「電子顕微鏡試料」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

透過型電子顕微鏡に用いられる試料保持用のメッシュ１３において、前記メッシュの一部（第１のメッシュ１３−１）が分離し、当該一部が、分離後に残った部分（第２のメッシュ１３−２）と脱着可能な形態とすることにより、測定中、試料の先端を崩さずに、精度の高い元素分析を行なう。例文帳に追加

The sample holding mesh 13 used for a transmission electron microscope has a separable part (a primary mesh 13-1) and this part is made to be detachable from the remaining part (a secondary mesh 13-2) after separation so that it may not break a tip of the sample during measurement and precise elemental analysis can be performed. - 特許庁

仕事関数測定装置１００Ａは、光電子分光法により求められた標準試料３Ａの各領域の既知の仕事関数値と、導電性カンチレバー１Ａを有する走査型ケルビンフォース顕微鏡により計測された標準試料３Ａの各領域の表面電位値とから、導電性カンチレバー１Ａの深針２Ａの仕事関数を算出する。例文帳に追加

The work function measuring instrument 100A is constituted so as to calculate the work function of the probe 2A of a conductive cantilever 1A from the known work function value of each region of a standard sample 3A calculated by photoelectron spectroscopy and the surface potential value of each region of the standard sample 3A measured by a scanning Kelvin force microscope having the conductive cantilever 1A. - 特許庁

試料ホルダーは、先端部に、試料支持用カートリッジ５７が着脱可能に構成されたカートリッジ支持体５１を有し、ホルダー駆動機構５２によって、電子顕微鏡の鏡体及び集束イオンビーム装置の加工室に取り付けたり、該鏡体及び加工室から外したり出来るようになっているホルダー本体５０と、ホルダー駆動機構５２から成る。例文帳に追加

This sample holder provided with a cartridge supporting body 51 arranged at the tip and constructed for allowing attachment/detachment of the sample supporting cartridge 51 to it is constructed of a holder main body 50 attached removably to a mirror body in an electronic microscope or a processing chamber in a focused ion beam device by means of a holder driving mechanism 52 and the holder driving mechanism 52. - 特許庁

電子分光器を備えた電子顕微鏡の電子エネルギー損失スペクトル像の補正システムであって、基準スペクトル像に含まれる基準位置のスペクトル及び基準位置以外のスペクトルの相違点に基き、分析対象試料のエネルギー損失スペクトル像の各測定位置のスペクトルを補正することを特徴とする補正システム。例文帳に追加

A system for correcting electron energy-loss spectral images of the electron microscope provided with an electron spectrometer corrects spectra of electron energy-loss spectral images of a sample to be analyzed at each measuring position on the basis of differences between spectra at a reference position included in a reference spectral image and spectra except the reference position. - 特許庁

電子顕微鏡の観察用試料作製用マスクは、観察対象領域１３Ａを有する半導体基板１１上に、観察対象領域１３を電子線が透過できる厚みに相当する幅Ｗ１で形成された第１マスク１３と、半導体基板１１上に、少なくともその一部が第１マスク１３よりも大きい幅Ｗ２で形成された第２マスク１４とを具備している。例文帳に追加

The mask for manufacturing the observation mask of the electron microscope is provided with a first mask 13 formed on a semiconductor substrate 11 with the observed region 13A and having a width W1 corresponding to a thickness for transmitting an electron beam through the observed region 13 and a second mask 14 formed on the semiconductor substrate 11 and having a width W2 partially larger than the first mask 13. - 特許庁

上述の手法で検知されるＸ線は、概ね、観察試料支持部材内での入射電子の拡散範囲内の領域から放出されることとなり、当該入射電子の拡散範囲を数ｎｍ程度に制御すれば、得られる走査型Ｘ線顕微鏡像の分解能は、従来の手法の理論的限界とされていた１０ｎｍ以下とすることが可能となる。例文帳に追加

The X-ray detected by the method described above is discharged mostly from the region within the diffusion range of the incident electron in the observation sample support member, and if the diffusion range of the incident electron is controlled to about a few nm, the resolution of the scanning X-ray microscope can be not more than 10 nm which has been considered to be the theoretical limit by the conventional method. - 特許庁

基本的な電子顕微鏡本体に加え、ホログラフィ観察において要求する空間分解能を入力する手段と、入力された値及び装置固有のパラメータから要求された空間分解能を実現する電子線バイプリズム及び試料位置を算出するための計算装置及び、得られた計算結果を実現するためのこれら二つの位置を移動させる機構を設ける。例文帳に追加

In addition to a basic electron microscope, this device comprises means for inputting a required space resolution in a holography observation, a calculating device for calculating an electron beam bi-prism and a specimen position for realizing a required space resolution from an input value and a parameter unique to the device, and a mechanism for moving these two positions for realizing the found calculation results. - 特許庁

被測定体を搭載する電子顕微鏡用の試料ホルダ１０において、前記被測定体に照射される電子線が通過可能な開口２８、２８’を有する筐体１６と、前記筐体１６の内部に設けられ、前記被測定体から離脱した元素の位置および飛行時間を測定する検出手段とを有する。例文帳に追加

The sample holder 10 for an electron microscope loaded with a measuring target has a housing 16 having openings 28 and 28' permitting the electron beam applied to the measuring target and the detection means provided in the housing 16 to measure the position and flight time of the element dissociated from the measuring target. - 特許庁

電子線を走査して発生する二次荷電粒子の検出信号に基づいて試料のパターン上の欠陥を検出する電子顕微鏡を用いた検査装置において、ＡＤＣ機能で得られた情報を検査／非検査領域という形で検査機能にフィードバックさせ、検査性能、ＡＤＣ性能の向上を図る機能を備える。例文帳に追加

In the inspection apparatus using an electron microscope which senses the defects present on the pattern of a sample based on the sensed signal of secondary charged particles generated by a scanning electron beam, there is provided such a function that the informations obtained by its ADC function are so fed back to its inspection function in the form of an inspection/non-inspection region as to improve its inspection and ADC performances. - 特許庁

電子カメラ１４の撮像素子１６から出力される画像信号から得られる１フレーム毎のフレーム画像データに基づいてフォーカス評価回路２５により顕微鏡本体１における試料２に対するフォーカス評価値を求め、このフォーカス評価値に基づいてＡＦ装置２０によって焦準ハンドル４を回転させて合焦点を得る。例文帳に追加

A focus evaluation value for a sample 2 in a microscope body 1 is obtained by a focus evaluation circuit 25 based on the frame image data of every frame obtained from the image signal outputted from the imaging device 16 of an electronic camera 14, and a focusing handle 4 is rotated to obtain a focusing point by an AF device 20 based on the focus evaluation value. - 特許庁

半導体デバイス検査装置１は、半導体デバイス（試料Ｓ）をセットする真空チャンバー１１内に配設されたステージ１４１と、半導体デバイスを切削するフェムト秒レーザビームＦＳＬＢを生成するフェムト秒レーザ装置１２と、当該レーザビームにより切削した半導体デバイスの切削面Ｗを観察する電子顕微鏡（ＳＥＭ１７）とを備えている。例文帳に追加

This semiconductor device inspection apparatus 1 is equipped with a stage 141 disposed in a vacuum chamber 11 for setting the semiconductor device (sample S), a femto-second laser device 12 for generating a femto-second laser beam FSLB for cutting the semiconductor device, and a scanning electron microscope (SEM 17) for observing the cut face W of the semiconductor device cut by the laser beam. - 特許庁

透過型電子顕微鏡用の試料の作製方法において、半導体デバイスの特定箇所の観察断面に非晶質構造の保護膜を形成する工程と；前記保護膜が形成された観察断面の周囲を除去する工程と；少なくとも前記保護膜を含む領域を薄膜化する工程とを含むことを特徴とする。例文帳に追加

This manufacturing method of a sample for a transmission type electron microscope includes a process for forming a protective film of an amorphous structure to the observation cross section of the specific place of a semiconductor device, a process for removing the periphery of the observation cross section to which the protective film is formed and a process for forming the region containing the protective film into a thin film state. - 特許庁

本発明の二方向蛍光測光多光子励起レーザ顕微鏡は、試料を乗せるステージの上下から蛍光を集光して、上下に設けた２つの光センサ（光電子倍増管等）１２０および１７０により電気信号に変換し、レーザ走査制御・画像処理装置１８０により上下２つの光センサからの電気信号を加算している。例文帳に追加

For this microscope, fluorescent light is condensed from the upper and the lower parts of a stage on which a sample is placed, converted into an electric signal by two optical sensors (photomultiplier, etc.), 120 and 170 provided above and below, and the electric signals from the two above and below optical sensors are added by a device 180 for laser scanning control and image processing. - 特許庁

即ち、支持体上に、不飽和結合を有する色素およびポリマーを含む光熱変換層と、画像形成層とを有する熱転写シートにおいて、酸化オスミウムにより不飽和結合を有する色素を選択的に染色させた光熱変換層を包埋樹脂により包埋した試料の薄切断面を透過型電子顕微鏡にて直接観察し、得られた該透過型電子顕微鏡による光熱変換層の観察画像の白黒の反射光学濃度を測定したときに、該反射光学濃度の分布が下記式（Ａ）（ＯＤ_ｍａｘ−ＯＤ_ｍｉｎ）／ＯＤ_ｍａｘ×１００≦５０を満足する光熱変換層を有することを特徴とする熱転写シート。例文帳に追加

In the thermal transfer sheet having the photothermal conversion layer containing a dye having an unsaturated bond and a polymer, and an imaging layer on a support, the slice cross-section of a sample where the photothermal conversion layer containing a dye having an unsaturated bond and being dyed by osmium oxide is buried in resin is observed directly by means of a transmission electron microscope. - 特許庁