「C ACID」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

This resin composition comprises a urethane oligomer (A), obtained by reacting diphenyl-4,4'-dimethanol (a) and as an optional component a polyol compound (b) other than the component (a) with a polybasic acid anhydride (c-1) bearing two acid anhydride groups in the molecule, a polyisocyanate compound (d) and an ethylenically unsaturated group-containing polyhydroxy compound (e), and a diluent (B).例文帳に追加

ジフェニル−４，４’−ジメタノール（ａ）と任意成分として（ａ）成分以外のポリオール化合物（ｂ）と分子中に２個の酸無水物基を有する多塩基酸無水物（ｃ−１）とポリイソシアネート化合物（ｄ）とエチレン性不飽和基含有ポリヒドロキシ化合物（ｅ）を反応させて得られるウレタンオリゴマー（Ａ）と希釈剤（Ｂ）を含有する樹脂組成物。 - 特許庁

In the method for molding the sheet in which the molten sheet of the polyester in which terephthalic acid is used as a main acid component is extruded from an orifice-shaped nozzle, contacted closely with the cooling roll having the micro-crack surface, and solidified, the surface temperature of the cooling roll in the neighbourhood of a point where the molten sheet contacts the cooling roll is kept at 5-65°C.例文帳に追加

テレフタル酸を主たる酸成分とするポリエステルの溶融シートをオリフィス状の口金から押出しマイクロクラック表面の冷却ロールに密着させ固化させるシートの成形方法において、該溶融シートが冷却ロールへ着地する点近傍の冷却ロールの表面温度を５℃〜６５℃の範囲に保つことを特徴とするポリエステルシートの成形方法。 - 特許庁

The rosin emulsion sizing agent contains as the active ingredient a resin(C) prepared by blending in a specific proportion a rosin ester(A) obtained by reaction under heating between an alkenyl-substituted succinic acid (anhydride), rosin and a polyhydric alcohol with a reinforced rosin(B) obtained by adding 2-10 pts.wt. of an α,β-unsaturated carboxylic acid to 100 pts.wt. of rosin.例文帳に追加

アルケニル置換コハク酸またはアルケニル置換コハク酸無水物、ロジン、および多価アルコールを加熱反応させて得られたロジンエステル（Ａ）、およびロジン１００重量部に対し、α、β−不飽和カルボン酸を２〜１０部付加させて得られた強化ロジン（Ｂ）を特定の割合で混合した混合樹脂（Ｃ）を有効成分とするロジンエマルジョンサイズ剤。 - 特許庁

The cosmetic comprises (A) at least one or more kinds selected from nicotinic acid, a nicotinic acid derivative, nicotinic alcohol, a nicotinic alcohol salt, (B) at least one or more kinds selected from the group consisting of a monosaccharide and an oligosaccharide and (C) one or more kinds selected from the group consisting of water-soluble film-forming polymers.例文帳に追加

（Ａ）ニコチン酸、ニコチン酸誘導体、ニコチニックアルコール、ニコチニックアルコール塩から選ばれる少なくとも１種以上と、（Ｂ）単糖及びオリゴ糖からなる群から選択される少なくとも１種以上と、（Ｃ）水溶性の皮膜形成性高分子からなる群より選択される１種以上とを含有することを特徴とする化粧料である。 - 特許庁

The composition for polishing comprises carboxybenzotriazole (A), organic acid (B), hydrogen peroxide (C), and water (D), and in this case, the concentration of the component (A), organic acid, and hydrogen peroxide in the composition for polishing are set to 0.01 to 5 wt.%, 0.05 to 5 wt.%, and 0.03 to 10 wt.%, respectively.例文帳に追加

（Ａ）カルボキシベンゾトリアゾール、（Ｂ）有機酸、（Ｃ）過酸化水素、および（Ｄ）水からなり、（Ａ）成分の研磨用組成物中の濃度が０．０１〜５重量％であり、有機酸の研磨組成物中の濃度が０．０５〜５重量％であり、過酸化水素の研磨用組成物中の濃度が０．０３〜１０重量％である研磨用組成物である。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which excels in accuracy of thickness and uniformity of height and allows the manufacturing process thereof to be shortened because it has adhesive property after being photocured, and which comprises: a cyclic olefin resin (A) having a photoreactive functional group; an acid generator (B); and a compound (C) capable of curing reaction by the action of an acid generator.例文帳に追加

本発明の目的は、厚さ精度、高さ均一性に優れ、かつ、光硬化後に接着性を有するため、製造工程が短縮できる、光反応性官能基を有する環状オレフィン系樹脂（Ａ）と、酸発生剤（Ｂ）と、酸発生剤の作用により硬化反応可能な化合物（Ｃ）とを含む、感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The negative resist composition contains (A) an alkali-soluble resin, (B) a compound that crosslinks by the action of an acid, and (C) a photo-acid generator, wherein the alkali-soluble resin (A) contains a repeating unit, having a naphthol structure expressed by general formula (NH2) and a repeating unit having an alicyclic structure.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用により架橋する化合物、（Ｃ）光酸発生剤、を含むネガ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が下記一般式（ＮＨ２）で表されるナフトール構造を有する繰り返し単位と、脂環構造を有する繰り返し単位と、を含む樹脂であることを特徴とする、ネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

This resin composition is obtained by reaction of (A) a novolak type epoxy compound and/or a glycol type epoxy compound with an unsaturated and/or saturated monobasic acid and further, a saturated or unsaturated polybasic acid anhydride, and it contains, further, (B) an epoxy resin, (C) a photopolymerization initiator, and (D) a photopolymerizable unsaturated compound and/or a solvent.例文帳に追加

（Ａ）ノボラック型エポキシ化合物および／またはグリコール系エポキシ化合物、不飽和一塩基酸および飽和一塩基酸を反応させ、さらに飽和または不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる感光性樹脂、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）重合性不飽和化合物および／または溶剤を含んでなる感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The preparation method comprises reacting (a) a compound having at least two phenolic hydroxy groups with (b) a cyclic carbonate, reacting (c) the resultant reaction product with (d) an unsaturated-group-containing monocarboxylic acid and/or (e) its ester, and reacting (f) the resultant reaction product with (g) a polybasic acid anhydride.例文帳に追加

カルボキシル基含有感光性樹脂の製造方法は、１分子中に２個以上のフェノール性水酸基を有する化合物（ａ）と環状カーボネート類（ｂ）との反応生成物（ｃ）に不飽和基含有モノカルボン酸（ｄ）及び／又はそのエステル類（ｅ）を反応させ、得られる反応生成物（ｆ）に多塩基酸無水物（ｇ）を反応させることを特徴とする。 - 特許庁

The pigment dispersant is produced by reacting a hydroxyl group in a vinyl polymer (A) having three or more hydroxyl groups in a one-end region, obtained by radically polymerizing an ethylenically unsaturated monomer (b) in the presence of a compound (a) having three or more hydroxyl groups and one thiol group within a molecule, with an acid anhydride group in a carboxylic acid anhydride (c).例文帳に追加

分子内に３つ以上の水酸基と１つのチオール基とを有する化合物（ａ）の存在下に、エチレン性不飽和単量体（ｂ）をラジカル重合して得られる、片末端領域に３つ以上の水酸基を有するビニル重合体（Ａ）中の水酸基と、カルボン酸無水物（ｃ）の酸無水物基とを反応させて生成される顔料用分散剤。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin having a specific repeating unit and solubility in an alkali developer increased by the action of an acid, and (C) a low molecular lactone compound represented by a general formula (1) and/or a general formula (2).例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂（Ｃ）特定の一般式で表される低分子ラクトン化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which has a repeating unit having a partial structure containing a specified alicyclic hydrocarbon and which is changed into alkali soluble by the effect of an acid; and (C) a compound having at least one of hydroxyl group or substituted hydroxyl group.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の脂環式炭化水素を含む部分構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂及び（Ｃ）水酸基又は置換された水酸基を少なくともひとつ有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The cleansing cosmetic comprises (1) 0.3-10 wt.% of one or more nonionic surfactants selected from (a) a polyhydric alcohol fatty acid ester having an average HLB value of ≥10, (b) a polyoxyethylene polyhydric alcohol fatty acid ester and (c) an alkyl glucoside, (2) a 10-85 wt.% of a polyhydric alcohol and (3)≥1 wt.% of water.例文帳に追加

（ａ）平均ＨＬＢ値が１０以上である多価アルコール脂肪酸エステル、（ｂ）ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸エステル、及び（ｃ）アルキルグルコシドから選択される１種又は２種以上の非イオン界面活性剤 ０．３〜１０重量％、（２）多価アルコール １０〜８５重量％、及び（３）水 １重量％以上を含有する洗浄化粧料とする。 - 特許庁

The thin laminated polyimide film is constituted by forming a nonmetal thin film layer by dry plating on a polyimide film used as a base material, which is composed of polyimide having at least pyromellitic acid residue as a residue of an aromatic tetracarboxylic acid and a diaminodiphenyl ether residue as a residue of an aromatic diamine, and characterized in that a degree of curling after heat treatment at 300°C is 10% or below.例文帳に追加

ポリイミドが少なくとも芳香族テトラカルボン酸類の残基としてピロメリット酸残基、芳香族ジアミン類の残基としてジアミノジフェニルエーテル残基を有し、かつフィルムの３００℃熱処理後のカール度が１０％以下であるポリイミドフィルムを基材として使用し、その上に乾式めっきで非金属の薄膜層を形成した薄膜積層ポリイミドフィルム。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition contains [A] a copolymer of (a1) an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic acid anhydride, (a2) an epoxy-containing unsaturated compound and (a3) an olefinically unsaturated compound other than the components (a1) and (a2), [B] a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond and [C] a radiation sensitive polymerization initiator.例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物、ならびに（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物、の共重合体、［Ｂ］エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、ならびに［Ｃ］感放射線重合開始剤を含有する。 - 特許庁

The resin film comprises (D) 10-150 pts.wt. ester-based plasticizer having a structural unit derived from an aromatic carboxylic acid and a structural unit derived from an aliphatic alcohol based on 100 pts.wt. total of (A) an aliphatic-aromatic copolyester-based resin, (B) a polylactic acid-based resin and (C) an aliphatic polyester-based resin.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族−芳香族共重合ポリエステル系樹脂、（Ｂ）ポリ乳酸系樹脂、（Ｃ）脂肪族ポリエステル系樹脂、及び（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の合計量１００重量部に対して１０〜１５０重量部の（Ｄ）芳香族カルボン酸に由来する構造単位及び脂肪族アルコールに由来する構造単位を有するエステル系可塑剤を含有する樹脂製フィルム。 - 特許庁

The composition contains [A] a reaction product of (a1) tantalum alkoxide with (a2) at least one compound selected from an amino alcohol, a compound having ≥2 hydroxy groups in the molecule (exclusive of amino alcohol), β-diketone, β-ketoester, β-dicarboxylate, lactic acid, ethyl lactate and 1,5-cyclooctadiene, [B] orthocarboxylate, and [C] an acid.例文帳に追加

組成物は、（ａ１）タンタルアルコキシドおよび（ａ２）アミノアルコール、分子内に２個以上の水酸基を有する化合物（ただしアミノアルコールを除く。）、β−ジケトン、β−ケトエステル、β−ジカルボン酸エステル、乳酸、乳酸エチルおよび１，５−シクロオクタジエンのうちから選ばれる少なくとも１種の化合物との反応生成物、［Ｂ］オルトカルボン酸エステルならびに［Ｃ］酸を含有する。 - 特許庁

The edible oleaginous material-containing powdered material which transparently dissolves in water and excels in storage stability is obtained by drying an aqueous mixture composed of (a) 1-30 wt.% edible oleaginous material, (b) 1-20 wt.% polyglycerin fatty acid ester and/or sucrose fatty acid ester, (c) 5-60 wt.% excipient, and (d) 30-80 wt.% water.例文帳に追加

（ａ）可食性油性材料１〜３０重量％、（ｂ）ポリグリセリン脂肪酸エステルおよび／またはショ糖脂肪酸エステル１〜２０重量％、（ｃ）賦形剤５〜６０重量％、（ｄ）水３０〜８０重量％からなる水性混合物を乾燥してなる水に透明に溶解し、保存安定性に優れた可食性油性材料含有粉末素材。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which is insoluble or hardly soluble in an alkali developer solution and becomes soluble in an alkali developer solution by the action of an acid; and (C) a basic compound having at least one cyclic ether group.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び（Ｃ）少なくとも１つの環状エーテル基を有する塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The alkali developable photosensitive resin composition contains a reaction product obtained by esterifying a polybasic acid anhydride (D) with an epoxy adduct having a structure of an epoxy resin (A) expressed by general formula (I) with addition of an unsaturated monobasic acid (B) and a compound (C) selected from phenol compounds, alcohol compounds, amine compounds and carboxylic acids.例文帳に追加

下記一般式（I）で表されるエポキシ樹脂（Ａ）に、不飽和一塩基酸（Ｂ）並びにフェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物及びカルボン酸より選択される化合物（Ｃ）を付加させた構造を有するエポキシ付加物に対し、多塩基酸無水物（Ｄ）をエステル化させて得られた反応生成物を含有するアルカリ現像性樹脂組成物。 - 特許庁

The waterproofer, the pavement material and the base material comprise a compound comprising a terminal isocyanate group-having urethane prepolymer prepared by reacting a polyol with a polyisocyanate, an inorganic filler and a two-component curing urethane composition containing an alkylmonocarboxylic acid-modified higher fatty acid ester and have 1,000-12,000mPa s viscosity at 25°C.例文帳に追加

ポリオールとポリイソシアネートとを反応させて得られる末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマー、活性水素を有する化合物、無機充填材及びアルキルモノカルボン酸変性高級脂肪酸エステルを含有する２液硬化型ウレタン組成物からなり、２５℃での粘度が１,０００〜１２,０００ｍＰａ・ｓである防水材、舗装材及び床材を提供するものである。 - 特許庁

The negative resist composition contains an alkali-soluble base component (A), an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure and a crosslinker (C), wherein the base component (A) contains a polyhydric phenolic compound (A1) represented by formula (I) and having two or more phenolic hydroxyl groups and a molecular weight of 300-2,500.例文帳に追加

アルカリ可溶性の基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、架橋剤（Ｃ）とを含むネガ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）で表される、２以上のフェノール性水酸基を有し、分子量が３００〜２５００である多価フェノール化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The electrodeposition coating composition contains a pigment anti-settling agent (a) comprising a fatty acid, a fatty acid derivative, an amine compound or a mixture of at least two kinds selected from the above three kinds, a pigment (b) and a binder resin (c), wherein the pigment (b) contains an extender having an oil absorption of not more than 70 mL/100 g.例文帳に追加

脂肪酸、脂肪酸の誘導体、アミン化合物、またはこれらの３種から選択される少なくとも２種の混合物である顔料沈降防止剤（ａ）、顔料（ｂ）、およびバインダー樹脂（ｃ）、を含む電着塗料組成物であって、顔料（ｂ）が吸油量７０ｍｌ／１００ｇ以下である体質顔料を含む、電着塗料組成物。 - 特許庁

Herein, the (B) is an antioxidant having at least a phosphite structure or a phosphonite structure in the molecule, the (C) is an inorganic antiblocking agent whose amount of solid acids exceeds 100 μmol/g, and the (D) is at least one neutralizer selected from the group consisting of hindered piperidine compounds, carboxylic acid amide compounds, hydrotalcites, metal hydroxides and carboxylic acid metal salts.例文帳に追加

（Ｂ） 分子内に、少なくともフォスファイト構造又はフォスフォナイト構造を有する酸化防止剤（Ｃ） 固体酸量が、１ｇ当り１００μｍｏｌを超える無機アンチブロッキング剤（Ｄ） ヒンダードピペリジン化合物、カルボン酸アミド系化合物、ハイドロタルサイト類、金属水酸化物及びカルボン酸金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の中和剤 - 特許庁

A photosensitive resin composition for an etching resist contains (component A) a polymer having a monomer unit (a1) having a residue in which a carboxy group or a phenolic hydroxyl group is protected by an acid-decomposable group and a monomer unit (a2) having an epoxy group and/or an oxetanyl group, (component B) an optical acid-generating agent, and (component C) a solvent.例文帳に追加

（成分Ａ）カルボキシ基又はフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（ａ１）と、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位（ａ２）とを有する重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤、を含むことを特徴とするエッチングレジスト用感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (C) a nitrogen-containing compound having at least one specified nitrogen-containing partial structure in one molecule.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定の窒素含有部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and decomposes by the effect of an acid to increase the solubility in an alkali developer and (C) an oligoalkyleneglycol dialkylether compound expressed by a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の構造で表されるオリゴアルキレングリコールジアルキルエーテル化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The catalyst comprises (A) an oxide catalyst component such as ceria, (B) at least one kind of noble metal catalyst component selected from platinum, rhodium, palladium, and oxides of them, and (C) solid acid and/or solid acid supporting the oxide of at least one kind of element selected from vanadium, tungsten, molybdenum, copper, iron, cobalt, and nickel.例文帳に追加

本発明による触媒は、（Ａ）セリア等の酸化物触媒成分と、（Ｂ）白金、ロジウム、パラジウム及びこれらの酸化物から選ばれる少なくとも１種からなる貴金属触媒成分と、（Ｃ）固体酸及び／又はバナジウム、タングステン、モリブデン、銅、鉄、コバルト、ニッケルから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を担持した固体酸とからなる。 - 特許庁

This cosmetic for body includes (A) 0.005-10 wt.% of one or more kinds of the pearling agents selected from glycol ester of a higher fatty acid, a higher fatty acid and a higher alcohol, (B) 0.1-2 wt.% of a polyethylene glycol having average molecular weight of 1,000-20,000 and (C) 10-50 wt.% of ethanol.例文帳に追加

次の成分（Ａ）〜（Ｃ）、（Ａ）高級脂肪酸グリコールエステル、高級脂肪酸及び高級アルコールから選ばれる一種又は二種以上のパール剤０．００５〜１０重量％、（Ｂ）平均分子量が１０００〜２００００であるポリエチレングリコール０．１〜２重量％、（Ｃ）エタノール１０〜５０重量％を含有することを特徴とするボディ用化粧料。 - 特許庁

This sizing agent for papermaking comprises a water-dispersible or water-soluble cationic polymer, which is obtained by copolymerizing (B) a styrene with (C) an acrylic acid or an methacrylic acid aminoalkyl ester in the presence of (A) at least one kind of a rosin-based resin selected from the group consisting of rosin esters and fortified rosin esters and subjecting the copolymer to a cationization treatment, as an active ingredient.例文帳に追加

(Ａ)ロジンエステル類、及び強化ロジンエステル類からなる群より選ばれたロジン系樹脂の少なくとも一種の存在下に、(Ｂ)スチレン類と、(Ｃ)アクリル酸又はメタクリル酸のアミノアルキルエステルとを共重合反応させ、カチオン化処理した水分散性又は水溶性ロジン結合型カチオン性重合体を有効成分とする製紙用サイズ剤である。 - 特許庁

This thermoplastic polyester resin composition is obtained by compounding 100 pts.wt. of a thermoplastic polyester resin (A) with 0.1-10 pts.wt. of a carboxylic acid reactive group-containing polymer (B-1) and/or a compound (B-2) containing plural oxazoline groups in the molecule and 0.01-5 pts.wt. of a carboxylic acid anhydride (C).例文帳に追加

本発明の熱可塑性ポリエステル樹脂組成物は、熱可塑性ポリエステル樹脂（Ａ）１００重量部に対して、０．１〜１０重量部のカルボン酸反応性基を有する重合体（Ｂ−１）および／または分子中に複数のオキサゾリン基を有する化合物（Ｂ−２）と、０．０１〜５重量部のカルボン酸無水物（Ｃ）とを配合してなることを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of tricyclo[5.2.1.0^2,6]dec-3-en-8 (or 9)-ol comprises subjecting dicyclopentadiene to a hydration reaction in the presence of a solid acid catalyst, where the solid acid catalyst is used in an amount of 3.0-10 times the weight of water and the hydration reaction is carried out at 50-150°C.例文帳に追加

ジシクロペンタジエンを固体酸触媒の存在下に水和反応させてトリシクロ〔５．２．１．０^２，６〕デカ−３−エン−８（又は９）オールを製造する方法において、固体酸触媒を水に対して３．０〜１０倍重量用い、５０〜１５０℃で水和反応させることを特徴とする、トリシクロ〔５．２．１．０^２，６〕デカ−３−エン−８（又は９）オールの製造方法。 - 特許庁

The radiation sensitive composition is composed of [A] a copolymer of (a1) unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic acid anhydride, (a2) an epoxy group containing unsaturated compound and (a3) an olefinic unsaturated compound other than (a1) or (a2), [B] a polymerizable compound with an ethylenic unsaturated bond, [C] radiation sensitive polymerization initiator and [D] colorant.例文帳に追加

感放射線性組成物は、［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物、並びに（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物、の共重合体、［Ｂ］エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、［Ｃ］感放射線重合開始剤、並びに［Ｄ］着色剤からなる。 - 特許庁

This adhesion imparting agent is obtained by carrying out a grafting reaction of an unsaturated carboxylic acid or an unsaturated carboxylic acid anhydride in an amount within the range of 0.01-50 mol% based on 100 mol% of the main chain part with a modified homopolymer or a modified random copolymer having ≤25°C glass transition temperature and further modifying the resultant graft reactional sites with a specific alkoxysilane compound.例文帳に追加

ガラス転移温度が２５℃以下の変性単独重合体またはランダム共重合体に、不飽和カルボン酸または不飽和カルボン酸無水物を主鎖部分１００ｍｏｌ％に対して、０．０１〜５０ｍｏｌ％の範囲でグラフト反応させ、さらに該グラフト反応部位を特定のアルコキシシラン化合物で変性して得られる接着付与剤。 - 特許庁

The coating fluid for the positive resist restrained from occurrence of defects is prepared by dissolving a polymer having hydroxystyrene units having the hydroxyl groups protected with acid-dissociable groups and having the nonprotected hydroxy groups and an acid generator into a solvent mixture comprising propyleneglycol monoalkyl ether acetate and an excess amount of hydroxyl organic solvent having a boiling point of 80-200°C.例文帳に追加

（Ａ）水酸基が酸解離性基で保護されたヒドロキシスチレン単位と水酸基が保護されていないヒドロキシスチレン単位とを有する重合体及び（Ｂ）酸発生剤を、（Ｃ）プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートと過剰量の沸点８０〜２００℃のヒドロキシル系有機溶剤とからなる混合溶剤に溶解させて、ディフェクト抑制ポジ型レジスト塗布液とする。 - 特許庁

The non-ionically stabilized epoxy resins ABC-containing aqueous radiation-curable binder contains a constitution block of a polyethylene glycol-modified epoxy resin A, an epoxy resin B containing no polyethylene glycol group, and an olefinic unsaturated acid C wherein at least 50% of all the reaction products obtained from the epoxy resins A and B contains at least one ester group formed by reaction of the terminal epoxy group with the olefinic unsaturated acid C.例文帳に追加

ポリエチレングリコールで変性されたエポキシ樹脂Ａと、ポリエチレングリコール基を含まないエポキシ樹脂Ｂと、オレフィン性不飽和酸Ｃとの構成ブロックを含み、エポキシ樹脂ＡおよびＢから得られれた全ての反応生成物の少なくとも５０％が、末端のエポキシ基とオレフィン性不飽和酸Ｃとの反応によって形成された、少なくとも１個のエステル基を含むことを特徴とする、非イオン性に安定化されたエポキシ樹脂ＡＢＣを含む水性放射線硬化性バインダー。 - 特許庁

The negative type photosensitive resin composition contains an alkali-soluble resin (A), a photo-acid initiator (B) and a compound having a methylol group (C), in which the alkali-soluble resin (A) is preferably a polyamide resin containing the structure expressed by a specific formula and the compound having the methylol group (C) is a compound having ≥2 methylol groups.例文帳に追加

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、メチロール基を有する化合物（Ｃ）を含むことを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物であり、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、一般式（１）で示される構造を含むポリアミド樹脂であることが好ましく、またメチロール基を有する化合物（Ｃ）が、メチロール基を２つ以上有する化合物であることが好ましい。 - 特許庁

The method for producing glycolic acid comprises filling aqueous dichloromethane prepared by mixing and/or dissolving dichloromethane into acidic to neutral water in a sealed reactor in such an amount as to substantially fill up the reactor with the aqueous dichloromethane in the liquid state at a reaction temperature of 200°C to 250°C and performing hydrothermal reaction at the temperature.例文帳に追加

密閉反応容器に、酸性乃至中性の水にジクロロメタンを混合および／または溶解して調製したジクロロメタン水を、２００℃〜２５０℃の範囲内の反応温度において容器の内部が液相状態のジクロロメタン水によって実質的に満たされる量以上充填し、当該温度で水熱反応を行うことを特徴とする。 - 特許庁

This epoxy resin powder coating material has (A) an epoxy resin, (B) an aromatic acid anhydride curing agent, and (C) an inorganic filler as the essential components, and comprises (D) a silane coupling agent as the adhesion improver, and preferably uses calcium silicate as the inorganic filler (C) and trimethoxysilane as the silane coupling agent (D).例文帳に追加

エポキシ樹脂（Ａ）、芳香族系酸無水物硬化剤（Ｂ）および無機充填剤（Ｃ）を必須成分とし、密着性向上剤としてシラン系カップリング剤（Ｄ）を配合し、好ましくは無機充填剤（Ｃ）として珪酸カルシウム、シラン系カップリング剤（Ｄ）としてトリメトキシシラン化合物を使用するすることを特徴とするエポキシ樹脂粉体塗料。 - 特許庁

The alkali negative developing photosensitive resin composition is characterized in comprising (a) a photosensitive polyimide precursor having aromatic and alicyclic skeletons and soluble with an alkali aqueous solution because of having a reactive unsaturated functional group and an acid functional group, (b) an addition polymerizable compound containing a reactive unsaturated functional group as a substituent, and (c) a photosensitive agent.例文帳に追加

(a)芳香族および脂環式骨格を有し、かつ反応性不飽和官能基および酸官能基を有することでアルカリ水溶液に可溶である感光性ポリイミド前駆体(b)置換基として反応性不飽和官能基を含む付加重合性化合物、及び(c)感光剤からなることを特徴とするアルカリネガ現像型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The lubricating oil composition comprises (a) 100 parts wt. of an isoparaffin that contains no olefin-based hydrocarbon and has 68-330 °C distillation temperature range and 0.30-15.8 mm^2/s kinematic viscosity at 40°C and (b) 0.02-1.5 parts wt. of a methacrylic acid ester selected from lauryl methacrylate, myristyl methacrylate, stearyl methacrylate and behenyl methacrylate.例文帳に追加

（イ）オレフィン系炭化水素を含まない蒸留温度範囲が６８〜３３０℃であって、４０℃の動粘度が０．３０〜１５．８ｍｍ^2 ／ｓであるイソパラフィン１００重量部、並びに、（ロ）メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ミリスチル、メタクリル酸ステアリル、及び、メタクリル酸ベヘニルから選ばれるメタクリル酸エステル０．０２〜１．５重量部を含有する潤滑油剤組成物とする。 - 特許庁

Provided is a detergent composition comprising (A) an amphoteric surfactant, (B) an anionic surfactant, (C) a monoglycerol ester and/or a diglycerol ester of a fatty acid having a 9-18C acyl group, (D) a water-soluble alcohol having two or more hydroxy groups in the molecule, and (E) water and being in a bicontituos microemulsion phase at 25°C.例文帳に追加

（Ａ）両性界面活性剤と、（Ｂ）アニオン界面活性剤と、（Ｃ）炭素数９〜１８のアシル基を有する脂肪酸の、モノグリセリンエステル及び／又はジグリセリンエステルと、（Ｄ）分子内に２個以上の水酸基を有する水溶性アルコールと、（Ｅ）水とを含有し、２５℃においてバイコンティニュアスミクロエマルション相であることを特徴とする洗浄剤組成物である。 - 特許庁

The liquid sealing resin composition contains (A) an epoxy resin, (B) an acid anhydride, (C) an inorganic filler and (D) a curing accelerator as essential components, in which the (D) curing accelerator is a phosphonium salt-based curing accelerator and the (C) inorganic filler is contained in an amount of 80-95 wt.% based on the total liquid sealing resin composition.例文帳に追加

（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）酸無水物、（Ｃ）無機充填材、および（Ｄ）硬化促進剤を必須成分とし、前記（Ｄ）硬化促進剤がホスホニウム塩型硬化促進剤であり、前記（Ｃ）無機充填材が全液状封止用樹脂組成物に対して８０重量％以上９５重量％以下含まれる液状封止用樹脂組成物。 - 特許庁

An aromatic polycarbonate resin composition contains 0.1 to 30 pts.wt. of (C) the compatibilizer (component C) composed substantially of an acrylic component and having an epoxy group with respect to 100 pts.wt. of a resin component composed of 55 to 95 wt.% of (A) an aromatic polycarbonate resin (component A) and 5 to 45 wt.% of (B) a polylactic acid resin (component B).例文帳に追加

(Ａ)芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）５５〜９５重量％および(Ｂ)ポリ乳酸樹脂（Ｂ成分）５〜４５重量％からなる樹脂成分１００重量部に対し、（Ｃ）実質的にアクリル成分のみからなり、かつエポキシ基を含む相容化剤（Ｃ成分）を０．１〜３０重量部含有する芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。 - 特許庁

The polymerizable composition contains a compound containing an acrylic acid ester compound expressed by general formula (1) and having two or more unsaturated C-C bonds in the molecule, a compound containing at least one kind of a thiol compound expressed by a specific chemical formula and having two or more thiol groups in the molecule, and a polymerization initiator.例文帳に追加

一般式（１）で表されるアクリル酸エステル化合物を含有し、分子内に少なくとも２個以上の炭素—炭素不飽和結合を有する化合物と、特定の化学式で表されるチオール化合物の少なくとも一種を含有し、分子内に少なくとも２個以上のチオール基を有する化合物と、重合開始剤を含有してなる重合性組成物とする。 - 特許庁