「Exposure Stage」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a motor device which can adjust the temperature effectively, a stage apparatus, exposure apparatus, and a method of manufacturing device.例文帳に追加

効率的に温度調整が可能なモータ装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To measure wavefront aberrations of a projection optical system, without reducing the performance of a stage for exposure having a wafer.例文帳に追加

ウエハを搭載した露光用のステージの性能を低下させること無く、投影光学系の波面収差などの計測を実現する。 - 特許庁

To shorten a tact time by starting stepped movements of a substrate in an early stage without lowering exposure quality.例文帳に追加

露光品質を低下させることなく、基板のステップ移動を早期に開始して、タクトタイムを短縮する。 - 特許庁

In either case, the surface of the photosensitive layer is preferably subjected to a hardly solubilizing treatment by immersing the surface into a developer prior to the exposure stage.例文帳に追加

また、いずれの場合にも、露光工程前に感光層の表面を現像液に浸し難溶化処理することが好ましい。 - 特許庁

To provide a soaking exposure device capable of recovering liquid on a substrate stage without scattering it by simplifying the structure of a liquid recovery port.例文帳に追加

液体回収口を簡素な構造として、基板ステージ上の液体を分裂させることなく回収することができる液浸露光装置を提供する。 - 特許庁

A light beam emitting from each light-emitting pixel exposes the photosensitive film on the exposure object held by the stage.例文帳に追加

各発光画素から放射された光が、ステージに保持された露光対象物上の感光膜を感光させる。 - 特許庁

To provide a stage for an exposure apparatus, which is equipped with a movable part of lightweight and high rigidity and can perform high accurate positioning with high acceleration/deceleration.例文帳に追加

軽量で高剛性な可動部を備え、高加減速で高精度位置決め可能な露光装置用ステージを提供する。 - 特許庁

BODY WITH PATTERN, POSITION MEASURING DEVICE, STAGE DEVICE, EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE, METHOD FOR MEASURING POSITION, AND EVALUATING METHOD例文帳に追加

パターン付き物体、位置計測装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法、位置計測方法、評価方法 - 特許庁

Exposure light E is partially transmitted, intercepted and emitted on a substrate 50 while moving synchronously with the substrate stage.例文帳に追加

基板ステージと同期して移動しながら、露光光Ｅを部分的に透光／遮光し基板５０上に照射させる露光装置。 - 特許庁

The exposure system includes a substrate stage 7 which mounts and moves a photosensitive substrate, and the alignment scope 6 of the triplex or more lens.例文帳に追加

感光基板を搭載して移動する基板ステージ７と、３眼以上のアライメントスコープ６とをそなえる。 - 特許庁

A moving mechanism moves one of the exposure object held on the stage and the condensing optical system with respect to the other.例文帳に追加

移動機構が、ステージに保持された露光対象物及び集光光学系の一方を他方に対して移動させる。 - 特許庁

This exposure system for exposing a substrate 5 via the immersion liquid 12 includes the stage 7 which holds the substrate 5 and moves.例文帳に追加

浸液１２を介して基板５を露光する露光装置は、基板５を保持し移動するステージ７を備える。 - 特許庁

A guide member 14 has an attracting function, and a dry plate 13 is accurately mounted at a reference position on an exposure stage 12.例文帳に追加

ガイド部材14に吸着機能を持たせ、乾板13を露光ステージ12上の基準位置に正確に装填する。 - 特許庁

In this image recording device, a photographed image becomes an elliptical marking ML by photographing an image while moving an exposure stage 16, although depending on a shutter speed at the time of photographing or the like.例文帳に追加

露光ステージ１６を移動しながら撮影すると、撮影画像は撮影時のシャッタースピード等にもよるが、長円形マークＭＬとなる。 - 特許庁

To provide an easy-to-assemble linear motor excellent in liquid-proofing properties, and to provide a stage apparatus, an exposure apparatus, and the like, employing it.例文帳に追加

防液性に優れると共に組立が容易なリニアモータ、これを用いたステージ装置、露光装置等を提供する。 - 特許庁

Likewise, in 101b, 101c, and 101d, the blanking and an electro-optic system are set, and further in 100c, 100d, and 100e, exposure is done as following the stage.例文帳に追加

同様に101b、101c、101dでブランキングと電子光学系設定、100c、100d、100eでステージ追従しながら露光を行う。 - 特許庁

Before injecting fluorescent slurry into a skirt part 1a, a resist film 3 is applied and formed, and after exposure, at the stage to develop the fluorescent slurry or at the trimming stage before exposure, surplus slurry deposited on the skirt 1a is exfoliated and removed.例文帳に追加

スカート部１ａの内面に、蛍光体スラリーを注入する前の段階においてレジスト膜を塗布形成しておき、露光後、蛍光体スラリーを現像する段階、若しくは露光前のトリミングの段階でスカート部１ａに付着した余剰スラリーを剥離除去する。 - 特許庁

STAGE DRIVE MECHANISM FOR WORKPIECE TRANSFER, WORKPIECE TRANSFER SYSTEM, WORKPIECE WRITING EQUIPMENT, WORKPIECE OPTICAL PROCESSOR, WORKPIECE EXPOSURE WRITING APPARATUS, DRIVE METHOD OF STAGE FOR WORKPIECE TRANSFER, WORKPIECE TRANSFER METHOD, WORKPIECE WRITING METHOD, WORKPIECE OPTICAL PROCESSING METHOD, AND WORKPIECE EXPOSURE WRITING METHOD例文帳に追加

ワーク搬送用ステージ駆動機構、ワーク搬送装置、ワーク描画装置、ワーク光学処理装置、ワーク露光描画装置、ワーク搬送用ステージの駆動方法、ワーク搬送方法、ワーク描画方法、ワーク光学処理方法及びワーク露光描画方法 - 特許庁

When the rotating amount of an image which reduces the axial aberration is set and the relative angular relation between a reticle (mask) stage and a wafer stage is set in accordance with the rotating amount, exposure and transfer can be performed with a small axial aberration and the exposure and transfer accuracy can be raised.例文帳に追加

軸上収差を小さくする像の回転量を設定し、レチクル（マスク）ステージとウェハステージの相対的な角度関係を、この回転量に応じて設定しておけば、小さな軸上収差で露光転写を行うことができ、露光転写精度を上げることができる。 - 特許庁

In that case, the position measurement accuracy of a required stage in each exposure process, an air conditioning influence degree by a stage operation or the feature of the exposure process executed before and after is taken into consideration to determine the priority of each air conditioning region and optimum air conditioning adjustment is executed.例文帳に追加

その際、各露光プロセスにおける必要なステージの位置計測精度やステージ動作による空調影響度、もしくは前後に行われる露光プロセスの特徴を考慮して、各空調領域の優先度を決定し、最適化した空調調整を行う。 - 特許庁

The substrate BP is exposed by arranging a positioning portion to position a palette 12 on an exposure stage 11, at the same time putting the substrate BP on the palette 12 having an engaging portion which engages to the positioning portion, and positioning the palette 12 on the exposure stage 11.例文帳に追加

パレット１２を位置決めする位置決め部を露光ステージ１１に設けるとともに、位置決め部に係合する係合部を有するパレット１２上に基板ＢＰを載置し、パレット１２を露光ステージ１１上に位置決めして基板ＢＰを露光する。 - 特許庁

The exposure apparatus includes: an illumination optical system which illuminates the precursor with exposure light; a projection optical system which projects the image of the precursor onto the substrate; an precursor stage which holds and drives the precursor, a substrate stage which holds and drives the substrate; and a position detection apparatus which detects the relative position between the precursor and the substrate.例文帳に追加

本発明の露光装置は、原版を露光光で照明する照明光学系と、原版の像を基板に投影する投影光学系と、原版を保持し駆動する原版ステージと、基板を保持し駆動する基板ステージと、原版と基板との相対位置を検出する位置検出装置とを備える。 - 特許庁

The exposure apparatus for executing exposure processing by using a substrate includes a stage moving in a predetermined space with a downflow supplied thereto while holding the substrate, a moving body moving in the predetermined space in accordance with the movement of the stage, and an exhausting device provided at the moving body and exhausting gas from the predetermined space.例文帳に追加

基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間を、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージの移動に応じて前記所定空間を移動する移動体と、前記移動体に設けられ、前記所定空間を排気する排気装置とを備える。 - 特許庁

To provide a scanning exposure device with a mask stage section capable of scanning in any of X and Y directions in synchronism with a substrate stage so that exposure can be performed, without having to vary the mounting direction of a photosensitive substrate.例文帳に追加

本発明は、感光基板の搭載する向きを変えることなく露光できるように、Ｘ方向又はＹ方向のどちらにも基板ステージと同期して走査が可能なマスクステージ部を備えた走査型露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The exposure apparatus for transferring different types of exposure patterns on a processed substrate having a photosensitive layer formed thereon includes at least a first substrate conveying means, a second substrate conveying means, a substrate receiving stage, an aligning means, an exposure section, a substrate carrying-out section, and a control means, wherein the exposure section comprises a plurality of exposure units.例文帳に追加

感光層が形成された処理基板に異種パターンを露光する露光装置であって、少なくとも第１の基板搬送手段と、第２の基板搬送手段と、基板受け取りステージと、アライメント手段と、露光部と、基板搬出部と、制御手段と、を具備しており、該露光部が複数の露光ユニットからなる。 - 特許庁

Exposure is performed at movement speed V that is slower than maximum speed Vmax, of a substrate stage 2 in a scanning direction in the exposure of each shot region.例文帳に追加

この場合に、各ショット領域の露光時の走査方向への基板ステージ２の移動速度Ｖを最高速度Ｖｍａｘよりも遅い速度で露光する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus or the like which can reduce the frequency of stage acceleration/deceleration without inducing a large increase in cost and can improve exposure accuracy as a result.例文帳に追加

コストの大幅な上昇を招かずにステージの加減速の回数を低減させることができ、その結果として露光精度を向上させることができる露光装置等を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device which materializes high productivity and superfine exposure by enabling high speed, high precision, high efficiency and also low generation of heat in a stage control or oscillation eliminating control by using an electromagnetic actuator.例文帳に追加

電磁アクチュエータを用いて高速、高精度、高効率かつ低発熱でステージ制御又は除振制御を可能とし、高い生産性と超微細化露光を実現する露光装置を提供すること。 - 特許庁

Since alignment processing can be performed by using a clean dummy substrate in the exposure unit side, contamination of a mechanism inside the exposure unit, such as substrate stage, can be reduced.例文帳に追加

露光ユニット側では清浄なダミー基板を使用してアライメント処理を実行できるため、基板ステージ等の露光ユニット内の機構の汚染を低減することができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of easily finding a defect due to division exposure in an early stage, its manufacturing method and a mask for the division exposure.例文帳に追加

分割露光に起因した不良を早期に簡便に発見することが可能な半導体装置とその製造方法、及び露光用マスクを提供すること。 - 特許庁

When the cleaning operation of the substrate stage or an alignment operation is performed in the exposure unit EXP, the cleaning substrate CW or the dummy substrate DW is conveyed from the substrate processing apparatus SP to the exposure unit EXP.例文帳に追加

露光ユニットＥＸＰ内にて基板ステージの洗浄作業またはアライメント作業を行うときには、基板処理装置ＳＰから露光ユニットＥＸＰにクリーニング基板ＣＷまたはダミー基板ＤＷを搬送する。 - 特許庁

The exposure apparatus feeds a body T to be exposed in a roll film shape having a prescribed width onto an exposure stage 50 and exposes the circuit pattern of a mask to the body to be exposed.例文帳に追加

露光装置は、所定幅を有するロールフィルム状の被露光体Ｔを露光ステージ５０上に送り込んで、マスクの回路パターンを被露光体に露光する露光装置である。 - 特許庁

An exposure correction button 302 indicating the correction stage number of exposure and a photographing mode selection button 303 instructing the selection of the photographing mode are placed under the monitor 301.例文帳に追加

露出値の補正段数を指示する露出補正ボタン３０２と、撮影モードの選択を指示する撮影モード選択ボタン３０３がモニタ３０１の下方に配置されている。 - 特許庁

To eliminate displacement and oscillation in structure and mirror cylinder polishing plate generated by stage scanning at the time of scanning exposure and improve throughput and exposure accuracy in the entire stepper.例文帳に追加

走査露光時のステージ走査により発生する構造体や鏡筒定盤の変位や振動を無くし、露光装置トータルのスループットや露光精度を向上させる。 - 特許庁

SWITCHING ELEMENT ABNORMALITY DETECTOR, PWM AMPLIFIER, MOTOR DRIVER, STAGE APPARATUS, EXPOSURE SYSTEM, DEVICE MANUFACTURED BY THIS EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

スイッチング素子異常検出装置、ＰＷＭ増幅器、モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、この露光装置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法 - 特許庁

Thus, since a space image can be measured in the same stage condition to an actual exposure, the exact image vibration measurement can be performed in the same circumstance to an actual exposure.例文帳に追加

これにより、実際に露光するときと同一のステージ状態で空間像を計測できるので、露光時と同様の環境下で正確な像振動計測を実現することが可能である。 - 特許庁

To provide a photomask and an exposure apparatus, capable of inspecting the presence of contamination on a photomask while the mask is mounted on a mask stage in an exposure machine.例文帳に追加

露光機内のマスクステージにマスクを装着した状態でフォトマスク上の異物の有無を検査することができるフォトマスク及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device for suppressing the number of correction/driving times of a substrate stage and a substrate chuck before precise measurement and improving device throughput and to provide a control method of the exposure device and a device manufacturing method.例文帳に追加

精密計測前の基板ステージ及び基板チャックの補正駆動回数を抑えて、装置スループットを向上させる露光装置、露光装置の制御方法、及びデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a multiple gradation mask having high transmittance of exposure light in a translucent part thereof and high in-plane uniformity in exposure light transmittance distribution, with which generation of substrate damage can be reduced at a mask manufacturing stage.例文帳に追加

マスク製造段階での基板ダメージの発生が少なく、透光部の露光光透過率が高く、かつ露光光透過率分布の面内均一性の高い多階調マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve such a problem that when a transparent film is exposed, high-definition patterning cannot be performed since resist is exposed as exposure light becomes reflected light which locally varies in intensity owing to presence of electrode wiring, the groove of an exposure stage, etc., as a base.例文帳に追加

透明膜を露光する際に、下地となる電極配線や露光ステージの溝等の存在により露光の光が局所的に強度が変動する反射光となってレジストを露光するため、高精細なパターニングができない。 - 特許庁

Further, a difference of the stage drive performance at the measuring position and the exposure position is corrected either or both in the substrate pattern position measuring step and the exposure step.例文帳に追加

そして、上記計測位置と上記露光位置でのステージ駆動特性の差を、該基板パターン位置計測工程と該露光工程のいずれかもしくは両方で補正する。 - 特許庁

To provide a transfer-type substrate stage of an aligner which is capable of transferring a tape substrate as an object of exposure and of arranging tape substrates of several sizes at an accurate position before an exposure operation is carried out.例文帳に追加

露光作業の対象物であるテープ基板を移送し、さまざまな大きさのテープ基板を露光作業前に正確な位置に配置させるようにする露光装置の移送式基板ステージを提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus in which positional shift due to pitching vibration caused by the movement of an exposure stage is corrected in every position of a recording head and distortion in an image to be drawn on a recording medium can be decreased.例文帳に追加

記録ヘッドの位置毎に露光ステージの移動によって発生するピッチング振動による位置ずれを補正し、記録媒体に描画される画像の歪みを低減させることができる露光装置を得る。 - 特許庁

To provide a liquid-immersion exposure method for ensuring the followability of an immersion liquid to the move of a wafer stage at a substrate edge in execution of liquid-immersion lithography treatment using a partial liquid-immersion exposure method.例文帳に追加

部分液浸露光法を用いた液浸リソグラフィ処理において、基板エッジ部での液浸液のウェハステージの移動に対する追従性を確保することができる液浸露光方法を提供する。 - 特許庁

After the exposure to the resin layer is completed, the height position of a stage 52 is finely adjusted during the period up to the exposure to the next resin layer to finely adjust the focus position corresponding to the observation result due to a monitor 43.例文帳に追加

当該樹脂層についての露光終了後、次の樹脂層に対する露光までの間にステージ５２の高さ位置を微調整することで、モニタ４３による観察結果に応じたフォーカス位置の微調整が行える。 - 特許庁