例文 (999件) |
応力面の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2988件
表面の残留応力が50MPa以下の引張応力、または15MPa以下の圧縮応力である。例文帳に追加
The residual stress at the surface is ≤50 MPa tensile stress and ≤15MPa compressive stress. - 特許庁
接触面圧および表面下応力の計算方法例文帳に追加
CALCULATION METHOD FOR CONTACT SURFACE PRESSURE AND SUBSURFACE STRESS - 特許庁
配管内面の残留応力改善方法、内面の残留応力を改善した配管例文帳に追加
METHOD FOR IMPROVING RESIDUAL STRESS IN INNER SURFACE OF PIPE, AND PIPE IMPROVED IN RESIDUAL STRESS IN INNER SURFACE THEREOF - 特許庁
応力計算部11は、異なる種類の平均応力を個別に計算する個別計算部として、接触面圧応力計算部111、熱応力計算部112、残留応力計算部113を有すると共に、平均応力を合計する平均応力計算部114を有する。例文帳に追加
The stress calculation part 11 has a contact bearing stress calculation part 111 as an individual calculation part for calculating individually a different kind of average stress, a thermal stress calculation part 112, a residual stress calculation part 113, and an average stress calculation part 114 for totalizing the average stresses. - 特許庁
応力変化の特性としては、皮膚表面を圧縮及び緩和する工程における、圧縮終了時の最大応力から緩和終了時に於ける応力までの応力変化のパターンの特性における応力緩和時間を用いる。例文帳に追加
As characteristics of stress variation, a stress relaxation time in characteristics of a pattern of stress variation from the maximum stress at compression finishing to stress at relaxation finishing in processes to compress and to relax the skin surface is used. - 特許庁
応力パターンBは応力パターンAの傾きとは異なり、応力パターンAは応力パターンBをガラス表面まで延長させたラインよりも低圧縮応力側にある特徴を有す。例文帳に追加
The gradient of the stress pattern B differs from that of the stress pattern A, and the stress pattern A is at the lower compressive stress side than a line drawn by extending the stress pattern B to the glass surface. - 特許庁
するとチャック面に存在していた応力が、レチクルを横滑りさせ、応力が緩和される。例文帳に追加
Then, stress that is present on the chucked surface allows the reticle to slide sideways, thus relaxing the stress. - 特許庁
金属板の表面残留応力を、回転砥石による研削のみで圧縮応力にする。例文帳に追加
To change surface residual stress of a metal plate into compressive stress only by grinding with a rotary grinding wheel. - 特許庁
また曲げ外側の表面と材料中心との間に圧縮残留応力から引張残留応力に変化する応力変化部が存在する。例文帳に追加
Between this stress change portion and the center of the material, a tensile stress peak portion in which the tensile residual stress becomes maximum is present. - 特許庁
開先継手の片面溶接で生じる残留応力を圧縮応力に改善して応力腐食割れなどを防止する。例文帳に追加
To prevent stress-corrosion cracking or the like by changing residual stress generated by one side welding of a bevel joint into a compressing stress. - 特許庁
破面からの作用応力推定方法及び装置例文帳に追加
METHOD AND APPARATUS FOR ESTIMATING ACTING STRESS FROM FRACTURE SURFACE - 特許庁
トランジスタのゲート上面での応力緩和例文帳に追加
STRESS RELAXATION FOR TOP SURFACE OF TRANSISTOR GATE - 特許庁
弾性表面波による応力評価方法および装置例文帳に追加
STRESS EVALUATION METHOD AND SYSTEM BY SURFACE ACOUSTIC WAVE - 特許庁
固液界面における壁粘性応力計算方法例文帳に追加
METHOD FOR CALCULATING WALL VISCOSITY STRESS IN SOLID-LIQUID INTERFACE - 特許庁
金属表面残留応力改善熱処理方法例文帳に追加
HEAT-TREATMENT METHOD FOR IMPROVING REMAINING STRESS IN SURFACE OF METAL - 特許庁
応力耐性が改善された裏面照射型イメージセンサ例文帳に追加
BACKSIDE IRRADIATION IMAGE SENSOR HAVING IMPROVED STRESS RESISTANCE - 特許庁
管内面の応力腐食割れ形成方法及び装置例文帳に追加
STRESS CORROSION CRACK FORMING METHOD AND DEVICE OF TUBE INNER SURFACE - 特許庁
小口径管内面の残留応力低減方法例文帳に追加
RESIDUAL STRESS REDUCING METHOD FOR SMALL-BORE PIPE INTERIOR SURFACE - 特許庁
I型断面鋼構造物のウェブ部応力測定装置例文帳に追加
WEB PART STRESS MEASURING DEVICE FOR STEEL STRUCTURE WITH SHAPED SECTION - 特許庁
また、管理コンピュータ10は、観測応力のデータから決まる応力平面(回帰平面)に基づいて、応力計測断面の各点における計算応力を算出する。例文帳に追加
The control computer 10 also computes computed stress at each point of the stress measured cross section on the basis of a stress plane (regression plane) determined from observed stress data. - 特許庁
第1および第2のショットピーニング工程によって圧縮残留応力が付与されたばね素線は、表面から深さ方向に圧縮残留応力が増加する残留応力増加部と、圧縮残留応力が最大となる残留応力ピーク部と、残留応力ピーク部から前記ばね素線の深さ方向に圧縮残留応力が減少する残留応力減少部とを有している。例文帳に追加
The spring element wire to which compressive residual stress is applied according to the first and second shot peening processes has: a residual stress increase portion in which compressive residual stress increases in the depth direction from a surface; a residual stress peak portion in which compressive residual stress becomes maximum; and a residual stress decrease portion in which compressive residual stress decreases in the depth direction of the spring element wire from the residual stress peak portion. - 特許庁
共形接触下の接触面圧および表面下応力計算方法例文帳に追加
CONTACT BEARING PRESSURE UNDER CONFORMAL CONTACT, AND SUBSURFACE STRESS CALCULATION METHOD - 特許庁
接触面圧および表面下応力の計算方法および計算装置例文帳に追加
CALCULATION METHOD AND CALCULATION APPARATUS FOR CONTACT SURFACE PRESSURE AND SUBSURFACE STRESS - 特許庁
応力緩和板7の輪郭を形成しかつ応力緩和板(7)の厚み方向に幅を持つ輪郭面10に、応力緩和板7の輪郭面10の沿ってのびかつ絶縁板5の熱応力を低減する熱応力緩和用凹部となる凹溝12を設ける。例文帳に追加
A contour surface 10 which forms the contour of the stress relaxing plate 7 and has a width in the thickness direction of the stress relaxing plate (7), is provided with a groove 12 which acts as a thermal stress relaxing recess that extends along the contour surface 10 of the stress relaxing plate 7, to reduce thermal stress of the insulation plate 5. - 特許庁
基板20に任意の応力を有する応力調整薄膜21を基板20の下面に形成することにより、この応力調整薄膜21の内部応力Sにより基板20は変形させることができる。例文帳に追加
A base board 20 can be deformed by internal stress S of a stress adjusting thin film 21 by forming the stress adjusting thin film 21 having optional stress in the base board 20 on an under surface of the base board 20. - 特許庁
溶接継手形式に対応する応力分布をデータベースから抽出し、その応力分布に、一様応力成分及び曲げ応力成分と、部材と溶接ビードの形状パラメータとを入力し、ロンジフェイス21の板厚断面41の応力分布を算定する。例文帳に追加
A stress distribution corresponding to a welded joint form is extracted from a database, and the uniform stress component, the bending stress component, and a shape parameter of a member and a weld bead are input into the stress distribution, and a stress distribution of a plate thickness cross section 41 of the longitudinal face 21 is calculated. - 特許庁
ミラー基板101のミラー面が形成されない裏面に、応力調整層として圧縮応力を有する金属薄膜118が成膜される。例文帳に追加
On the reverse surface of the mirror substrate 101 where a mirror surface is not formed, a metal thin film 118 having compressive stress is formed as a stress adjusting layer. - 特許庁
中央領域(9)における平均表面圧縮応力は、周縁領域における平均表面圧縮応力よりも大きい。例文帳に追加
The average surface compressive stress in the central region (9) is larger than that of the peripheral region. - 特許庁
表面形状測定装置および応力測定装置、並びに、表面形状測定方法および応力測定方法例文帳に追加
SURFACE SHAPE MEASURING DEVICE, STRESS MEASURING DEVICE, SURFACE SHAPE MEASURING METHOD, AND STRESS MEASURING METHOD - 特許庁
応力の集中する中央部3の断面は厚く、応力の小さい周辺部の断面は薄く形成する。例文帳に追加
The cross section of the central part 3 with a concentrated stress is formed thick and the cross section of the circumferential part with small stress is formed thin. - 特許庁
これによれば、残留応力が外表面と内表面に残っているので、その分、実際に発生する応力を軽減できる。例文帳に追加
Thus, since residual stress remains on the outside surface and an inside surface, actually generating stress can be reduced by that extent. - 特許庁
応力強度は、単位面積当たりの力の単位で表される例文帳に追加
the intensity of stress is expressed in units of force divided by units of area - 日本語WordNet
多層膜ミラーの面内応力分布を簡単な方法で制御する。例文帳に追加
To control stress distribution in a surface of a multilayer film mirror with a simple method. - 特許庁
ウォータージェットピーニング施工面の残留応力評価方法例文帳に追加
RESIDUAL STRESS EVALUATION METHOD FOR WATERJET PEENING PROCESSED SURFACE - 特許庁
表面改質部材の残留応力および変形の評価方法例文帳に追加
RESIDUAL STRESS OF SURFACE MODIFIED MEMBER AND EVALUATION METHOD FOR DEFORMATION - 特許庁
また、かかる面積比により、有効に応力緩和がなされ剥離を生じない。例文帳に追加
Stress is effectively relaxed by the area ratio and peeling is not caused. - 特許庁
ボアホールジャッキ式一面破砕応力測定プローブ及び装置例文帳に追加
BOREHOLE JACK TYPE ONE-PLANE CRUSHING STRESS MEASURING PROBE AND APPARATUS USING THE SAME - 特許庁
セラミックヒータ表面に圧縮の残留応力を発生させる。例文帳に追加
The surface of the ceramic heater is adapted to generate a compressive residual stress. - 特許庁
管継手内面側への応力腐蝕割れ形成方法及び装置例文帳に追加
METHOD AND DEVICE FOR FORMING STRESS CORROSION CRACK ON INSIDE OF TUBE JOINT - 特許庁
小口径管の内面残留応力状態を改善する方法例文帳に追加
IMPROVING FOR RESIDUAL STRESS CONDITION ON INNER SURFACE OF SMALL-APERTURE PIPE - 特許庁
軌道面の有する残留圧縮応力は、500〜1000MPaである。例文帳に追加
Residual compression stress of the raceway face is 500 to 1,000 MPa. - 特許庁
バルブボディ表面における応力腐食割れを抑制する。例文帳に追加
To restrain stress corrosion cracking in a valve body surface. - 特許庁
表面SH波による音弾性応力測定方法及び測定用センサ例文帳に追加
METHOD OF MEASURING SOUND ELASTIC STRESS BY SURFACE SH WAVE AND MEASURING SENSOR - 特許庁
異材管継手内面側への引張応力付与具及びその使用方法例文帳に追加
TOOL FOR APPLYING TENSILE STRESS TO INNER SURFACE OF DIFFERENT MATERIAL UNION JOINT AND USAGE THEREFOR - 特許庁
I型断面鋼構造物のフランジ部応力測定装置例文帳に追加
APPARATUS FOR MEASURING STRESS AT FLANGE PART OF STEEL STRUCTURE HAVING I-SHAPED CROSS SECTION - 特許庁
基板保持装置、表面形状測定装置および応力測定装置例文帳に追加
SUBSTRATE HOLDER, SURFACE SHAPE MEASURING DEVICE AND STRESS MEASURING DEVICE - 特許庁
図1において、矢印で示すように、外輪13がカムCから受ける最大応力に対応する位置において、外輪内周面、ころ周面及びスタッド頭部外周面に作用する応力は最大値を示すが、その応力はカム従動面に作用する最大応力よりも小さくなる。例文帳に追加
In a position corresponding to a maximum stress exerted, as shown by an arrow mark, on the outer ring 13 by a cam C, a stress exerted on the inner peripheral surface of an outer ring, the peripheral surface of a roller, and the outer peripheral surface of a stud head part indicates a maximum value but is lower than the maximum stress exerted on a cam follower surface. - 特許庁
さらに、圧縮応力パターンAから求められる表面応力値と、ガラス内層側の圧縮応力パターンBをガラス表面まで延長させたラインから求められる仮の表面応力値との比が0.8以上0.95以下、又は応力パターンAによる圧縮応力層厚が2μm以上15μm以下の化学強化ガラス。例文帳に追加
Moreover, the ratio of a surface stress value obtained from the stress pattern A to a virtual surface stress value obtained from a line formed by extending the stress pattern B at the inner layer side of the glass to the glass surface is 0.8-0.95; otherwise, the thickness of the compressive stress layer formed by the stress pattern A is 2-15 μm. - 特許庁
このように引張応力領域22a,22bをエッチングにより取り除いた後の鋼板を用いて作製した色選別電極100は表面側(蛍光面側)の引張応力領域と裏面側(電子銃側)の引張応力領域の差がなくなり、残留応力のバランスがくずれることがない。例文帳に追加
In a color selection electrode 100 made of the steel plate, from which tensile stress areas 22a, 22b are eliminated by etching in this way, a difference between the tensile stress area on the surface side (fluorescent screen side) and that on the back face side (electron gun side) is eliminated, so that a balance of residual stress is not lost. - 特許庁
また、平面視において半導体チップ1の中央部にかかる応力を検出する応力検出用素子7が、第1応力検出用素子7−1として設けられ、平面視において半導体チップ1の外周部にかかる応力を検出する応力検出用素子7が、第2応力検出用素子7−2として設けられることが好ましい。例文帳に追加
Further, it is preferable that a first stress detection element 7-1 is provided as the stress detection element 7 detecting stress applied to the center of the semiconductor chip 1 when viewed from above, and a second stress detection element 7-2 is provided as the stress detection element 7 detecting stress applied to an outer periphery of the semiconductor chip 1 when viewed from above. - 特許庁
例文 (999件) |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |