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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 脱膜化の意味・解説 > 脱膜化に関連した英語例文

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脱膜化の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 454



例文

簡易な設備で含水素合物と水素合物とを分離することが可能な分離を提供する。例文帳に追加

To provide a separation membrane which allows a hydrogen-containing compound to be separated from a dehydrogenated compound in simple equipment. - 特許庁

結果として、モリブデン板表面から離(気)した高品質のモリブデン酸502がシリコン基板501上に堆積される。例文帳に追加

As a result, the molybdenum oxide film 502 of high quality desorbed (vaporized) from the surface of the molybdenum plate is deposited on the silicon substrate 501. - 特許庁

加工後やアルカリ脂後にも成皮が優れた耐食性,密着性を維持する成処理鋼板を提供する。例文帳に追加

To provide a chemically-treated steel sheet in which a chemical film maintains excellent corrosion resistance and adhesion even after working and alkali degreasing. - 特許庁

置換基合物の製造方法、顔料微粒子の製造方法、フタロシアニン合物の製造方法、および薄の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING SUBSTITUENT-ELIMINATED COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING PIGMENT FINE PARTICLE, METHOD FOR PRODUCING PHTHALOCYANINE COMPOUND, AND METHOD FOR PRODUCING THIN FILM - 特許庁

例文

グリセロール水素酵素が光架橋性樹脂層を有する被固定部材に固定されてなることを特徴とする、タンパク質固定例文帳に追加

The protein-immobilized membrane is characterized by comprising glycerol dehydrogenase fixed to a component to be immobilized which has a photocrosslinkable resin layer. - 特許庁


例文

また、ガス窒処理後電解処理を施してから、アノード酸処理により干渉色を発色させることを特徴とする。例文帳に追加

The manufacturing method also comprises: gas-nitriding the material; then, electrolytically removing the nitrided film; and anodizing it to make the material present the interference color. - 特許庁

離ガスの変に対応して活性層製中に添加するp型あるいはn型の元素をセル毎に変させる。例文帳に追加

A p-type or n-type element to be added in the thin-film formation of an active layer is changed for every cell in correspondence with the change of the desorbed gas. - 特許庁

こうしてこの成装置では、ガラス基板上にアモルファスシリコンを形成する工程と、アモルファスシリコン水素工程と、アモルファスシリコンのポリ工程と、を行うことができる。例文帳に追加

Then the film forming apparatus may include a step of forming an amorphous silicon film on the glass substrate, a dehydrogenation step of the amorphous silicon film, and a polycrystalization step of the amorphous silicon film. - 特許庁

溶剤ダメージによる支持体の品質劣を防止でき、無機中の支持体からのガスの発生を抑制することができ、これにより、高品質の無機を成することができる機能性フィルムの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a functional film to prevent the quality of a support from being degraded due to solvent damage, and prevent degassing from the support during forming an inorganic film, thereby forming a high-quality inorganic film. - 特許庁

例文

第2保護(分離)形成までの工程を増やすことなく、第1保護(平坦)の水処理時間を低減し生産性の高い有機ELパネル及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an organic EL panel with high productivity by reducing dehydration treatment time of a first protective film (flattened film) without increasing processes up to formation of a second protective film (separating film). - 特許庁

例文

低誘電率の有機高分子材料を含む被処理基体上に、金属系を成する際の、有機高分子材料からのガスに起因する金属系の汚染や成形状の劣等を防止する。例文帳に追加

To prevent contamination of a metal-based film, deterioration of a film-forming shape, or the like that are caused by degassing from an organic macromolecule material, when the metal-based film is formed on a substrate to be treated which contains the organic macromolecule material having low dielectric constant. - 特許庁

耐塩素性の低い透過においても、透過の劣による除去率や塩率の低下を引き起こすことなく、微生物の増殖による透過の汚染を防止し、効率良く分離を行う。例文帳に追加

To efficiently perform membrane separation using even a permeable membrane of low chlorine resistance by preventing the contamination of the permeable membrane due to the growth of microbes without causing the decline of a removal rate and a desalination rate due to the degradation of the permeable membrane. - 特許庁

物半導体を有するボトムゲート構造のトランジスタの作製工程において、熱処理によるまたは水素処理、及び酸素ドープ処理を行う。例文帳に追加

A manufacturing process of a bottom gate structure transistor having an oxide semiconductor film comprises performing dehydration by heat treatment or a dehydrogenation treatment, and oxygen dope processing. - 特許庁

物半導体を有するボトムゲート構造のトランジスタの作製工程において、熱処理によるまたは水素処理、及び酸素ドープ処理を行う。例文帳に追加

In steps for manufacturing a bottom-gate structure transistor having an oxide semiconductor film, dehydration or dehydrogenation treatment by heat treatment, and oxygen doping treatment are performed. - 特許庁

(亜)硝酸性窒素と多価無機イオンとを含有する排水を分離装置で濃縮し、濃縮水を生物学的窒装置で窒処理するに当たり、分離装置における多価無機イオンの不溶によるスケール及びそれによる分離装置の処理水量及び処理水質が低下を防止する。例文帳に追加

To prevent scale formation due to insolubilization of polyvalent inorganic ions in a membrane separator and deterioration of quantity and quality of water treated with the membrane separator due to the scale formation when nitrite/nitrate nitrogen and multiply-charged inorganic ion-containing wastewater is concentrated by the membrane separator and the concentrate is denitrified by a biological denitrification device. - 特許庁

不純物を含有する糖液を濾過した後、色し、その後塩処理することにより精製する装置であって、塩手段の前段で色度成分やその他の不純物を高度に除去することができ、従って、その後段の塩手段の負荷を軽減して、塩手段の小型ないし多様、更には長寿命を図る。例文帳に追加

To provide an apparatus for purifying a sugar liquid capable of highly removing coloring components and other impurities on a stage preceding a desalting means, thereby capable of reducing the load on the successive desalting means, and enabling downsizing and diversification of the desalting means, and further long service life by subjecting an impurity-containing sugar liquid to a desalting means after it has been treated by a membrane filtration and subsequently by a decoloring process. - 特許庁

および漿を有する胎盤からコラーゲンバイオ繊維を調製する方法であって、(a)羊を漿から分離するステップ;および(b)該羊を酵素と接触させないように該羊細胞(decellularize)するステップ、を含む、上記方法。例文帳に追加

There is provided a method for preparing a collagen biofabric from a placental membrane having a chorionic and amniotic membrane, wherein the method comprises (a) a step for isolating the amniotic membrane from the chorionic membrane; and (b) a step for decellularizing the amniotic membrane not to contact the amniotic membrane to the enzyme. - 特許庁

現像廃液から水酸テトラアルキルアンモニウム(TAAH)溶液を回収精製する回収精製処理装置、TAAH溶液から泡する泡処理装置、および、泡されたTAAH溶液から不純物微粒子を除去する濾過処理装置をこの順序で配置し、現像廃液からの再生現像液の回収再利用装置を構成する。例文帳に追加

A recovery and purification unit which recovers and purifies a tetraalkylammonium hydroxide(TAAH) solution from a used developer, a degassing and defoaming unit which degasses and defoams the TAAH solution and a filter membrane treatment unit which removes fine impurity particles from the degassed and defoamed TAAH solution are successively arranged in this order to assemble the objective apparatus for recovering and reutilizing a regenerated developer from a used developer. - 特許庁

後段で逆浸透処理やイオン処理を行う際に、逆浸透装置やイオン装置の酸剤による劣及び濁質による閉塞を長期間防止することができる酸剤含有水の処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a treatment method of oxidizer-containing water, capable of preventing, when reverse osmosis membrane treatment or deionization treatment is performed in the latter stage, deterioration due to oxidizer and clogging due to suspension of a reverse osmosis membrane device or deionization device for a long period of time. - 特許庁

微生物による含硫複素環式硫黄合物の硫反応において、最終生成物による阻害作用や、含硫複素環式硫黄合物の菌体透過における障害を解消し、硫率の向上を可能にすること。例文帳に追加

To eliminate inhibitory actions with the final product or trouble in permeation of a sulfur-containing heterocyclic sulfur compound through a microbial cell membrane and to improve the desulfurization ratio in a desulfurization reaction of the sulfur-containing heterocyclic sulfur compound with a microorganism. - 特許庁

有機アジド合物を含有するを光照射して下記式で示されるような反応により窒素し、アゾ結合を有する合物に変換することにより気体選択透過性とする。例文帳に追加

The membrane for permeating the gas selectively is obtained by denitrifying an organic azide compound according to the reaction shown by the expression by irradiating an original membrane containing the organic azide compound with light and converting the denitrified organic azide compound into a compound having an azo bond. - 特許庁

ペーストの塗布後、泡剤によりペースト11から泡を除去し、かつ11を樹脂の自己硬、熱硬又は光硬の作用により適度の硬めにする。例文帳に追加

After the paste is coated, the foams are removed from the paste membrane by the defoaming agent, then the membrane is self-cured, thermally cured or photo-cured to a proper hardness. - 特許庁

このため、エピタキシャル基体の窒物表面近傍からの窒素原子の離が生じず、エピタキシャルへの欠陥導入が抑制される。例文帳に追加

Therefore, nitrogen atoms are not desorbed from the vicinity of the nitride surface of the epitaxial substrate, thus suppressing the introduction of defects into the epitaxial film. - 特許庁

非耐熱性基板に悪影響を及ぼすことなしに、レーザー耐性を有する非晶質シリコンを形成するための水素処理を提供すること。例文帳に追加

To provide a dehydrogenation treatment for forming an amorphous silicon film having laser resistance without adversely influencing a non-heat-resistant substrate. - 特許庁

好ましい例として、電気学的に離性の物質にヨウ素、金属基板に金を用いて、難溶性分子フラーレンの超薄が作製できる。例文帳に追加

As a preferable example, the thin film of hardly soluble fullerene is formed by using iodine as the electrochemically releasable material and gold as the metallic substrate. - 特許庁

充分な着色速度と透過率変、および消色時の透明性を有するフォトクロミック重合体を提供すること。例文帳に追加

To prepare a photochromic polymer film showing sufficient coloring and decoloring velocities, a sufficient transmission change, and transparency during decoloration. - 特許庁

置換基合物とそれから得られる有機半導体材料、それを用いた有機電子デバイス、有機薄トランジスタおよびディスプレイ装置例文帳に追加

LEAVING SUBSTITUENT-CONTAINING COMPOUND, ORGANIC SEMICONDUCTOR MATERIAL FORMED THEREFROM, ORGANIC ELECTRONIC DEVICE, ORGANIC THIN-FILM TRANSISTOR, AND DISPLAY DEVICE USING THE SAME - 特許庁

内圧の変は、外側3の一部に設けた中空のチューブを経由して、駆動ポンプにより内容物を送することにより行う。例文帳に追加

The change of the internal pressure is performed by sending and removing the content by the drive pump through a hollow tube provided in a part of an outside membrane 3. - 特許庁

このとき、酸シリコン20中の水素が離してトランジスタTRのチャンネル部に拡散し、界面準位を低減する。例文帳に追加

At this time, hydrogen in the silicon oxide film 20 is released and dispersed in a channel part of the transistor TR, and the interface state is reduced. - 特許庁

を使用せずとも海水から高度にされた淡水を得る方法及び装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for obtaining highly desalted fresh water from seawater without using a diaphragm, and an apparatus therefor. - 特許庁

金属端子2をアルカリ水溶液に浸漬することにより、金属端子2の外周面の脂・酸除去を行う。例文帳に追加

Degrease and the removal of an oxide film on the outer circumference of the metallic terminal 2 are conducted by dipping the metallic terminal 2 in an alkali aqueous solution. - 特許庁

工程(e)は、エッチングを行いながら、当該エッチングにより離した窒7またはキャップ層6の材質を検出する。例文帳に追加

The step (e) is used to detect the material of the nitride film 7 or the cap layer 6 separated by the etching while executing the etching. - 特許庁

これにより、層間絶縁6の内部に含まれる水分が離され、ウエハ状態で長期間保存しても絶縁劣のおそれがなくなる。例文帳に追加

Thereby, water contained inside the layer insulation film 6 can be removed and possibility of insulation deterioration is eliminated even in long-term storage in wafer state. - 特許庁

UV光源、炉アニールなどの方法によらずに、半導体薄水素を実現する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for realizing a dehydrogenation of a semiconductor thin film not according to a method such as a UV light source, furnace annealing or the like. - 特許庁

炭素繊維強炭素複合材の表面に金属皮を形成して炭素繊維の落を防止する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for preventing dropout of a carbon fiber while forming a metallic film on the surface of a carbon fiber-reinforced carbon composite material. - 特許庁

ゲート酸形成工程の降温時に、ウェット雰囲気を維持したまま、終端・離温度(650〜850℃)以下まで降温させる。例文帳に追加

In the lowering of a temperature of a gate oxide film formation process, the temperature is lowered to not higher than a termination/desorption temperature (650 to 850°C) while maintaining a wet atmosphere. - 特許庁

ダイカスト装置18を構成する射出スリーブ30の射出端面36に、酸トラップ部材38が着自在に装着される。例文帳に追加

An oxidized film trap member 38 is attachably/detachably mounted to an injection end face 36 of an injection sleeve 30 constituting a die cast device 18. - 特許庁

容易に型でき、高精度の薄シートが得られる硬性液状樹脂組成物の成形方法を提供することを目的とする例文帳に追加

To provide a method for molding a curable liquid resin composition, in which a high-precision thin sheet to be released easily from a die is obtained. - 特許庁

ゲート酸形成工程の降温時に、ウェット雰囲気を維持したまま、終端・離温度(650〜850℃)以下まで降温させる。例文帳に追加

In the silicon carbide semiconductor device, during temperature drop in a gate oxide film forming process, the temperature is dropped to termination or elimination temperature not above 650-850°C while maintaining a wet atmosphere. - 特許庁

ゲート酸形成工程の降温時に、ウェット雰囲気を維持したまま、終端・離温度(800〜900℃)以下まで降温させる。例文帳に追加

In the silicon carbide semiconductor device, during temperature drop in a gate oxide film forming process, the temperature is dropped to termination or elimination temperature not above 800-900°C while maintaining a wet atmosphere. - 特許庁

水剤は、ペレットされた若しくは細粒のバルク物質または支持体上、若しくは支持体の細孔内の皮の形態であってよい。例文帳に追加

The desiccant may be a pelletized or finely granulated bulk substance and may be deposited on a support or a coating film formed in fine pores of a support. - 特許庁

ろ過装置で発生した懸濁液の固形分を容易に水処理し、固形する技術を提供すること。例文帳に追加

To provide a technology of easily dewatering solid content of slurry generated in a membrane filtering device and solidifying the dewatered solid content, and a technology of efficiently treating raw water by reusing precoat liquid. - 特許庁

12を透過した水は、配管13を介して晶析塔14へ導入されリンの晶析処理が行われ、リン処理水の一部が消槽5へ返送される。例文帳に追加

A part of the dephosphorized water is returned to the digestion tank 5. - 特許庁

ゲート酸形成工程の降温時に、ウェット雰囲気を維持したまま、終端・離温度(800〜900℃)以下まで降温させる。例文帳に追加

During the time of heat reduction in a gate oxide film forming step, heat is made to drop down to below the termination/regeneration temperature (800 to 900°C) while wet atmosphere is maintained. - 特許庁

第2工程と前記第3工程との間の(d)では、前記シリコン酸122に対してガス処理を行う。例文帳に追加

In the step (d) between the second and third steps, the silicon oxide film 122 in degasfied. - 特許庁

酸素を使用しない構成としたため、界面活性剤を混ぜた洗浄液を用いても、洗浄装置1が劣しない。例文帳に追加

This cleaning device 1 does not deteriorate, through the washing liquid mixed with the surface active agent is used, since this device has a structure not using a de-oxygen membrane. - 特許庁

列状分子空げきや金表面原子層の落に伴うピットなどの欠陥の少ない自己組織単分子を製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a self-organizing monomolecular film having reduced columnar molecular voids and pits caused by the falling of a gold surface atomic layer. - 特許庁

アルミニウムを主成分とする基材の表面を脂する脂工程と、基材の表面に熱水処理により酸を形成する酸形成工程と、前記酸の上層に、金属塩を用いて成処理を行う成工程と、を有することを特徴とするアルミニウム系基材の表面処理方法。例文帳に追加

The surface treatment method of the aluminum-based material comprises a degreasing step of degreasing a surface of a base material mainly consisting of aluminum, an oxide film forming step of forming an oxide film on the surface of the base material through hot water treatment, and a chemical conversion step of performing the chemical conversion on an upper layer of the oxide film by using a metallic salt. - 特許庁

あるいは、揮発性ガスを2原子%以上含有した薄にパルス幅が60ナノ秒以上のエキシマレーザーを照射し、薄内の揮発性ガスをガスすると同時に薄を結晶する。例文帳に追加

Alternatively, a thin film containing 2 atm.% or more of volatile gas is irradiated with excimer laser having pulse width of 60 nS or longer thus degassing the thin film while crystallizing. - 特許庁

例文

プラズマ耐性の高いイットリアを含む材料でコーティングを形成した場合でも、イットリア粒子の粒やクラックなどによるコーティングの劣を抑えることができる保護を提供する。例文帳に追加

To provide protective film which, even when coating film is formed with a material containing highly plasma resistant yttria, can restrain the coating film from being degraded by shedding of or cracks in yttria particles. - 特許庁

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