface side of the semiconductor wafer W supplies a heated gas from a gas nozzle 5 to the backside of the semiconductor wafer W and locally heats a site corresponding to an injection position of the injection nozzle 3. - 特許庁

加熱対象となる基板以外に加熱の影響が及ぶことを防ぎつつ、基板に過剰なストレスを与えることなく、塗布液または熱硬化性の部材を効率的に均一に乾燥させることができる、局所加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide a local heating apparatus which can efficiently and uniformly dry a coating liquid or a thermosetting member while preventing the influence of heating on the members other than a substrate being a heating object without applying surplus stress on the substrate. - 特許庁

レーザ光による照射が局所的に加熱するのに対し、加熱処理は基板および半導体膜を全体的に加熱するため、半導体膜に形成された歪みが低減され、該半導体膜の物性を向上することを可能とする。例文帳に追加

Thus, a distortion formed in the semiconductor film is decreased and physical properties of the semiconductor film can be raised. - 特許庁

電極１１，１２に供給される電流値を制御することにより、被加熱物には局所的にも過加熱が発生することなく、高品質の加熱処理を行うことができる。例文帳に追加

By controlling the current value supplied to the electrodes 11 and 12, the high-quality heating treatment can be executed without even locally causing overheating in the heating object. - 特許庁

この加熱プレート１は、前記誘導加熱による温度分布を均等化すべく、加熱プレート１を貫通する磁束の密度を大きくするための厚肉部１ａ，１ｂを局所的に有する。例文帳に追加

This heating plated 1 is locally provided with thick wall parts 1a, 1b to increase the density of the magnetic flux which penetrates through the heating plate 1 so as to equalize temperature distribution by the induction heating. - 特許庁

加熱炉１に、熱交換器１０の昇温速度が遅い部位Ｓ、つまり、ヘッダタンク１２，１２ａおよびコネクタ１３，１３ａを局所的に加熱する補助加熱装置２０を設ける。例文帳に追加

An auxiliary heating device 20 is provided in a heating furnace 1 so as to locally heat a portion S in a heat exchanger 10 where temperature rise is slow, in other words, header tanks 12, 12a and connectors 13, 13a. - 特許庁

コンパクトで加熱性能が高い螺旋状のシーズヒータを用いながらも、温度ムラを抑えた均一な加熱、局所沸騰の抑制、初期温度上昇性能の向上を達成できる加熱装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a heater achieved in uniform heating while restraining a variation of a temperature, suppressed in local boiling, and improved in initial temperature rise performance in spite of using a spiral sheath heater compact in size and having high heating performance. - 特許庁

局所加熱装置は、加熱光源７からの光がノズル部３の上端面３３以外に照射されないように、加熱光源７からの光を遮光する遮光部２２を備えた。例文帳に追加

The local heating apparatus has a shading portion 22 to interrupt the light emitted from a heating light source 7 not to project it on the place other than an upper-end surface 33 of a nozzle portion 3. - 特許庁

マイクロ波分布自体を変化させ、局所加熱を抑制して加熱の均一化をはかり、特に解凍時の出来栄えの良い高周波加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide a high frequency heating device of which, uniform heating is realized by changing the distribution of microwave and restraining local heating, especially with excellent execution at thawing. - 特許庁

連続的な加熱処理の開始後に記録材の通過幅の外側で発生する過熱領域の移動に伴って通紙範囲を拡大して、加熱ベルト部材の局所的な過熱を回避できる像加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide an image heating device which expands a paper feed range according to movement of an excessively heated area occurring outside a passage width of recording media after consecutive heating treatment is started, so as to avoid excessive local heating on a heating belt member. - 特許庁

流路の局所加熱を回避し、炭素析出（焦げ付き、コーキングの発生）を抑制しうる流体加熱装置及びこれを用いた流体加熱方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a fluid heating apparatus, and a fluid heating method using it capable of suppressing carbon deposition (burning, or coking) by avoiding partial heating of a passage. - 特許庁

誘導加熱コイル１１と、誘導加熱コイル１１から発生する磁束を局所的に集中させるために使用するコア５とを備えた高周波加熱装置のコア劣化検知方法ある。例文帳に追加

The method for detecting the degradation of the core is for the high frequency induction-heating apparatus provided with: the induction-heating coil 11; and the core 5 used for locally concentrating the magnetic flux developed from the induction-heating coil 11. - 特許庁

熱風から紙容器への熱伝導効率を高めて、局所的な加熱を回避するとともに、加熱装置の電力消費量を低減した紙容器加熱装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a paper container heater by raising a thermal conductivity from a hot air to a paper container, avoiding local heating, and reducing a power consumption of the heater. - 特許庁

レーザー光を用いて局所加熱することで、品質の安定とフリット流れ込み量の均一化が可能になる。例文帳に追加

Local heating by laser beams can make quality stable and the inflow amount of frit uniform. - 特許庁

電極層に通電することで、局所的に発生するジュール熱により電極層を加熱することができる。例文帳に追加

The electrode layer is heated by Joule heat locally generated by passing electricity to the electrode layer. - 特許庁

成形空間２１に対する局所的な加熱と吸熱を選択的に行う温度調整部材３０を金型２に設ける。例文帳に追加

A temperature adjusting member 30 for selectively performing local heating and heat absorption with respect to a molding space 21 is provided to a mold 2. - 特許庁

窒化物単結晶成長原料中に種結晶を位置させ、前記種結晶を局所的に加熱して結晶成長を行う。例文帳に追加

A seed crystal is placed in a raw material for growing the nitride single crystal and then a crystal is grown by locally heating the seed crystal. - 特許庁

ソレノイドコイルを形成する銅管の局所発熱を低減して劣化を抑制し、加熱容量の増大を図る。例文帳に追加

To restrain deterioration of a copper pipe forming a solenoid coil by reducing local heat generation, and to increase heating capacity. - 特許庁

局所加熱光４１の照射によって接合材１ａ，１ｂ，１ｃを溶融させて、互いに隣接する接合材１ａ，１ｂ，１ｃ同士を連結させる。例文帳に追加

The bonding materials 1a, 1b, 1c are fused by irradiation of the local heating light 41, and the adjoining bonding materials 1a, 1b, 1c are connected. - 特許庁

局所加熱帯領域の寸法は、目隠し板（シャッター・プレート）１３の窓１２の寸法で定義される。例文帳に追加

The dimension of the local heating belt region is defined by the dimension of a window 12 of a blind plate (shutter plate) 13. - 特許庁

高屈折率を有する光学ガラスの溶融に際し、局所的な温度低下による失透や、過度の加熱による槽の侵食を抑制する。例文帳に追加

To prevent the devitrification due to the partial lowering of temperature or the erosion due to the excessive heating in the melting of an optical glass having high refractive index. - 特許庁

リフレクタ１０は、ヒータ６により基板４を加熱するときに反応室３の内部から外部へ伝導する熱量を局所的に変更する。例文帳に追加

The reflector 10 locally changes a calorific value conducted from the inside to the outside of the reaction chamber 3 when the substrate 4 is heated by the heater 6. - 特許庁

半導体基板内の所定領域をレーザを利用して300〜600℃の温度に局所的に加熱する工程を備えている。例文帳に追加

The method has the step of locally heating a specific region in the semiconductor substrate to 300 °C to 600 °C by using laser. - 特許庁

次に、分離基板６の端面電極５の近傍に熱風を吹付けることによって局所的に加熱する。例文帳に追加

Subsequently, the separated substrate 6 is locally heated by blowing hot air in the vicinity of end electrodes 5 of the separated substrate 6. - 特許庁