「脱膜化」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

脱水過程では、ポリアミド酸溶液を脱水閉環させてポリイミド化することでポリイミド薄膜を形成する。例文帳に追加

In the dehydration process, the polyamic acid solution is cyclodehydrated and polyimidated to form the polyimide thin-film. - 特許庁

硝化させた排水Ｄ_４を第２の脱窒槽37にて脱窒した後、ＭＦ膜槽41で膜分離して１次処理水Ｗ_１とする。例文帳に追加

Nitrified waste water D_4 is denitrified in a second denitrification tank 37, then membrane-separated in an MF membrane tub 41 and turned to primary treated water W_1. - 特許庁

窒化膜１２中に導入された水素ラジカル１４が塩素１３とが結合して塩化水素１５を生成し、塩化水素１５が窒化膜１２から離脱する。例文帳に追加

Hydrogen radicals 14 introduced into the nitride film 12 bond to chlorine 13 to produce hydrogen chloride 15 which leaves the nitride film 12. - 特許庁

多孔質ケイ酸塩膜の脱ヒドロキシル化およびアルキル化のための真空／気相反応器の提供。例文帳に追加

To provide a vacuum/gas phase reactor for dehydroxylating and alkylating a porous silicate film. - 特許庁

バイアスパワーを印加して成膜した窒化珪素膜から離脱する水素を適正に制御する半導体素子の窒化珪素膜、窒化珪素膜の製造方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a silicon nitride film of a semiconductor element in which hydrogen desorbed from a silicon nitride film deposited by applying a bias power is controlled properly, and to provide a method and an apparatus for producing the silicon nitride film. - 特許庁

ポリマ膜中の脱水酸基化処理方法及びそれを用いた光導波路例文帳に追加

METHOD FOR REMOVING HYDROXYL GROUP IN POLYMER FILM AND OPTICAL WAVEGUIDE BY USING THE SAME - 特許庁

窒化処理された高誘電体膜からの窒素原子の脱離を抑制する。例文帳に追加

To control desorption of the nitrogen atom from a nitrided high-dielectric film. - 特許庁

脱水素化された層間絶縁膜を含む半導体装置も提供される。例文帳に追加

The semiconductor device including a dehydrogenated inter-layer insulating film is also provided. - 特許庁

アモルファス酸化シリコン層の脱水素処理の際に表面が酸化されず自然酸化膜が形成されない。例文帳に追加

A naturally oxidized film is not formed because the surface is not oxidized during the dehydrogenation process of the amorphous silicon oxide layer. - 特許庁

羊膜を脱細胞化することにより、漿膜および羊膜を有する胎盤膜(好ましくはヒト胎盤膜)から、コラーゲンバイオ繊維を調製する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for preparing a collagen biofabric from a placental membrane (preferably human placental membrane) having a chorionic and amniotic membrane, by decellularizing the amniotic membrane. - 特許庁

染色された陽極酸化被膜を形成している脱色部の一部を、脱色剤溶液に浸漬する又は脱色部に脱色剤溶液を付着する。例文帳に追加

This decorating method includes the step of immersing one part of a decolorized part which forms one part of a dyed anodic oxide coating, into a solution of a decolorizing agent, or the step of making the decolorized part contact with the solution of the decolorizing agent. - 特許庁

膜貫通領域欠如型Ｎ−アセチルグルコサミン脱アセチル化酵素をコードするＤＮＡ例文帳に追加

DNA ENCODING TRANSMEMBRANE DOMAIN-LACKING TYPE N- ACETYLGLUCOSAMINE DEACETYLATION ENZYME - 特許庁

酸化物半導体膜を含むトランジスタにおいて、酸化物半導体膜に熱処理による脱水化または脱水素化を行うとともに、酸化物半導体膜と接するゲート絶縁膜として、酸素を含む絶縁膜、好ましくは、化学量論的組成比より酸素が多い領域を含むゲート絶縁膜を用いることで、該ゲート絶縁膜から酸化物半導体膜へ酸素を供給する。例文帳に追加

In a transistor including an oxide semiconductor film, dehydration or dehydrogenation is performed on the oxide semiconductor film through heat treatment and an insulation film including oxygen, preferably a gate insulation film including a region containing oxygen more than the stoichiometric composition ratio is used as a gate insulation film in contact with the oxide semiconductor film, whereby oxygen is supplied from the gate insulation film to the oxide semiconductor film. - 特許庁

耐食性の優れたアルミニウム及び又はマグネシウムを、クロム化合物を用いない脱酸化膜で得る方法。例文帳に追加

METHOD FOR OBTAINING ALUMINUM AND/OR MAGNESIUM EXCELLENT IN CORROSION RESISTANCE BY REMOVING OXIDE FILM WITHOUT USING CHROMIUM COMPOUND - 特許庁

この脱離した不純物を排気した後、スパッタにより基板６にフッ化物からなる薄膜を成膜する。例文帳に追加

After exhausting the removed impurities, the thin film including the fluoride is deposited on the substrate 6 by sputtering. - 特許庁

分離膜４は、含水素化合物、含水素化合物の脱水素反応で得られる脱水素化合物、及び水素を含む混合物から脱水素化合物及び水素を共に選択的に透過する無機材料から構成される膜である。例文帳に追加

The separation membrane 4 is a membrane comprising an inorganic material for selectively permeating both of hydrogen and the dehydrogenated compound which is obtained by a dehydrogenation reaction of the hydrogen-containing compound, from a mixture of the hydrogen-containing compound, the dehydrogenated compound and the hydrogen. - 特許庁

光触媒用酸化チタン膜２は減菌、脱臭、清浄作用に効果を発揮する。例文帳に追加

The titanium oxide layer for photo-catalyst shows the effect on the pasteurization, deodorization and cleanness. - 特許庁

特に、第1層間絶縁膜は脱水素化の後、200MPa以上の引張ストレスを有しうる。例文帳に追加

Particularly, after dehydrogenating the first inter-layer insulating film, a tensile stress of 200 MPa or more is exhibited. - 特許庁

膜脱気装置を効率的に洗浄して、経時による圧力損失の上昇、流量低下、脱気性能の低下や膜劣化を防止する。例文帳に追加

To provide a method for cleaning a membrane deaerator comprising efficiently cleaning a membrane deaerator and preventing increase in pressure loss, decrease in flow rate, reduction in deaeration performance and membrane deterioration with time. - 特許庁

また、脱水化または脱水素化処理が施された後に、酸化物絶縁膜が接して形成された酸化物半導体膜を利用することで、閾値の経時変化が抑制され、論理回路の信頼性を高められる。例文帳に追加

In addition, a change in a threshold voltage over time is suppressed and the reliability of a logic circuit can be improved by using an oxide semiconductor film which is formed when an oxide insulating film is in contact thereto after dehydration or dehydrogenation treatment. - 特許庁

酸化物半導体膜を有するボトムゲート構造のトランジスタの作製工程において、熱処理による脱水化または脱水素化処理、及び酸素ドープ処理を行う。例文帳に追加

In steps for manufacturing a bottom-gate structure transistor having an oxide semiconductor film, dehydration or dehydrogenation treatment by heat treatment, and oxygen doping treatment are performed. - 特許庁

酸化物半導体膜を有するボトムゲート構造のトランジスタの作製工程において、熱処理による脱水化または脱水素化処理、及び酸素ドープ処理を行う。例文帳に追加

A manufacturing process of a bottom gate structure transistor having an oxide semiconductor film comprises performing dehydration by heat treatment or a dehydrogenation treatment, and oxygen dope processing. - 特許庁

簡易な設備で含水素化合物と脱水素化合物とを分離することが可能な分離膜を提供する。例文帳に追加

To provide a separation membrane which allows a hydrogen-containing compound to be separated from a dehydrogenated compound in simple equipment. - 特許庁

ペーストの塗布後、脱泡剤によりペースト膜１１から泡を除去し、かつ膜１１を樹脂の自己硬化、熱硬化又は光硬化の作用により適度の硬めにする。例文帳に追加

After the paste is coated, the foams are removed from the paste membrane by the defoaming agent, then the membrane is self-cured, thermally cured or photo-cured to a proper hardness. - 特許庁

シリコン窒化酸化膜の形成方法は、（イ）表面を終端した水素原子が脱離しない雰囲気温度にて、シリコン層４０の表面を熱酸化することによって、シリコン酸化膜４２を形成する工程と、（ロ）得られたシリコン酸化膜４２を窒化処理することによって、シリコン窒化酸化膜４２Ａを得る工程から成る。例文帳に追加

The formation method includes (1) a step of forming a silicon oxide film 42 by thermally oxidizing a surface of a silicon layer 40 at an atmosphere temperature at which hydrogen atoms terminated on its surface are not detached, and (2) a step of obtaining a silicon nitride oxide film 42A by subjecting the obtained silicon oxide film 42 to a nitriding process. - 特許庁

分離膜４を備えることにより、脱水素化合物及び水素を共に選択的に透過させて含水素化合物、脱水素化合物、及び水素の熱力学平衡をシフトさせ、脱水素反応を促進させる。例文帳に追加

The thermodynamic equilibrium among the hydrogen-containing compound, the dehydrogenated compound and the hydrogen is shifted by the selective permeation of both of the dehydrogenated compound and the hydrogen through the separation membrane 4 to accelerate the dehydrogenation reaction. - 特許庁

１層目窒化膜２１の表面に残存する塩素３１とアニールガス３２とが反応し、反応生成物３３となり１層目窒化膜２１から離脱する。例文帳に追加

Chlorine 31 remaining on the surface of the first layer nitride film 21 reacts on the anneal gas 32 to produce reaction products 33 which leave the first layer nitride film 21. - 特許庁

電解質膜に欠陥部があると酸素ガスが一方の面へと漏洩して、欠陥部近傍の検知膜が脱水素化して電気抵抗が変化する。例文帳に追加

If the electrolyte membrane has a flaw part, the oxygen gas is leaked to one side of the electrolyte membrane and the sensor membrane in the vicinity of the flaw part is dehydrogenated to be changed in its electric resistance. - 特許庁

加工後やアルカリ脱脂後にも化成皮膜が優れた耐食性，密着性を維持する化成処理鋼板を提供する。例文帳に追加

To provide a chemically-treated steel sheet in which a chemical film maintains excellent corrosion resistance and adhesion even after working and alkali degreasing. - 特許庁

チャネル形成領域を含む半導体層を酸化物半導体膜とする薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体膜の純度を高め、不純物である水分などを低減する加熱処理（脱水化または脱水素化のための加熱処理）を行う。例文帳に追加

In a manufacturing method of a semiconductor device having the thin film transistor in which a semiconductor layer including a channel formation region is an oxide semiconductor film, heat treatment for improving the purity of the oxide semiconductor film and reducing moisture and the like which are impurities (heat treatment for dehydration or dehydrogenation) is performed. - 特許庁

気体透過能を有する均質膜と、該均質膜を支持する多孔質支持層とを有する脱気用複合中空糸膜において、酸化防止剤量が０.００５質量％以下であることを特徴とする脱気用複合中空糸膜。例文帳に追加

The degassing hollow fiber membrane includes a homogeneous membrane having gas permeability, and a porous support layer supporting the homogeneous membrane, wherein the amount of an oxidation inhibitor is ≤0.005 mass%. - 特許庁

こうしてこの成膜装置では、ガラス基板上にアモルファスシリコン膜を形成する工程と、アモルファスシリコン膜の脱水素工程と、アモルファスシリコン膜のポリ化工程と、を行うことができる。例文帳に追加

Then the film forming apparatus may include a step of forming an amorphous silicon film on the glass substrate, a dehydrogenation step of the amorphous silicon film, and a polycrystalization step of the amorphous silicon film. - 特許庁

また、低温で窒化膜成膜後に成膜温度より高い温度でアニールを行うことにより窒化膜中の水素を一旦脱離した後、高温工程を行うことでＳｉ−Ｈ結合の影響を抑制できる。例文帳に追加

Alternatively, an influence of the Si-H bond can be suppressed by performing a high-temperature process after once removing hydrogen in the nitride film by effecting film-formation of the nitride film at a low temperature and then annealing at a higher temperature than the film-formation temperature. - 特許庁

接合基材３００はシロキサン結合と脱離基とを含む薄膜に活性化処理を施した接合膜３２０を有している。例文帳に追加

A joining base material 300 has a joining film 320 made by applying an activation treatment to a thin film including a siloxane bond and an elimination group. - 特許庁

遠心成型後の無端膜や硬化膜を遠心成型用の型から容易に脱型することができる無端ベルト形成方法を提供する。例文帳に追加

To easily demold an endless film or a cured film after centrifugal molding from a centrifugal mold. - 特許庁

これにより、ベース膜６０内の水素原子が気相中へと脱離し、同膜６０内の炭素原子の活性化率が向上する。例文帳に追加

Thus, hydrogen atoms in the base film 60 are desorbed in the gas phase and the activation efficiency of the carbon atoms in the film 60 can be enhanced. - 特許庁

本発明は、気泡を脱泡して塗膜欠陥の発生を防止できるだけでなく、脱泡に伴う粘度変化を抑制して塗膜の厚み変動を防止できる技術を実現する。例文帳に追加

To provide a techique capable of preventing not only the generation of coating film defects by deaerating air bubbles but also the fluctuation of the thickness of the coating film by suppressing the change of viscosity caused by deaeration. - 特許庁

容量素子として良好なリーク電流特性を得る為に、誘電体膜として成膜する金属酸化膜の膜中における酸素の欠乏を回避し、成膜用の液体材料中の有機成分を有効に離脱する。例文帳に追加

To obtain good leakage current characteristics for a capacitative element by avoiding oxygen deficiency in a metal oxide film formed as a dielectric film, and effectively separating organic components from a film-forming liquid material. - 特許庁

その際、あらかじめ低温シリコン酸化膜Ｗａが脱ガス処理されているので、減圧加熱を施しても低温シリコン酸化膜Ｗａからはほとんどガスが発生しない。例文帳に追加

Degassing treatment is applied to the low-temperature silicon oxide film Wa, which hardly generates gas. - 特許庁

さらに電解質膜の他方の面に空気極を接合し、検知膜と空気極との間に電気回路を接続し、検知膜を水素化し、空気極側の空間に供給した酸素ガスをイオン化し、加熱された電解質膜を透過させて検知膜を脱水素化する。例文帳に追加

Further, an air pole is joined to the other side of the electrolyte membrane to connect an electric circuit across the sensor membrane and the air pole; the sensor membrane is hydrogenated; the oxygen gas supplied to the space on the side of the air pole is ionized and transmitted through the heated electrolyte membrane to dehydrogenate the sensor membrane. - 特許庁

さらに電解質膜の他方の面に空気極を接合し、調光薄膜と空気極の間に電気回路を接続し、電解質膜を加熱すると、酸素イオンが電解質膜を透過して調光薄膜を脱水素化して、調光薄膜の反射率が変化する。例文帳に追加

An air electrode is joined to the other surface of the electrolyte membrane, an electric circuit is connected between the light modulation thin film and the air electrode, and when the electrolyte membrane is heated, an oxygen ion is transmitted through the electrolyte membrane, the light modulation thin film is dehydrogenated, and the reflectance of the light modulation film changes. - 特許庁

溶射膜の形成された成膜装置用部品において、成膜材料が付着し厚膜化しても剥離、脱落せず、従ってパーティクルを生じ難く、従って成膜装置のクリーニング間隔の長期間化を可能ならしめる成膜装置用部品およびその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide parts for a film forming device with a spray-coated film thereon which are free from peeling or drop even when a film forming material is adhered to increase the film thickness therefore free from generation of particles, and capable of increasing the cleaning interval of the film forming device, and also provide a method for manufacture thereof. - 特許庁

脱離反応によるコーティング膜形成まで化学吸着分子の加水分解を抑制できるコーティング膜の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a production method of coating film which suppresses hydrolysis of chemical adsorption molecule until the coating film is formed by an elimination reaction. - 特許庁

有機物含有水をｐＨ４〜６に調整した後、膜脱気装置１で脱ガス処理し、その後反応塔２でオゾン酸化分解処理する。例文帳に追加

Organic matter-containing water the pH of which is adjusted to 4-6 is subjected to degassing treatment in a degassing treatment apparatus 1 before subjected to ozone oxidizing decomposition treatment in a reaction tower. - 特許庁

シロキサンポリマー（Ａ）と、熱の作用により脱水または脱アルコール反応を生じさせる化合物（Ｂ）と、を含有してなるシリカ系被膜形成用組成物である。例文帳に追加

The composition for forming the silica-based film comprises a siloxane polymer (A) and a compound (B) that causes a dehydration or dealcoholation reaction by an action of heat. - 特許庁