「応力面」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

携帯型電子機器において、衝撃力を受けた場合にも応力集中の発生による平面型ディスプレイの損傷を効果的に防止する。例文帳に追加

To effectively prevent damage to a flat type display caused by occurrence of stress concentration even when portable electronic equipment receives impact force. - 特許庁

その後、半導体基板１１上の全面に、実質的に応力が生じない層間絶縁膜２１を形成する。例文帳に追加

Then, an interlayer insulating film 21 in which stress does not substantially occur is formed on the whole surface of a semiconductor substrate 11. - 特許庁

その結果、ルーフパネル１の中央部においてブレージングに伴うしわや応力を広く分散させて、表面ひずみを抑制できる。例文帳に追加

As a result, crease or stress accompanying the brazing is widely distributed in the center part of the roof panel 1, thereby suppressing the strain on the surface. - 特許庁

又はセラミックス基板表面の残留応力を−４０ＭＰａ以下とすることにより曲げ弾性率２３０ＧＰａ以上とすることができる。例文帳に追加

Otherwise, the bending modulus is controlled to ≥ 230 GPa by controlling residual stress of the surface of the ceramic substrate to ≤-40 MPa. - 特許庁

パルスレーザビームのスポットを、被加工材の表面における最大主応力の方向と直交する向きに走査する。例文帳に追加

The spot of pulse laser beams is scanned in the direction orthogonal to the direction of the maximum principal stress in the surface of a workpiece. - 特許庁

低応力で且つ高い面内均一性の光学特性の光学膜を備えたフォトマスクブランクを提供すること。例文帳に追加

To provide a photomask blank comprising an optical film undergoing reduced stress and offering in-plane uniform optical properties. - 特許庁

反射率が低下することなく、内部応力による面変形が低減した多層膜ミラー部材とその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a member for a multilayer-film mirror whose surface deformation due to internal stress is reduced without lowering its reflectivity, and also to provide a method for manufacturing the member. - 特許庁

機械的及び熱的な応力変化にいつまでも耐えるように十分に融通の利く、極めて硬い層を部品の接触面間に生成させる。例文帳に追加

To allow a layer which is sufficiently adaptable so as to permanently withstand a change in mechanical and thermal stress and remarkably hard, to be formed between contact surfaces of structural components. - 特許庁

先付けするタイル３の相互間の目地４が同タイルの裏面３０よりも深い応力遮断目地５として形成されている。例文帳に追加

In the tile-prefabricated form structure, a joint 4 between the tiles 3 to be prefabricated is formed as a stress blocking joint 5 deeper than the backside 30 of the tile. - 特許庁

溶接施工表面を溶接後に加熱機で加熱した後に冷却機で冷却することにより、溶接構造物の残留応力を低減させる。例文帳に追加

The residual stress of a welding structure is reduced by heating a welded surface with a heater after the welding and then by cooling it with a cooler. - 特許庁

被処理体の表面に高密度で且つ高い応力のシリコン酸化膜を形成することが可能な成膜方法を提供する。例文帳に追加

To provide a film forming method capable of forming a silicon oxide film having a high density and a high stress on a workpiece surface. - 特許庁

熱酸化膜と半導体基板の界面で生じる応力を抑制することができる半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a semiconductor device with which stress which occurs on an interface of a thermal oxide film and a semiconductor substrate can be suppressed. - 特許庁

生産の速度が速く、ボードに応力が残留しない表面にパターンを有するボードを製作する装置及びその方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus of manufacturing a board having a pattern on a residual stress-free board surface at a high production velocity and its manufacturing method. - 特許庁

或いは駆動側電極の表面祖度が１０ｎｍ以下に設定され、且つ駆動側電極の膜応力が５００ＭＰａ以下に設定される。例文帳に追加

Alternatively, the surface roughness of the driving side electrode is 10 nm or smaller and the film stress of the driving side electrode is set at 500 MPa or smaller. - 特許庁

この連結により、フランジとケーシングシェル面との接合部に設けられたフィレット近傍の支持応力の集中が減少する。例文帳に追加

The connection reduces bearing stress concentrations adjacent to fillets provided at the junction of the flange and the casing shell surface. - 特許庁

応力減衰室１０４は、筐体１１０の壁面に形成されたオリフィス１１５を介し、インクカートリッジ外側の大気と連通している。例文帳に追加

The stress damping room 104 is communicated with the open air on the outside of the ink cartridge through an orifice 115 formed on the wall face of the case 110. - 特許庁

試験片１は角柱状をなし、長手方向の曲げ応力の中性軸が金属材料と合成樹脂材料との接着面上に位置する。例文帳に追加

The test piece 1 has a prism shape, and a longitudinal-directional neutral axis of a bending stress is positioned on a bonding face between the metal material and the synthetic resin material. - 特許庁

印刷方法を用いて、半導体装置１０のバンプ１５ａ形成面のバンプ１５ａ間に、所定層厚で応力緩和物質２１を埋め込む。例文帳に追加

By using a printing method, spaces among bumps 15a on a bump 15a formation surface of the semiconductor device 10 are filled with a stress relaxing substance 21 in a predetermined thickness. - 特許庁

ＬＯＣＯＳ酸化が埋め込み酸化膜に達した後の過剰な酸化により、ボディ領域が底面側から酸化され、圧縮応力が発生する。例文帳に追加

To avoid compression stress which is produced, when a body region is oxidized from its bottom surface side by excessive oxidation, after LOCOS oxidation reaches an embedded oxide film. - 特許庁

プラスチックの成型体等に積層されたとき応力白化が少なく、表面高度や剛性が高く、かつ透明性に優れたフィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a film causing little stress-whitening, having high surface hardness and rigidity and excellent in transparency when laminated on a plastic molding or the like. - 特許庁

その後にＮ型不純物を添加すれば応力起因の増速拡散は発生することはなく、接合界面の突起は発生しない。例文帳に追加

If the n-type impurity is subsequently doped, the stress-caused enhanced diffusion does not take place, and a projection is not formed at a junction interface. - 特許庁

プレキュアトレッド11を台タイヤに貼付けて更生タイヤを成形すると、リブ19の表面部に周方向張力（内部応力）が発生する。例文帳に追加

When a precure tread 11 is stuck to a base tire to mold the retreaded tire, peripheral tension (internal stress) occurs on the surface sections of ribs 19. - 特許庁

軌道面１ａ，２ａから１００μｍ内側の深さ位置における周方向の圧縮残留応力は、１００〜５００ＭＰａである。例文帳に追加

Compression residual stress in the peripheral direction at a depth position inside the orbital planes 1a, 2a by 100 μm is 100-500 MPa. - 特許庁

そのために、この溶接鋼管は、母材部および管内面のシーム部の耐食性、特に耐応力腐食割れ性（耐ＳＣＣ性）に優れている。例文帳に追加

Therefore, the welded steel pipe is excellent in corrosion resistance, particularly, in stress corrosion cracking resistance(SCC resistance) in the base material part and the seam zone at the inside face of the pipe. - 特許庁

応力制御層５１の形成後に、ガラス基板１１のおもて面にＣＬＣ技術を用いて多結晶シリコン膜を形成する。例文帳に追加

After the stress control layers 51 are formed, a polycrystalline silicon film is formed on a top surface of the glass substrate 11 using CLC technique. - 特許庁

伸線後の金属線の表面に発生する引っ張り残留応力が低減されうる伸線ダイス１の提供。例文帳に追加

To provide a wire drawing die 1 with which tensile residual stress generated on the surface of a metal wire after wire drawing is suppressed. - 特許庁

圧力面間の接触縁端４６における剛性を低減させてそこでのピーク応力を低下させるための逃げ溝４８及び５０が設けられている。例文帳に追加

Clearance grooves 48, 50 to lower peak stress there are provided by reducing rigidity at a contact edge end 46 between the pressure surfaces. - 特許庁

これにより、柱状構造物２の地盤面１ａより下の部分に発生する曲げやせん断等の応力を低減することができる。例文帳に追加

Thus a stress such as a bending force and a shear occurring at a location below the ground surface 1a of the columnar construction 2 can be reduced. - 特許庁

かかる構成により、半導体チップ１４裏面のエッジ部が封止樹脂２４から受ける応力が緩和される。例文帳に追加

This composition eases the stress of the edge of the semiconductor chip 14 rear face imparted by a sealing resin 24. - 特許庁

レーザ照射時に発生する応力を防止して切断面の割れ不良を減少させることのできるレーザ照射装置を提供する。例文帳に追加

To provide a laser irradiation device for reducing a crack failure of a cutting plane by preventing stress from occurring during laser irradiation. - 特許庁

球面継手を構成するボールのスリットの溝底に生じる応力集中を低減することが可能な電動式ステアリング装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electric steering device that can reduce stress concentration generated at a groove bottom of a slit of a ball constituting a spherical joint. - 特許庁

第１の絶縁膜２１Ａは、第１の応力絶縁膜２０Ａの上に接して形成され、上面が平坦化されている。例文帳に追加

The first insulating film 21A is formed in contact on the first stress insulating film 20A and the upper surface is flattened. - 特許庁

本発明は、温度上昇に伴って被測定物の表面応力によって生じる複屈折現象を客観的に評価することを課題とする。例文帳に追加

To objectively evaluate a birefringence phenomenon caused by the surface stress of an object to be measured with rising temperature. - 特許庁

第２のショットピーニング工程では、低い運動エネルギーによって、表面に近い部分の圧縮残留応力が増加する。例文帳に追加

In the second shot peening process, compressive residual stress of a portion next to the surface increases by low kinetic energy. - 特許庁

半導体基板３の表面に対するチャネル部ｃｈの深さ位置ｄ２は、シリサイド膜（応力印加層）１３の深さｄ１位置よりも浅い。例文帳に追加

A depth position d2 of a channel ch relative to the surface of the semiconductor substrate 3 is shallower than the depth position d1 of the silicide films (stress application layer) 13. - 特許庁

結晶粒の粗い材料で製造された物品であっても、その表面層の浅い部分の残留応力を、その分布も含めて精度よく測定する。例文帳に追加

To precisely measure residual stress and distribution thereof in a shallow surface layer even when an object is made of a material of coarse crystal grains. - 特許庁

この表面保護膜８は、導体層３，７を外部からの応力、α線などから保護するものであり、得られる半導体装置は信頼性に優れる。例文帳に追加

This protective film 8 protects the conductor layers 3, 7 from external stress, α-rays, etc., and the resulting semiconductor device has excellent reliability. - 特許庁

これらの方法は、腐食水にさらされた後のタービン部品１の応力腐食割れ又は表面点食の少なくとも一方を防ぐことができる。例文帳に追加

This method is capable of inhibiting at least one of stress corrosion cracking or surface pitting of the turbine component 1 after exposure to corrosive water. - 特許庁

保護膜に起因する応力を低減して、素子寿命の長い面発光型半導体レーザ素子を提供する。例文帳に追加

To provide a surface emitting type semiconductor laser element with a long element life by reducing stress generated by a protecting film. - 特許庁

高分子材料エレメントの結果を得る時間に、更新された応力状態が降伏曲面の許容範囲にあるまで計算を継続する。例文帳に追加

This calculation is continued while the updated stress state is within an allowable range of the yield curved surface in a time when a result of a high polymer material element is obtained. - 特許庁

これにより、電極パッド部７８における外部配線との配線時に、脆弱な接合面に係る応力を低減することができる。例文帳に追加

This can reduce a stress related to the fragile joint surface at the time of interconnection with the outside interconnection at the electrode pad part 78. - 特許庁

これにより、レーザ加工部の基板全体に対する面積を大きくすることができるので、剥離の際の応力による結晶のクラックを低減できる。例文帳に追加

This increases an area of a laser processed part to the whole area, thereby reducing cracks in crystal due to the stress upon peeling. - 特許庁

集電体の面方向への応力を低減し、活物質層が集電体から剥離することを抑制する電極を提供する。例文帳に追加

To provide an electrode for reducing stress directed toward the surface of a current collector and inhibiting the peeling of an active material layer from the current collector. - 特許庁

表面処理鋼板は、０．１２〜０．１６ｍｍの板厚と、４００〜５３０ＭＰａの降伏応力Ｙ_ｐと、５〜３０％の伸びＥ_ｌとを備える。例文帳に追加

The surface treated steel sheet has a plate thickness of 0.12 to 0.16 mm, a yield stress Y_p of 400 to 530 MPa, and an elongation E_l of 5 to 30%. - 特許庁

物体の応力は、表面メッシュに確定される対向するシェル要素２０、２２を介して、有限要素分析によってモデリングされる。例文帳に追加

Stresses in an object are modeled by finite element analysis, via opposing shell elements 20, 22 defined on a surface mesh. - 特許庁