例文 (999件) |
6次の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 6032件
一次コイル6に通電することによりコイル状棒線材1〜3を加熱する。例文帳に追加
The coil-like rod wires 1-3 are heated by energizing a primary coil 6. - 特許庁
次に、ガス放出管6からの放出量を増加させることにより、タンク1内の内圧を下げていく。例文帳に追加
Then, a discharge amount from the discharge pipe 6 is increased to reduce internal pressure in a tank 1. - 特許庁
次いで、ワッシャ7及び釘8によってネット6を外壁1に固定する。例文帳に追加
Next, the net 6 is fixed on the exterior wall 1 by a washer 7 and a nail 8. - 特許庁
原料ガス(18)は圧縮機システム(6、16)に導入され、次いで分離設備に導入される。例文帳に追加
A feed gas (18) is introduced to the separating facility through compressor systems (6 and 16). - 特許庁
また、入力部2aが中止指示を受け付けると、翻訳部6は、次の翻訳を中止する。例文帳に追加
When an input part 2a receives a stop instruction, the translation part 6 stops the next translation. - 特許庁
さらにこの2次巻線6に並列にコンデンサ7及びコイル8の直列回路が接続される。例文帳に追加
A series circuit of a capacitor 7 and a coil 8 is connected in parallel to this secondary winding 6. - 特許庁
次いでこの中間成形物5にサイジングをして成形し、木粉樹脂押出成形品6を得る。例文帳に追加
Then the intermediate molded article 5 is subjected to sizing fabrication to produce the extrusion-molded article 6 of the wooden flour resin. - 特許庁
次に、筐体6に筐体8をインロー(即ち、互いの凹凸部)g1、g2を利用して嵌め込む。例文帳に追加
Then, the casing 8 is fitted into the casing 6 using a tongue and a groove (namely, mutual recessed/protruded portions) g1, g2. - 特許庁
次に出力軸8の進出動作によりドア被押圧部6を突き放しドア2を開放する。例文帳に追加
A door pressed part 6 is pushed away by an advance action of an output shaft 8 to open the door 2. - 特許庁
シール座18は、周囲壁6の内面に沿って3次元平面状に形成してある。例文帳に追加
The sealing seat 18 is formed in a three-dimensional plane shape along the inner surface of the peripheral wall 6. - 特許庁
次に、情報の入力が完了すると、それらの情報をコメント文生成部6へ伝える。例文帳に追加
When the information input is completed, the information is sent to a comment sentence generation part 6. - 特許庁
次に、固定ねじ6、蝶ナット7を用いて、支持板4を底板23に固定する。例文帳に追加
Then the support plate 4 is fixed to the bottom plate 23 using a set screw 6 and a butterfly nut 7. - 特許庁
次に、外部操作用スイッチ6を、カバー20の内部に位置合わせしながら設置する。例文帳に追加
Next, a switch 6 for external operation is installed inside a cover 20, while being positioned. - 特許庁
次に、有機酸(クエン酸、リンゴ酸等)を注入槽6から注入し、10分間放置した。例文帳に追加
Subsequently, an organic acid (citric acid, malic acid, or the like) is poured from the pouring tank 6, and the mixture is allowed to stand for 10 min. - 特許庁
構成材4,5,6は、構成材3と同様にして、順次上下方向に積層される。例文帳に追加
The components 4, 5 and 6 are piled up in order in a similar way to the component 3. - 特許庁
次いで、ケース4内において、絶縁膜6で覆われたコイル2をコア3内に埋設する。例文帳に追加
Next, the coil 2 covered with the insulating film 6 is buried in the core 3 included in the case 4. - 特許庁
次いで、オペレータがTABテープ6の切除、切り分け等の編集を行う(S13)。例文帳に追加
Thereafter, an operator performs editing operations, such as the cutting, dividing, etc., on the TAB tape 6 (S13). - 特許庁
次に、直線5と直線6とから等距離にある直線7を想定する。例文帳に追加
Then a straight line 7 at an equal distance from the lines 5, 6 is assumed. - 特許庁
次いで、この平坦化絶縁膜5に、リソグラフィー法によって接続孔6を形成する。例文帳に追加
Then, a connecting hole 6 is formed on the flat insulation film 5 by lithography method. - 特許庁
表示制御手段6は、拡大画像データSLを液晶モニタ3に順次表示する。例文帳に追加
A display control means 6 allows the liquid crystal monitor 3 to sequentially display the magnified image data SL. - 特許庁
次に1本の絶縁線6をはがして、その跡に銅を蒸着して銅線9を形成する。例文帳に追加
Then, one of the insulating wires 6 is removed to form a copper wire 9 by applying vacuum deposition of copper to the vacant portion. - 特許庁
そして、この潤滑剤6には、一次粒径50nm以下の酸化ケイ素微粒子が配合されている。例文帳に追加
Fine particles of silicon oxide having primary particle sizes of 50 nm or less are added in the lubricant 6. - 特許庁
次に、ねじ山保護装置2が固定された取付スピンドル6を前記収容ねじ14にねじ込む。例文帳に追加
Next, the setting spindle 6 fixed with the screw protective unit 2 is screwed into the screw 14. - 特許庁
次に、押圧部材6を連結部1cの内巻側に組み込み、連結部1cを押圧して固定する。例文帳に追加
A pressure member 6 is incorporated to an inner winding side of the connection part 1c, and the connection part 1c is depressed and fixed. - 特許庁
次に、これらの凸パターン4を埋め込む状態で層間膜6を成膜する。例文帳に追加
Then, an interlayer film 6 is formed so as to be in a state of embedding the protruding patterns 4. - 特許庁
これにより、騒音と二次音とが消音点6で干渉し、騒音が打ち消される。例文帳に追加
Thus, the noise and the secondary sound interfere at the point 6 to negate the noise. - 特許庁
処理水を高次処理槽5で更に浄化し、清水槽6に送り貯留する。例文帳に追加
The processed water is further purified in a advanced processing tank 5 and sent to fresh water tank 6 and stored. - 特許庁
次にこの外郭部躯体6内の土砂を掘削して大断面トンネルAを構築する。例文帳に追加
Then, earth at the inside of the contour frame structure 6 is excavated and a tunnel A in a large-sized section is constructed. - 特許庁
その後、パッキン8を柱3との間に打ち込み、次いでシール材9を充填する。例文帳に追加
Then, a packing 8 is driven between the pole 3 and the heat insulation board 6, and then a sealing material 9 is filled. - 特許庁
次いで、箸先部4に、第2塗布材を塗布して、第2塗布層6を形成する。例文帳に追加
Then, the tip part 4 is coated with a second coating material to form a second coating layer 6. - 特許庁
次いで砥石を毛引4刃の方向に移動させながら底刃5の平坦面6を形成する。例文帳に追加
After that, the flat surface 6 of the bottom blade 5 is formed while moving the grinding wheel in the direction of the hair-pulling blade 4. - 特許庁
そして、増幅部6と、逐次比較型アナログ−デジタル変換器5とを備える。例文帳に追加
Then, the conversion part 1 is provided with an amplifier part 6 and a successively comparing type A/D converter 5. - 特許庁
次に、右回転と同様にモータ8を間欠通電して回転翼6を左方向に回転させる。例文帳に追加
Then, it intermittently energizes the motor 8 and rotates the rotary blade 6 in a left direction similarly to right rotation. - 特許庁
そしてこの補正された2次光源からの光束を被照射物6に対して照射する。例文帳に追加
Then, an irradiation target 6 is irradiated with the luminous flux from the corrected secondary light source. - 特許庁
短管部11内に流下する排水に1次旋回と減速を与える羽根体6を備える。例文帳に追加
A vane body 6 to provide a primary swirl and speed reduction to flowing-down drain water is installed in the short pipe part 11. - 特許庁
次いで、求めた必要調整高さに基づき、作業員がジャッキボルト6の高さを調整する。例文帳に追加
Then, the worker adjusts the height of each jack bolt 6 based on the obtained required adjusting height. - 特許庁
次いで、電熱線4に通電して継手1と樹脂パイプ5,6とを融着させる。例文帳に追加
Further, the joint 1 and the resin pipes 5, 6 are fused by energizing an electric heat wire 4. - 特許庁
蒸気配管2に、流速センサ6と、圧力センサ5と、ピトー管1を順次取り付ける。例文帳に追加
A flow velocity sensor 6, a pressure sensor 5, and a Pitot tube 1 are sequentially mounted to a vapor pipe 2. - 特許庁
また、コイル状のアンテナ1の中空部7に突き出す凸部6を1次成形品4に形成する。例文帳に追加
A protruding part 6 protruding to a hollow part 7 of the coil-like antenna 1 is formed on the primary molding 4. - 特許庁
次いで、pMOS領域のゲート酸化膜3を除去し、改めてゲート酸化膜6を形成する。例文帳に追加
The gate oxide film 3 in a PMOS region is eliminated, and a gate oxide film 6 is formed. - 特許庁
この後、第1の絶縁膜6及び第2のゲート電極材7を順次堆積する。例文帳に追加
Then, a first insulating film 6 and a second gate electrode material 7 are stacked in order. - 特許庁
次いで、オープンリンク13がオープンレバー6に当接してオープンレバー6をオープン作動させる。例文帳に追加
Then the open link 13 abuts on an open lever 6 so as to be operated for opening. - 特許庁
次に、コイル6をアーチ型に調整ボルト4と固定ボルト10に取り付ける。例文帳に追加
Further, a coil 6 is connected with an adjusting bolt 4 and a fixing bolt 10 in an arch-shaped manner. - 特許庁
次に、小ハッチ14を開け、試料室6を含む気密室12を開放し、試料7を交換する。例文帳に追加
A small hatch 14 is then opened to open the airtight chamber 12, including the sample chamber 6 and replace the sample 7. - 特許庁
二次巻線4にはMOSFET6と並列に共振用回路が接続されている。例文帳に追加
To the secondary wiring 4, a resonance circuit is connected in parallel with the MOSFET 6. - 特許庁
次いで、発光体層4および陰極6を画素部位Pの正孔輸送層3上に形成する。例文帳に追加
Then, a phosphor layer 4 and a negative electrode 6 are formed on the hole transporting layer 3 of the pixel portion P. - 特許庁
湿潤気体接触室6へ送られたTACフィルム3は、各エリア6a〜6cを順次通過する。例文帳に追加
The TAC film 3 sent to the moist gas contact chamber 6 is made to pass through areas 6a-6c successively. - 特許庁
次に、シリサイド領域における第1のSP膜6を除去して、その後サリサイド化を実行する。例文帳に追加
The SP film 6 in the silicide region is then removed, followed by salicidation. - 特許庁
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