例文 (999件) |
6次の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 6032件
次に、第1の窒化ガリウム層6の凸部6aが露出するまで表面を平坦化する。例文帳に追加
The surface of the layer is so flattened that a protruding part 6a of the first nitride gallium layer 6 is exposed. - 特許庁
炭化炉2の2次燃焼室5より、ダクト6を経由してチャンバー7を設置する。例文帳に追加
Extending from the secondary combustion chamber 5 of a carbonization oven 2, a chamber 7 is placed through a duct 6. - 特許庁
冷凍装置1は、二酸化炭素を冷媒として用いる2次側冷媒回路6を備える。例文帳に追加
The refrigeration device 1 is equipped with a secondary refrigerant circuit 6 using carbon dioxide as the refrigerant. - 特許庁
次に、バルク4を試料台である円筒状のピン6の先端にエポキシ樹脂で固定する。例文帳に追加
Next, the bulk 4 is fixed through epoxy resin to the tip of a cylindrical pin 6 as a sample stand. - 特許庁
次いで放出弁6を開き、車載高圧水素タンク2から水素を放出する。例文帳に追加
Next, a discharge valve 6 is opened to discharge hydrogen from the on-vehicle high pressure hydrogen tank 2. - 特許庁
次いで、床暖房パネル3の小根太6上にシリコーン固定剤9を貼付していく。例文帳に追加
A silicone fixing agent 9 is then stuck onto small joists 6 of the floor heating panel 3. - 特許庁
次に、UVレジン5上に第2層のUVレジン6をスピンコートにより形成する。例文帳に追加
A UV resin 6 of a second layer is formed on the UV resin 5 by the spin coat method. - 特許庁
リチウム二次電池用添加剤として、式量が6以上の基を有するフラーレン誘導体を用いる。例文帳に追加
A fullerene derivative having a group of formula weight of 6 or more is used as the additive. - 特許庁
次に、細線2を除去して、2つの電極5および6間に間隙部7を形成する。例文帳に追加
Then, the thin wire 2 is removed, and a gap 7 is formed between the electrodes 5 and 6. - 特許庁
無機記録膜6は、基板1の順次積層された金属膜2および酸化物膜3からなる。例文帳に追加
The inorganic recording film 6 comprises a metallic film 2 and an oxide film 3 which are sequentially layered on the substrate 1. - 特許庁
試料6からは、2次電子、後方散乱電子及び反射電子8が発生する。例文帳に追加
From the sample 6, secondary electrons, backward diffused electrons, and reflected electrons 8 are generated. - 特許庁
次に無電解めっき浴を用いて、絶縁層5,6全体に下地めっき層を形成する。例文帳に追加
Next, using an electroless plating bath solution, a lower plated layer is formed on the insulation layers 5, 6. - 特許庁
このようにして、使用途中のプリペイドカードを次々とカード交換機6に挿入する。例文帳に追加
Thus, prepaid cards which are used are inserted one after another into the card exchanging machine 6. - 特許庁
次に、Al膜6をマスクとして硬化ポジ型フォトレジスト5をパターニングする(図1(f))。例文帳に追加
Next, the hardening positive type photoresist 5 is patterned by using the aluminum film 6 as a mask (Fig.f). - 特許庁
次に変換式5を用いてパラメータ変換することによりファイル6のデータ構造を得る。例文帳に追加
Then by using a conversion equation 5 and converting with a parameter, data structure of a file 6 is gained. - 特許庁
ここで、樹脂6は、3次元架橋されたエチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂である。例文帳に追加
Here, the resin 6 is ethylene-vinyl acetate copolymer resin which is cross-linked in three dimensions. - 特許庁
次に溝エッチングにおいて異物6,7が存在すると、所定の溝が形成されない。例文帳に追加
Thereafter, when foreign matters 6 and 7 are present in the groove etching, the specified grooves are not formed. - 特許庁
次に、ダイス6により縮径加工し、焼鈍し、内面溝付管14を製造する。例文帳に追加
Next, the tube 14 with the grooved inner face is manufactured by reducing its diameter with a die 6 and annealing it. - 特許庁
前記変換器ユニット7は、交流電圧側で、前記変圧器4の二次巻線6に接続される。例文帳に追加
The converter unit 7 is connected to the secondary winding 6 of the transformer 4 at AC voltage side. - 特許庁
次に、光学マスク6を介して紫外線7を透明基板5上に照射する。例文帳に追加
The transparent substrate 5 is then irradiated thereon with the UV rays 7 via the optical mask 6. - 特許庁
次にストレーナ6は、下方15へ移動し、針3のフック5へ糸8を係合させる。例文帳に追加
Then, the strainer 6 is moved downward 15 to engage the yarn 8 with a hook 5 of the needle 3. - 特許庁
実装後のガラス基板40は、アンローダ部6によりカセット8内に順次収納される。例文帳に追加
The glass substrate 40 after mounting is successively accommodated into a cassette 8 by an unloader part 6. - 特許庁
次に前記スライダ1とフレキシャ6とを接合した後、第2回目の紫外線を照射する。例文帳に追加
The slider is brought into contact with a flexure 6 and subjected to the second ultraviolet irradiation. - 特許庁
次に、コンバータ回路部2、インバータ回路部3を搭載、電極層6と端子8を接続する。例文帳に追加
A converter circuit 2 and an inverter circuit 3 are then packaged and the electrode layer 6 and a terminal 8 are connected. - 特許庁
次に導体層5Aをパターニングして電極パッド部6と回路パターン7とを接続する。例文帳に追加
Thereafter, the electrode pad sections 6 are connected to the circuit pattern 7 by patterning the conductor layer 5A. - 特許庁
次に、フローティングゲート11をマスクとしたイオン注入によりソース層6を形成する。例文帳に追加
Next, the soure layer 6 is formed by an ion implantation using the floating gate 11 as a mask. - 特許庁
次いで、基板1上に、溝部6を塞ぎながらY方向に延在する成形体2bを形成する。例文帳に追加
Next, the molded bodies 2b extending in a Y direction are formed on the substrate 1 while clogging up the grooves 6. - 特許庁
次に、ベース拡散層6上における絶縁膜8に、エミッタ形成用コンタクトホール9を設ける。例文帳に追加
An emitter forming contact hole 9 is formed in the insulating film 8, on a base diffused layer 6. - 特許庁
次に、圧力ポンプ8を作動させ、噴射パイプ6内部に約5気圧の噴射圧を発生させる。例文帳に追加
Subsequently, a pressurizing pump 8 is operated to generate a jetting pressure of about 5 atm in the interior of a jetting pipe 6. - 特許庁
ドレン排出管6には流出口5の二次側に自動弁7を設ける。例文帳に追加
The drainage discharge pipe 6 is provided with an automatic valve 7 in a secondary side of the outflow port 5. - 特許庁
次に、乾燥し{図1(d)}、エッチングしてブラックマトリクス6を形成する{図1(e)}。例文帳に追加
Drying is then carried out {figure 1 (d)} and the objective black matrix 6 is formed by etching {figure 1 (e)}. - 特許庁
次に、レジスト層9を除去した後、Cu層6、8の表面にCu層12をメッキする(g)。例文帳に追加
Then Cu layers 12 are plated on the surfaces of the Cu layers 6, 8 after the resist layer 9 is eliminated. - 特許庁
変換が終了したら電子シャッターを閉じ、次の一駒に映画フィルム6を移動させる。例文帳に追加
When the conversion is finished, the electronic shutter is closed and the movie film 6 is moved to a succeeding frame. - 特許庁
次に、半導体ウエハ3の上面全体に、印刷により絶縁層6を形成する。例文帳に追加
Then, an insulating layer 6 is formed on the whole upper surface of the semiconductor wafer 3 by printing. - 特許庁
他方のガラス基板4上には透明電極5と配向膜6とを順次形成している。例文帳に追加
A transparent electrode 5 and an alignment layer 6 are formed on the other substrate 4. - 特許庁
次に、この状態でベイルフレーム6およびイコライザシーブ7間にロッドが接続される。例文帳に追加
A rod is connected between a bail frame 6 and the equalizer sheave 7 in this condition. - 特許庁
次いで、開口部6に、電極パッド2と接触するように、バリアメタル膜8を形成する。例文帳に追加
Next, a barrier metal film 8 is formed in the opening 6 so as to come into contact with the electrode pad 2. - 特許庁
次に、分離酸化膜6間の基板1上にシリコン酸化膜7を形成する。例文帳に追加
Next, a silicon oxide 7 is formed on the substrate 1 between the separation oxide films 6. - 特許庁
非水電解液二次電池10は、捲回体1と蓋体6との間に絶縁部材4を備える。例文帳に追加
A nonaqueous electrolyte secondary battery 10 comprises an insulating member 4 between a wound body 1 and a lid 6. - 特許庁
充電回路100は、太陽電池4からの電力を受け、2次電池6を充電する。例文帳に追加
A charging circuit 100 receives electric power from a solar battery 4 and charges a secondary cell 6. - 特許庁
電源回路2は、太陽電池4と、その電力により充電される二次電池6を有している。例文帳に追加
An electric power source circuit 2 has a solar battery 4 and a secondary battery 6 to be charged by its power. - 特許庁
次に、左図柄を図柄「6」で仮停止させるとともに、右図柄にモザイク処理を施す。例文帳に追加
Subsequently, the left pattern is temporarily stopped at a pattern '6', and the right pattern is subjected to mosaic processing. - 特許庁
次に溶融状態のアルミニウム合金6が金属型4内に加圧状態で注入される。例文帳に追加
Next, a molten aluminum alloy 6 is poured in the metal die 4 in a compressed condition. - 特許庁
下バーナ6は、空気孔35から新鮮な一次空気を得て、被調理物Fの下側を加熱する。例文帳に追加
The lower burner 6 heats the downside of an object F to be cooked by providing fresh primary air from the air hole 35. - 特許庁
次に、エッチング可能部11のCu層6、8をエッチング処理により除去する(f)。例文帳に追加
Then the Cu layers 6, 8 of the etchable part 11 is eliminated by etching (f). - 特許庁
処理制御部6は、圧縮後のデータをデータ記録部7にて順次記録する。例文帳に追加
The processing control section 6 allows a data recording section 7 to sequentially record the data after the compression. - 特許庁
次に、発光体層4及び陰極6を画素部位Pの正孔輸送層3上に形成する。例文帳に追加
Next, a light-emitting layer 4 and a cathode 6 are formed on the hole transport layer 3 of the pixel site P. - 特許庁
この段階的な各盛土層6への盛土時に、各アンカーボルト7を、順次、継ぎ足していく。例文帳に追加
The anchor bolts 7 are sequentially extended at embankment of stepwise bank layers 6. - 特許庁
次に、乾燥炉6を通過することにより導電ペーストを乾燥し、内部電極を形成する。例文帳に追加
Then, when the carrier film 1 is passed through the drying furnace 6, the conductive paste is dried and the internal electrode is formed. - 特許庁
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