「露積」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

各ピクセル２３ｂで非露光部６７の面積を算出し、最小面積を求める。例文帳に追加

For each of pixels 23b, the area of a non-exposure part 67 is calculated and a minimum area is found. - 特許庁

保護板２４は、集積ホイール１７の露出部分に位置し、集積ホイール１７を保護している。例文帳に追加

A protecting board 24 is positioned at the exposed part of an accumulation wheel 17, and protects the accumulation wheel 17. - 特許庁

画像情報に基いて露光手段１００の１画素あたりの露光面積を制御する露光面積制御手段３５と、参照用トナー画像形成時において、通常画像形成時よりも露光手段１００の露光強度を小さくして露光面積を大きくするように露光量を切り替える切替手段７２と、を有する。例文帳に追加

Image forming apparatus includes: an exposure area control means 35 for controlling exposure area per pixel of an exposure means 100 based on image information; and a switching means 72 for switching a quantity of exposure during reference toner image formation so that the exposure intensity of the exposure means 100 is decreased compared to that in regular image formation, thereby increasing the exposure area. - 特許庁

パルス間隔制御を用いて積算露光制御を行なう際に、設定露光量のいかんを問わず、必要積算露光量精度と高い走査速度を維持して、素子歩留まりとスループットの向上可能な走査露光装置および走査露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a scanning aligner and a scanning exposure method for improving element yields and throughput by maintaining accuracy in a required amount of integral exposure and a high scanning speed when performing integral exposure control by pulse interval control. - 特許庁

小面積のフォトマスクを用いた複数回露光により大面積の被露光体を高い精度で露光するための露光装置と、上記の露光装置に可視光域に感度領域をもつ検出装置を使用することを可能ならしめる感光性レジストを提供する。例文帳に追加

To provide an aligner for accurately exposing a large-area body to be exposed highly precisely by plural-times exposure using a small-area photomask, and to provide a photosensitive resist capable of allowing the aligner to use a detector having a sensitivity region in a visible light region. - 特許庁

撮影モードにおいて発光量は前回決定された発光量によるカメラ９出力の画像信号の露出積算値３１と発光ＯＦＦの露出積算値３１との差に基づいて、露出積算値３１が最適露出値に適合するまで繰返し決定される。例文帳に追加

In a photographing mode, the determination of the light emission quantity is repeatedly executed based on a difference between an exposure integration value 31 of an image signal output from the camera 9 with the light emission quantity determined on the previous occasion, and the exposure integration value 31 in a state when the light emission is turned off, till the exposure integration value 31 matches the optimum exposure value. - 特許庁

制御部５０は、画像データの主走査方向の各位置におけるレーザビームスキャナユニット２２７ａの露光量を積算し、該露光量の積算値のうち最大の積算値とその他の積算値との差を検出する。例文帳に追加

The integration of the exposure amount of the laser beam scanner unit 227a at respective positions in the main scanning direction of image data is carried out by the control part 50, and the difference between the maximum integrated value and other integrated values among the integrated values of the exposure amount is detected. - 特許庁

内側部分とは異なるパターンの単位面積における導電性基材の露出面積が、内側部分の単位面積における導電性基材の露出面積の１．５倍〜５倍であることが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that the exposed surface area of the electroconductive base material in a unit surface area of the pattern different from the inner side portion is 1.5-5 times of the exposed surface area of the electroconductive base material in a unit surface area in the inner side portion. - 特許庁

露光ヘッド等の経時的形状変化の蓄積により露光位置が本来の適正位置からずれた場合に、その露光位置ずれを正確に測定することができる露光装置の提供。例文帳に追加

To provide an exposure device which accurately measures the deviation of an exposure position when the exposure position is deviated from an original proper position due to the accumulation of temporal shape changes of an exposure head or the like. - 特許庁

露光工程中においても、投影光学系を含めた全光学系の透過率変化を常時測定し、積算露光量をより正確に制御することができる露光装置、露光方法、デバイス製造方法及びデバイスを提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus capable of normally measuring permeability changes of all optical systems including a projecting optical system and controlling total exposure more precisely in an exposure process, and an exposure method, a device manufacturing method and its device. - 特許庁

大面積の感光性基板に対して転写パターンの露光を良好に行うことができる露光装置及び該露光装置を用いた露光方法を提供することである。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus which can favorably expose a large-size photosensitive substrate to form a transfer pattern, and to provide an exposure method using the exposure apparatus. - 特許庁

また、設定される目標積算露光量Ｓに基づいて、各ショット領域Ｓの露光時の調整可能な露光光ＥＬの特性および、基板Ｐ上での走査方向の露光光ＥＬの幅の少なくとも一方を調整する。例文帳に追加

In addition, at least one of an adjustable characteristic of exposure light EL in the exposure of each of the shot regions and the width of the exposure light EL of the scanning direction on the substrate P is adjusted based on the set target integral exposure amount S. - 特許庁

ウェーハの露光エネルギー情報を蓄積するシステム及びそシステムによって累積したウェーハの露光エネルギー情報を利用した露光用マスクの管理方法例文帳に追加

SYSTEM FOR ACCUMULATING EXPOSURE ENERGY INFORMATION OF WAFER AND MANAGEMENT METHOD OF MASK FOR EXPOSURE UTILIZING EXPOSURE ENERGY INFORMATION OF WAFER ACCUMULATED WITH THE SYSTEM - 特許庁

露出面積データが無い場合は、ファイルの表示サイズを検出し、表示サイズから表示部１２の露出面積を算出して、表示部１２を移動させ、表示領域を露出させる。例文帳に追加

When there is no exposed area data, display size of a file is detected, the exposed area of the display portion 12 is calculated from the display size, and the display portion 12 is moved to expose the display area. - 特許庁

この積層体７を露光部Ｃへ移送させるとともに、反転機６０を用いて反転させながら露光ランプ５０で積層体７の両面を露光処理する。例文帳に追加

The laminate 7 is carried to an exposing section C, and both surfaces of the laminate 7 is exposed by an exposure lamp 50 while the body is inverted by an inverting machine 60. - 特許庁

この実行中にも暴露時間は累積されて、所要時間がＴｐ４の連続記録動作中に、記録ヘッド暴露累積時間は設定暴露時間Ｔａに一致する。例文帳に追加

The exposure time is accumulated even during the performance of the continuous recording operation, and the accumulated exposure time of a recording head coincides with the set exposure time Ta during the continuous recording operation performed for the required time period Tp4. - 特許庁

次に、各ピクセル２３ｂの非露光部６７の面積から最小面積を差し引いて格差面積を求める。例文帳に追加

Next, a differential area is found by subtracting the minimum area from the area of the non-exposure part 67 is each of pixels 23b. - 特許庁

また、シール圧が印加される前の状態において、空間Ｓの体積Ｖ１ｓが、露出部２１の体積Ｖ１ｇ以上の体積とされている。例文帳に追加

Before sealing pressure is applied thereto, a volume V1s of a space S is a volume V1g of an exposed portion 21 or larger. - 特許庁

露光対象箇所の積算照度を正確に、かつ簡単に計測することができる「露光用照度計測装置」を提供すること。例文帳に追加

To provide an illuminance measuring device for exposure capable of accurately and easily measuring integral illuminance in an objective portion for exposure. - 特許庁

したがって、プレート１５ａ、１５ｂのうち水通路側に露出する露出面の面積を広くすることができる。例文帳に追加

Therefore, the areas of the exposed surfaces of the plates 15a, 15b, exposed to the side of the water passage, are enlarged. - 特許庁

均一な照度の紫外線を用いて大面積の面の露光を行なうことができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device capable of exposing a large-area surface by using ultraviolet rays having uniform illuminance. - 特許庁

次いで、残されたマスク積層膜の幅を狭くして、ｎ型半導体２２の、トレンチ２５の開口端付近の部分を露出する（第２の露出部）。例文帳に追加

Next, the width of the remaining mask laminated film is narrowed, to expose portions of the n-type semiconductor 22 close to the opening ends of the trenches 25 (second exposed portions). - 特許庁

そのため、ウエハ２５上での露光ドーズが目標値となるようにウエハ２５に入射する露光光の積算光量を調節する。例文帳に追加

The integrated light quantity of the incident exposure light on the wafer 25 is therefore so adjusted that the exposure dose on the wafer 25 attains a target value. - 特許庁

前記平行光を第１レンズ１２に照射することで、広い面積にわたって均一な露光が可能となり、ウエハ単位での露光が可能となる。例文帳に追加

The 1st lens 12 is irradiated with the parallel light and then uniform exposure is performed over wide area to enable exposure in wafer units. - 特許庁

そこで、１回の露光を継続したまま、蓄積時間の異なるデータ検出動作を複数回を行い、多重露光を実現する。例文帳に追加

Multiplex exposures are realized by performing data detecting operation of different accumulation time a plurality of number of times, while sustaining single time exposure. - 特許庁

引出電極部３ａ、３ｂの露出面に一部露出するように、積層焼結体内にダミー電極５ａ〜５ｄを形成する。例文帳に追加

Dummy electrodes 5a to 5b are formed in the laminated sinter, so that they are partially exposed in the exposed surfaces of the lead-out electrode parts 3a and 3b. - 特許庁

長時間露光モードにおいて、シャッタボタンが押圧操作されると、主画素では長時間の露光が行われ、各主画素に電荷が蓄積される。例文帳に追加

In response to depressing operation of a shutter button in a long-time exposure mode, long-time exposure is performed for main pixels to store electric charge in each main pixel. - 特許庁

マスクブランク検査装置および方法、反射型露光マスクの製造方法、反射型露光方法ならびに半導体集積回路の製造方法例文帳に追加

MASK BLANK INSPECTION DEVICE AND METHOD, MANUFACTURING METHOD OF REFLECTIVE EXPOSURE MASK, REFLECTIVE EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁

次に、該露光されたフォトレジスト層を除去し、該フォトレジスト層の未露光部分と該誘電体層との上に透明導電層を堆積する。例文帳に追加

Then, the exposed photoresist layer is removed and a transparent conductive layer is deposited on an unexposed portion of the photoresist layer and the dielectric layer. - 特許庁

そして、前記金属ケース５００の露出面を露出して前記第１基板１００に第２基板２００，３００を積層する。例文帳に追加

The exposed surface of the metal case 500 is exposed, and the second substrate 200, 300 is laminated to the first substrate 100. - 特許庁

露出面積データがある場合は、そのデータを参照して表示部１２を移動させ、表示領域を露出させる。例文帳に追加

When there is the exposed area data, the data is referred to, and the display portion 12 is moved to expose the display area. - 特許庁

容易に反射型露光用マスクに堆積されたコンタミを判定することが可能な反射型露光用マスク等を提供する。例文帳に追加

To provide a mask for reflection type exposure capable of easily determining contamination deposited on the mask for reflection type exposure, and the like. - 特許庁

露光パターンの寸法安定性を高めることができるプリント配線用積層板のパターン露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern exposure method of a laminate for printed wiring which is capable of enhancing the dimensional stability of exposure patterns. - 特許庁

これにより、接地用配線パターン５６の露出部分は側面５６ａだけとなり、露出面積を大幅に小さくすることができる。例文帳に追加

An exposed portion of the grounding wiring pattern 56 is thereby only the side face 56a, and an exposed area is remarkably reduced by this manner. - 特許庁

またウエハ２５上での露光ドーズが目標値となるようにウエハ２５に入射する露光光の積算光量を調節する。例文帳に追加

Also, the integrated light quantity of the aligned light, made incident on the wafer 25, is adjusted so as to make the alignment dose on the wafer 25 become the target value. - 特許庁

露呈孔４０の開口４０ｂを露呈開口４０ａよりも開口面積を大きく形成する。例文帳に追加

The opening 40b of the exposure hole 40 is formed so that the opening area of the opening 40b is larger than that of the exposure opening 40a. - 特許庁

まず、非露光状態で電荷蓄積時間の異なる複数枚の画像データを撮像して得、露光状態で画像データを撮像して得る。例文帳に追加

A plurality of sheets of image data having respectively different charge accumulation time lengths in the non-exposure state are picked up and obtained and image data in the exposure state are picked up and obtained. - 特許庁

２回の暗露光時に得られた暗出力の平均値の各々は、それぞれの露光時間の間の暗電流の積分値から求められる。例文帳に追加

Each of average values of the dark output obtained in the dark exposure of two times can be obtained from a value of integration of the dark current during each exposure. - 特許庁

照明条件が大きく変更されても積算露光量のばらつきを緩和することができる露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an aligning method capable of mitigating the dispersion of integrated exposure even when illumination conditions are largely changed. - 特許庁

大面積の基板を高スループットかつ高解像度で露光でき、しかも簡単な構造で安価に構成できる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an aligner capable of exposing a substrate having a large area with high throughput and high resolution and being inexpensively constituted with a simple structure. - 特許庁

さらにフィルムの表裏面両方を露出させるので、露出表面積を増大し中和反応をさらに促進できる。例文帳に追加

Since both the front and rear surfaces of the films are exposed, the exposed surface area is increased to further promote the neutralization reaction. - 特許庁

積層原反３は、吸着機構１１で露光台９に真空吸着してセットし、露光装置７に固定する。例文帳に追加

The raw sheet 3 is vacuum-sucked and set on an exposure base 9 by a sucking mechanism 11 and fixed in an exposure device 7. - 特許庁

パターン露光方法及び装置、回路製造方法及びシステム、パターン露光マスク、マスク製造方法、集積回路装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR PATTERN EXPOSURE, METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING CIRCUIT, PATTERN EXPOSURE MASK, MANUFACTURE OF THE MASK, AND INTEGRATED CIRCUIT DEVICE - 特許庁

基材面に露光感度の異なる少なくとも二種の感光性樹脂組成物層を積層して、パターンマスクを介して露光後、現像する。例文帳に追加

At least two photosensitive resin composition layers different from each other in sensitivity to exposure are laminated on the surface of a substrate, exposed through a pattern mask and developed. - 特許庁

積層した化粧フイルム１０及び補強板３０にキートップ７１を露出する開口からなるキートップ露出部１１，３１を設ける。例文帳に追加

The laminated decoration film 10 and reinforcing plate 30 are provided with keytop exposure parts 11 and 31 made of openings for exposing the keytops 71. - 特許庁