「脱膜化」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

脱水素化された層間絶縁膜を含む半導体装置も提供される。例文帳に追加

The semiconductor device including a dehydrogenated inter-layer insulating film is also provided. - 特許庁

膜脱気装置を効率的に洗浄して、経時による圧力損失の上昇、流量低下、脱気性能の低下や膜劣化を防止する。例文帳に追加

To provide a method for cleaning a membrane deaerator comprising efficiently cleaning a membrane deaerator and preventing increase in pressure loss, decrease in flow rate, reduction in deaeration performance and membrane deterioration with time. - 特許庁

硝化させた排水Ｄ_４を第２の脱窒槽37にて脱窒した後、ＭＦ膜槽41で膜分離して１次処理水Ｗ_１とする。例文帳に追加

Nitrified waste water D_4 is denitrified in a second denitrification tank 37, then membrane-separated in an MF membrane tub 41 and turned to primary treated water W_1. - 特許庁

分離膜４は、含水素化合物、含水素化合物の脱水素反応で得られる脱水素化合物、及び水素を含む混合物から脱水素化合物及び水素を共に選択的に透過する無機材料から構成される膜である。例文帳に追加

The separation membrane 4 is a membrane comprising an inorganic material for selectively permeating both of hydrogen and the dehydrogenated compound which is obtained by a dehydrogenation reaction of the hydrogen-containing compound, from a mixture of the hydrogen-containing compound, the dehydrogenated compound and the hydrogen. - 特許庁

半導体素子のゲートマスクである窒化膜を、７５０℃よりも高い、窒化膜から水素を離脱させる温度で成膜する。例文帳に追加

A nitride film, which is a gate mask for the semiconductor device, is formed at 750°C or higher at which hydrogen is removed from the nitride film. - 特許庁

窒化膜１２中に導入された水素ラジカル１４が塩素１３とが結合して塩化水素１５を生成し、塩化水素１５が窒化膜１２から離脱する。例文帳に追加

Hydrogen radicals 14 introduced into the nitride film 12 bond to chlorine 13 to produce hydrogen chloride 15 which leaves the nitride film 12. - 特許庁

多孔質ケイ酸塩膜の脱ヒドロキシル化およびアルキル化のための真空／気相反応器の提供。例文帳に追加

To provide a vacuum/gas phase reactor for dehydroxylating and alkylating a porous silicate film. - 特許庁

酸化物半導体膜を含むトランジスタにおいて、酸化物半導体膜に熱処理による脱水化または脱水素化を行うとともに、酸化物半導体膜と接するゲート絶縁膜として、酸素を含む絶縁膜、好ましくは、化学量論的組成比より酸素が多い領域を含むゲート絶縁膜を用いることで、該ゲート絶縁膜から酸化物半導体膜へ酸素を供給する。例文帳に追加

In a transistor including an oxide semiconductor film, dehydration or dehydrogenation is performed on the oxide semiconductor film through heat treatment and an insulation film including oxygen, preferably a gate insulation film including a region containing oxygen more than the stoichiometric composition ratio is used as a gate insulation film in contact with the oxide semiconductor film, whereby oxygen is supplied from the gate insulation film to the oxide semiconductor film. - 特許庁

また、脱水化または脱水素化処理が施された後に、酸化物絶縁膜が接して形成された酸化物半導体膜を利用することで、閾値の経時変化が抑制され、論理回路の信頼性を高められる。例文帳に追加

In addition, a change in a threshold voltage over time is suppressed and the reliability of a logic circuit can be improved by using an oxide semiconductor film which is formed when an oxide insulating film is in contact thereto after dehydration or dehydrogenation treatment. - 特許庁

気体透過能を有する均質膜と、該均質膜を支持する多孔質支持層とを有する脱気用複合中空糸膜において、酸化防止剤量が０.００５質量％以下であることを特徴とする脱気用複合中空糸膜。例文帳に追加

The degassing hollow fiber membrane includes a homogeneous membrane having gas permeability, and a porous support layer supporting the homogeneous membrane, wherein the amount of an oxidation inhibitor is ≤0.005 mass%. - 特許庁

脱水過程では、ポリアミド酸溶液を脱水閉環させてポリイミド化することでポリイミド薄膜を形成する。例文帳に追加

In the dehydration process, the polyamic acid solution is cyclodehydrated and polyimidated to form the polyimide thin-film. - 特許庁

有機物含有水をｐＨ４〜６に調整した後、膜脱気装置１で脱ガス処理し、その後反応塔２でオゾン酸化分解処理する。例文帳に追加

Organic matter-containing water the pH of which is adjusted to 4-6 is subjected to degassing treatment in a degassing treatment apparatus 1 before subjected to ozone oxidizing decomposition treatment in a reaction tower. - 特許庁

膜貫通領域欠如型Ｎ−アセチルグルコサミン脱アセチル化酵素をコードするＤＮＡ例文帳に追加

DNA ENCODING TRANSMEMBRANE DOMAIN-LACKING TYPE N- ACETYLGLUCOSAMINE DEACETYLATION ENZYME - 特許庁

特に、第1層間絶縁膜は脱水素化の後、200MPa以上の引張ストレスを有しうる。例文帳に追加

Particularly, after dehydrogenating the first inter-layer insulating film, a tensile stress of 200 MPa or more is exhibited. - 特許庁

光触媒用酸化チタン膜２は減菌、脱臭、清浄作用に効果を発揮する。例文帳に追加

The titanium oxide layer for photo-catalyst shows the effect on the pasteurization, deodorization and cleanness. - 特許庁

ポリマ膜中の脱水酸基化処理方法及びそれを用いた光導波路例文帳に追加

METHOD FOR REMOVING HYDROXYL GROUP IN POLYMER FILM AND OPTICAL WAVEGUIDE BY USING THE SAME - 特許庁

染色された陽極酸化被膜を形成している脱色部の一部を、脱色剤溶液に浸漬する又は脱色部に脱色剤溶液を付着する。例文帳に追加

This decorating method includes the step of immersing one part of a decolorized part which forms one part of a dyed anodic oxide coating, into a solution of a decolorizing agent, or the step of making the decolorized part contact with the solution of the decolorizing agent. - 特許庁

分離膜４を備えることにより、脱水素化合物及び水素を共に選択的に透過させて含水素化合物、脱水素化合物、及び水素の熱力学平衡をシフトさせ、脱水素反応を促進させる。例文帳に追加

The thermodynamic equilibrium among the hydrogen-containing compound, the dehydrogenated compound and the hydrogen is shifted by the selective permeation of both of the dehydrogenated compound and the hydrogen through the separation membrane 4 to accelerate the dehydrogenation reaction. - 特許庁

バイアスパワーを印加して成膜した窒化珪素膜から離脱する水素を適正に制御する半導体素子の窒化珪素膜、窒化珪素膜の製造方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a silicon nitride film of a semiconductor element in which hydrogen desorbed from a silicon nitride film deposited by applying a bias power is controlled properly, and to provide a method and an apparatus for producing the silicon nitride film. - 特許庁

これにより、ベース膜６０内の水素原子が気相中へと脱離し、同膜６０内の炭素原子の活性化率が向上する。例文帳に追加

Thus, hydrogen atoms in the base film 60 are desorbed in the gas phase and the activation efficiency of the carbon atoms in the film 60 can be enhanced. - 特許庁

脱離反応によるコーティング膜形成まで化学吸着分子の加水分解を抑制できるコーティング膜の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a production method of coating film which suppresses hydrolysis of chemical adsorption molecule until the coating film is formed by an elimination reaction. - 特許庁

両末端に脱離反応性の異なる異種官能基を有する有機化合物を用いた有機薄膜および該有機薄膜の製造方法例文帳に追加

ORGANIC THIN FILM USING ORGANIC COMPOUND HAVING AT BOTH ENDS DIFFERENT FUNCTIONAL GROUP DIFFERING IN REACTIVITY IN ELIMINATION REACTION AND MANUFACTURING METHOD FOR THE ORGANIC THIN FILM - 特許庁

接合基材３００はシロキサン結合と脱離基とを含む薄膜に活性化処理を施した接合膜３２０を有している。例文帳に追加

A joining base material 300 has a joining film 320 made by applying an activation treatment to a thin film including a siloxane bond and an elimination group. - 特許庁

この脱離した不純物を排気した後、スパッタにより基板６にフッ化物からなる薄膜を成膜する。例文帳に追加

After exhausting the removed impurities, the thin film including the fluoride is deposited on the substrate 6 by sputtering. - 特許庁

遠心成型後の無端膜や硬化膜を遠心成型用の型から容易に脱型することができる無端ベルト形成方法を提供する。例文帳に追加

To easily demold an endless film or a cured film after centrifugal molding from a centrifugal mold. - 特許庁

チャネル形成領域を含む半導体層を酸化物半導体膜とする薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体膜の純度を高め、不純物である水分などを低減する加熱処理（脱水化または脱水素化のための加熱処理）を行う。例文帳に追加

In a manufacturing method of a semiconductor device having the thin film transistor in which a semiconductor layer including a channel formation region is an oxide semiconductor film, heat treatment for improving the purity of the oxide semiconductor film and reducing moisture and the like which are impurities (heat treatment for dehydration or dehydrogenation) is performed. - 特許庁

羊膜を脱細胞化することにより、漿膜および羊膜を有する胎盤膜(好ましくはヒト胎盤膜)から、コラーゲンバイオ繊維を調製する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for preparing a collagen biofabric from a placental membrane (preferably human placental membrane) having a chorionic and amniotic membrane, by decellularizing the amniotic membrane. - 特許庁

容量素子として良好なリーク電流特性を得る為に、誘電体膜として成膜する金属酸化膜の膜中における酸素の欠乏を回避し、成膜用の液体材料中の有機成分を有効に離脱する。例文帳に追加

To obtain good leakage current characteristics for a capacitative element by avoiding oxygen deficiency in a metal oxide film formed as a dielectric film, and effectively separating organic components from a film-forming liquid material. - 特許庁

これにより、第４の金属膜１２ａ、１２ｂを成膜する際の有機樹脂膜７からの脱ガスを抑制することができ、第４の金属膜１２ａ、１２ｂの膜質変化を防止することが可能となり、上記課題が解決できる。例文帳に追加

Consequently, degassing from the organic resin film 7 when the 4th metal films 12a and 12b are formed can be suppressed to prevent film quality changes in the 4th metal films 12a and 12b. - 特許庁

アモルファス酸化シリコン層の脱水素処理の際に表面が酸化されず自然酸化膜が形成されない。例文帳に追加

A naturally oxidized film is not formed because the surface is not oxidized during the dehydrogenation process of the amorphous silicon oxide layer. - 特許庁

陰極板と陽極板との間に、複数のアニオン交換膜とカチオン交換膜とを交互に配列して濃縮室と脱塩室とを交互に形成してなる電気脱イオン装置において、電気脱イオン装置の部品数を減らして装置の簡素化、低コスト化、小型化を図ると共に、電気抵抗を著しく低減してエネルギー効率、脱イオン効率を高めた電気脱イオン装置を提供する。例文帳に追加

To attain simplification, cost reduction and miniaturization of an electric deionization device by reducing number of parts of the device and further to heighten energy efficiency and ionization efficiency by remarkably reducing electric resistance in the electric deionization device which is constituted by alternately forming a thickening chamber and a desalting chamber by alternately arranging a plurality of anion exchange membranes and cation exchange membranes between a cathode plate and an anode plate. - 特許庁

（ａ）動物ドナーから単離した強膜組織を脱水するステップ；及び（ｂ）ステップ（ａ）からの強膜組織に、架橋処理を施すステップを含む、強膜を透明化する方法、並びに該方法により透明化された強膜組織。例文帳に追加

A method for making sclera transparent includes a (a) step for dehydrating sclera tissues isolated from an animal donor and a (b) step for applying crosslinking processing to the sclera tissues from the step (a), and the sclera tissues are made transparent by the method. - 特許庁

また、低温で窒化膜成膜後に成膜温度より高い温度でアニールを行うことにより窒化膜中の水素を一旦脱離した後、高温工程を行うことでＳｉ−Ｈ結合の影響を抑制できる。例文帳に追加

Moreover, after releasing hydrogen in the nitride film by annealing at a temperature higher than the formation temperature of the nitride film following the formation of the nitride film at low temperature, it is possible to suppress the influence of Si-H bond by subjecting the sample to a high temperature treatment. - 特許庁

また、低温で窒化膜成膜後に成膜温度より高い温度でアニールを行うことにより窒化膜中の水素を一旦脱離した後、高温工程を行うことでＳｉ−Ｈ結合の影響を抑制できる。例文帳に追加

Alternatively, an influence of the Si-H bond can be suppressed by performing a high-temperature process after once removing hydrogen in the nitride film by effecting film-formation of the nitride film at a low temperature and then annealing at a higher temperature than the film-formation temperature. - 特許庁

脱離基を少なくとも一つ有する下記一般式（１）で表される化合物の前駆体を含有する有機半導体膜を形成後、該前駆体の脱離基を脱離することによって一般式（１）で表される化合物に変換することを特徴とする有機半導体膜。例文帳に追加

An organic semiconductor film containing the precursor of a compound represented by general formula (1) having at least one desorption group (in the formula, R_1-R_28 represent hydrogen atom or substituent) is formed, and then the desorption group is desorbed from the precursor thus transforming the compound as represented by general formula (1). - 特許庁

金属表面に形成される金属酸化物の被膜を還元反応により除去する金属酸化物被膜の除去液であって、アルカリ脱脂剤と還元剤とを含有する金属酸化物被膜の除去液を用いるものとした。例文帳に追加

As the solution for removing a metallic oxide film deposited on a metallic surface by reduction reaction, the one containing an alkali degreasing agent and a reducing agent is used. - 特許庁

各凹部５ａ，５ｂ内のシラノール３７を脱水縮合させてシリコン酸化膜８に転換し、凹部５ａをシリコン酸化膜８により埋め込むとともに凹部５ｂの底部から中間部までシリコン酸化膜８を設ける。例文帳に追加

The silanol 37 in the respective concave sections 5a and 5b is dehydrated and condensed, and converted into a silicon oxide film 8, and the silicon oxide film 8 is embedded in the concave section 5a, and the silicon oxide film 8 is formed from the bottom section to intermediate section of the concave section 5b. - 特許庁

電子回路上への正確なめっき析出の保証を可能とするような、酸化皮膜やインク残渣を強力に除去する酸性脱脂力と、酸性脱脂処理後の防錆力を具備する酸性脱脂剤を提供すること。例文帳に追加

To obtain an acidic degreasing agent having acidic degreasing force which strongly removes oxidized films and ink residues so as to secure the precise plating precipitation onto electronic circuits and rust preventing force after acidic degreasing treatment. - 特許庁

有機性汚泥を嫌気性処理する生物反応槽２に分離膜３を付設し、この分離膜により脱離液を分離する膜分離付嫌気性消化法において、分離膜３の膜面をオゾン処理することにより、膜流束の回復と難分解性有機物の低分子化を図る。例文帳に追加

In the anaerobic treatment method using membrane separation in which a separation membrane 3 is installed in a biological reaction tank 2 for subjecting the org. sludge to the anaerobic treatment and released liq. is separated by the separation membrane 3, the recovery of membrane flux and decreasing of the molecular weights of hardly decomposable org. matters are attained by treating the surface of membrane with ozone. - 特許庁

さらに電解質膜の他方の面に空気極を接合し、調光薄膜と空気極の間に電気回路を接続し、電解質膜を加熱すると、酸素イオンが電解質膜を透過して調光薄膜を脱水素化して、調光薄膜の反射率が変化する。例文帳に追加

An air electrode is joined to the other surface of the electrolyte membrane, an electric circuit is connected between the light modulation thin film and the air electrode, and when the electrolyte membrane is heated, an oxygen ion is transmitted through the electrolyte membrane, the light modulation thin film is dehydrogenated, and the reflectance of the light modulation film changes. - 特許庁

溶射膜の形成された成膜装置用部品において、成膜材料が付着し厚膜化しても剥離、脱落せず、従ってパーティクルを生じ難く、従って成膜装置のクリーニング間隔の長期間化を可能ならしめる成膜装置用部品およびその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide parts for a film forming device with a spray-coated film thereon which are free from peeling or drop even when a film forming material is adhered to increase the film thickness therefore free from generation of particles, and capable of increasing the cleaning interval of the film forming device, and also provide a method for manufacture thereof. - 特許庁

さらに電解質膜の他方の面に空気極を接合し、検知膜と空気極との間に電気回路を接続し、検知膜を水素化し、空気極側の空間に供給した酸素ガスをイオン化し、加熱された電解質膜を透過させて検知膜を脱水素化する。例文帳に追加

Further, an air pole is joined to the other side of the electrolyte membrane to connect an electric circuit across the sensor membrane and the air pole; the sensor membrane is hydrogenated; the oxygen gas supplied to the space on the side of the air pole is ionized and transmitted through the heated electrolyte membrane to dehydrogenate the sensor membrane. - 特許庁

本発明のクリヤ塗装ステンレス鋼板の製造方法は、２個のステンレス鋼板原板１１のコイルを接合し、次いで脱脂処理した後、化成処理液を塗布して化成処理塗膜１２を成膜し、化成処理塗膜１２の表面にクリヤ塗料を塗布してクリヤ塗膜１３を成膜する。例文帳に追加

The clear-coated stainless steel plate is manufactured by joining the coils of two stainless steel base plates 11, subsequently subjecting the joined coils to degreasing treatment, coating the degreased coils with a chemical treatment liquid to form the chemical treatment coated film 12 and coating the surface of the chemical treatment coated film 12 with clear coat to form the clear-coated film 13. - 特許庁

本発明は、気泡を脱泡して塗膜欠陥の発生を防止できるだけでなく、脱泡に伴う粘度変化を抑制して塗膜の厚み変動を防止できる技術を実現する。例文帳に追加

To provide a techique capable of preventing not only the generation of coating film defects by deaerating air bubbles but also the fluctuation of the thickness of the coating film by suppressing the change of viscosity caused by deaeration. - 特許庁

耐食性の優れたアルミニウム及び又はマグネシウムを、クロム化合物を用いない脱酸化膜で得る方法。例文帳に追加

METHOD FOR OBTAINING ALUMINUM AND/OR MAGNESIUM EXCELLENT IN CORROSION RESISTANCE BY REMOVING OXIDE FILM WITHOUT USING CHROMIUM COMPOUND - 特許庁