「"Exposure Stage"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A gradient of speed variation during speed reduction of the exposure stage is set to ≤400 mm/sec^2.例文帳に追加

露光ステージの減速時の速度変化の傾きを４００ｍｍ／ｓｅｃ^2 以下にすること。 - 特許庁

To provide a stage apparatus suppressing increase in the scale of the apparatus as a whole, or the weight of an exposure stage.例文帳に追加

装置全体の大型化や、露光用ステージの重量増加を抑えたステージ装置を提供する。 - 特許庁

When the second minimum size D_min2 is ≥1.3 time as large as the first minimum size D_min1, the exposure is carried out so that the exposure quantity of the second exposure stage is less than that of the first exposure stage.例文帳に追加

第２最小寸法Ｄ_min2が第１最小寸法Ｄ_min1の１．３倍以上になる場合に、第２露光工程の露光量が第１露光工程の露光量以下になるように行なう。 - 特許庁

To individually control the ambient temperature of each portion of an exposure stage, and at the same time, to prevent deterioration of transfer accuracy caused by the thermal deformation of the body of an aligner by monitoring the body temperature of the exposure stage.例文帳に追加

露光台の各部位の環境温度を個別に制御するとともに、露光台の本体温度を監視して装置本体の熱変形による転写精度の劣化を防ぐ。 - 特許庁

The exposure stage 6 is raised so that the work 2 presses against a photomask 9 by way of the spacer 1.例文帳に追加

そして、露光ステージ６を上昇させてワーク２をスペーサー１を介してフォトマスク９に押し当てる。 - 特許庁

When the position of the mask relative to the mask table is known, subsequent alignment on the exposure stage is performed in a shorter time.例文帳に追加

露光ステージでのその後の位置合せは、マスク・テーブルに対するマスクの位置が分かっている場合、より短い時間で行うことができる。 - 特許庁

The aligner has an exposure stage 4 used for executing exposure treatment, and an alignment stage 7 used for executing alignment and measurement.例文帳に追加

露光装置は、露光処理を実行するための露光ステージ４とアライメント計測を実行するためのアライメントステージ７を有する。 - 特許庁

In this embodiment, the heat shielding member 80 is mounted on the peripheral portion of the under surface of the exposure stage 36.例文帳に追加

本実施の形態では、露光ステージ３６の下面のうち、その周辺部分に遮熱部材８０を取り付けるようにしている。 - 特許庁

This is similarly applied to the positioning of the circuit board and the mask in an exposure stage for circuit formation.例文帳に追加

また、回路形成のための露光工程における回路基板とマスクの位置決めにおいても同様に適用する。 - 特許庁

The immersion exposure apparatus 100 includes the exposure stage 10, the outer peripheral stage 20, a projection lens 30, and a driving unit 40.例文帳に追加

液浸露光装置１００は、露光ステージ１０、外周ステージ２０、投影レンズ３０および駆動部４０を備えている。 - 特許庁

In peeling the substrate F from the exposure stage 18, the prescribed amount of air is ejected from exhaust holes 74 to structurally release the absorption state.例文帳に追加

また、露光ステージ１８から基板Ｆを剥離する場合、排気孔７４より所定量の空気を排出させ、吸着状態を構成的に解除する。 - 特許庁

To make a contribution to prevention of the degradation in the throughput of an exposure stage without degrading the quality of a device even if exposure regions are exposed partly in overlap.例文帳に追加

露光領域の一部を重複させて露光してもデバイスの品質を低下させず、また露光工程のスループット低下防止にも寄与する。 - 特許庁

A heat shielding member 80 is mounted on a part of an under surface (the surface opposite the moving stage 40) of the exposure stage 36.例文帳に追加

そして、露光ステージ３６の下面（移動ステージ４０と対向する面）の一部に遮熱部材８０を取り付ける。 - 特許庁

To provide an exposure device in which a center region 17 and a side region 19 of a tape 6 can be fixed to an exposure stage 2.例文帳に追加

テープ６の中央領域１７と側辺領域１９とを露光ステージ２に固定することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

The exposure adjusting part 20 generates the first to fifth exposure stage image data on the basis of the received image data.例文帳に追加

露出調整部２０は受信した画像データに基づいて第１〜第５の露出段階画像データを生成する。 - 特許庁

In either case, the surface of the photosensitive layer is preferably subjected to a hardly solubilizing treatment by immersing the surface into a developer prior to the exposure stage.例文帳に追加

また、いずれの場合にも、露光工程前に感光層の表面を現像液に浸し難溶化処理することが好ましい。 - 特許庁

A guide member 14 has an attracting function, and a dry plate 13 is accurately mounted at a reference position on an exposure stage 12.例文帳に追加

ガイド部材14に吸着機能を持たせ、乾板13を露光ステージ12上の基準位置に正確に装填する。 - 特許庁

In this image recording device, a photographed image becomes an elliptical marking ML by photographing an image while moving an exposure stage 16, although depending on a shutter speed at the time of photographing or the like.例文帳に追加

露光ステージ１６を移動しながら撮影すると、撮影画像は撮影時のシャッタースピード等にもよるが、長円形マークＭＬとなる。 - 特許庁

The exposure stage device is usable for various exposure devices, and an exposure stage used for an exposure device is constituted by providing a fine adjustment section 130, capable of tilting the deformed wafer 60 deformed into the concave wafer or convex wafer as a substrate to be exposed, vertically along both an X axis and a Y axis on a reverse surface of a substrate holder 150.例文帳に追加

各種の露光装置に使用できる露光ステージ装置であって、露光装置に使用した該露光ステージは、露光基板である凹型ウェハ又は凸型ウェハの変形した変形ウェハ６０をＸ軸、Ｙ軸とも上下に傾斜できる微調整部１３０を基板ホルダー１５０裏面に設けた。 - 特許庁

Then a work conveying mechanism 23 conveys the work W to an exposure stage WS and performs alignment so that positions of mark marks MAM and work marks WAM are aligned with each other, and while the exposure stage WS is moved, each exposure region on the work W is exposed in sequence.例文帳に追加

ついで、ワーク搬送機構２３が、ワークＷを露光ステージＷＳに搬送し、マスクマークＭＡＭとワークマークＷＡＭの位置が一致するように位置合わせを行ない、露光ステージＷＳを移動させながら、ワークＷ上の各露光領域を順次露光する。 - 特許庁

The substrate BP is exposed by arranging a positioning portion to position a palette 12 on an exposure stage 11, at the same time putting the substrate BP on the palette 12 having an engaging portion which engages to the positioning portion, and positioning the palette 12 on the exposure stage 11.例文帳に追加

パレット１２を位置決めする位置決め部を露光ステージ１１に設けるとともに、位置決め部に係合する係合部を有するパレット１２上に基板ＢＰを載置し、パレット１２を露光ステージ１１上に位置決めして基板ＢＰを露光する。 - 特許庁

The pattern forming method includes a first pattern 10a having a first minimum size D_min1, and a second pattern 10b having a second minimum size D_min2; and a first exposure stage of performing exposure using a Levenson type mask, and a second exposure stage of performing exposure using a halftone type mask.例文帳に追加

パターン形成方法は、第１最小寸法Ｄ_min1を有する第１パターン部１０ａと、第２最小寸法Ｄ_min2を有する第２パターン部１０ｂとを含むパターン形成方法であって、レベンソン型マスクを用いて露光を行なう第１露光工程と、ハーフトーン型マスクを用いて露光を行なう第２露光工程とを含む。 - 特許庁

The project exposure device 10 has an exposure optical system that projects a projected pattern formed on a photomask 14 on a substrate 32 on exposure stage 31 with exposure light.例文帳に追加

投影露光装置１０は、露光光を用いてフォトマスク１４に形成された透光パターンを露光ステージ３１上の基板３２に投影する露光光学系を有する。 - 特許庁

To prevent the outer peripheral edge of an organic film from peeling from a substrate when an immersion liquid is moved from the outer peripheral stage to the exposure stage of a liquid immersion exposure apparatus.例文帳に追加

液浸液を液浸露光装置の外周ステージから露光ステージに向かって移動させる際に、有機膜の外周端縁が基板から剥離することを防止する。 - 特許庁

To provide an exposure method and an exposure device that suppress temperature fluctuation of an exposure stage and a photo mask without affecting productivity and reduce variations in accuracy of total pitch of a product and transfer accuracy.例文帳に追加

生産性に影響を与えずに露光ステージ及びフォトマスクの温度変動を抑制し、製品のトータルピッチの精度や転写精度のバラツキを低減させる露光方法及び露光装置を提供するものである。 - 特許庁

To improve matching deviation precision in an actual exposure stage by applying a statistical model and predicting a matching deviation correction value.例文帳に追加

本発明は、統計モデルを適用することにより、合わせずれ補正値を予測し、実際の露光工程での合わせずれ精度を向上させることを目的とする。 - 特許庁

The exposure apparatus feeds a body T to be exposed in a roll film shape having a prescribed width onto an exposure stage 50 and exposes the circuit pattern of a mask to the body to be exposed.例文帳に追加

露光装置は、所定幅を有するロールフィルム状の被露光体Ｔを露光ステージ５０上に送り込んで、マスクの回路パターンを被露光体に露光する露光装置である。 - 特許庁

To provide an exposure method that improves throughput by optimizing focus measurement positions based upon a focus tolerance of a substrate in an exposure stage an exposure device; and device manufacturing method.例文帳に追加

露光工程の基板のフォーカス許容値からフォーカス計測位置を最適化し、スループットを向上させる露光方法、露光装置およびデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an XY step exposure device which is free of maldistribution of fine common defects in colored pixels etc., even when intervals of proximity exposure are set while an exposure stage is moved in steps.例文帳に追加

露光ステージをステップ移動させながら、近接露光の間隔の設定を行っても、着色画素などに微小な共通欠陥が偏在して発生しないＸＹステップ露光装置を提供すること。 - 特許庁

The electron beam EB is projected through an electron optical system 12 comprising a converging electron lens, various deflectors and a shaping aperture (not shown), and through a mask 13 to a substrate 17 supported on an exposure stage 16.例文帳に追加

電子ビームＥＢは、収束用の電子レンズや各種の偏向器や成形アパーチャ等（図示せず）を介する電子光学系１２、さらにマスク１３を介して露光ステージ１６に支持された基材１７に照射される。 - 特許庁

To protect an exposure stage or a vibration-proof damper against abnormal vibrations caused by the ripple noises of a PWM pulse width modulation motor driver in an aligner used for manufacturing semiconductors and liquid crystals.例文帳に追加

半導体、液晶露光装置において、ＰＷＭ変調用モータードライバーのリップルノイズによる露光ステージあるいは徐振ダンパーの異常振動を防止する。 - 特許庁

To solve such a problem that when a transparent film is exposed, high-definition patterning cannot be performed since resist is exposed as exposure light becomes reflected light which locally varies in intensity owing to presence of electrode wiring, the groove of an exposure stage, etc., as a base.例文帳に追加

透明膜を露光する際に、下地となる電極配線や露光ステージの溝等の存在により露光の光が局所的に強度が変動する反射光となってレジストを露光するため、高精細なパターニングができない。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus in which positional shift due to pitching vibration caused by the movement of an exposure stage is corrected in every position of a recording head and distortion in an image to be drawn on a recording medium can be decreased.例文帳に追加

記録ヘッドの位置毎に露光ステージの移動によって発生するピッチング振動による位置ずれを補正し、記録媒体に描画される画像の歪みを低減させることができる露光装置を得る。 - 特許庁

To shorten the time required for an exposure stage by controlling exposure position correction and timing of irradiation with exposure light without forming a two-dimensional image based upon a linear image.例文帳に追加

一次元画像に基づいて二次元画像を作成することなく露光位置補正の制御及び露光光の照射のタイミングの制御をすることによって、露光工程の時間短縮を可能とする。 - 特許庁

The mask 13 on the prestage of the exposure stage 16 is inclining by a specified angle θ against the irradiating surface of a wafer on the stage 16.例文帳に追加

この実施形態では露光ステージ１６前段のマスク１３が、ステージ１６上のウェハ照射面に対して所定角度θ傾けられた配置となっている。 - 特許庁

The driving unit 40 drives the outer peripheral stage 20 arranged at the periphery of the exposure stage 10 in an elevating/lowering direction relatively to a substrate 52 having the organic film 50 provided on its upper surface.例文帳に追加

駆動部４０は、露光ステージ１０の周囲に配置された外周ステージ２０を、有機膜５０が上面に設けられた基板５２に対して昇降方向に相対駆動する。 - 特許庁

Four units, an alignment state 21A, a wafer feed arm 21c, an exposure stage 11, and a wafer recovery arm 21d, out of various equipments comprising an exposure system are connected together into a transfer route in which a wafer can be circulated.例文帳に追加

露光装置を構成する各種機器のうち、アライメントステージ２１Ａ、ウエハ供給アーム２１ｃ、露光ステージ１１、ウエハ回収アーム２１ｄの四つのユニットを結び、ウエハが循環可能な搬送経路を想定する。 - 特許庁

To eliminate dispersion in the temperature in the cooling surface of a stage by allowing a cooling water for controlling temperature of a pattern mask in an exposure stage to flow in a cooling water bath provided over the entire surface of a substrate placement surface which is to be exposed in the stage.例文帳に追加

液晶表示装置のカラーフィルタパターンの露光方法において、基板ステージ内でガラス基板の温度制御を行う際の面内温度のばらつきを低減する手段を提供すること。 - 特許庁

Marking data stored in marking data memory 68 are given as an image ML' for which photographing environments (shutter speed, the moving velocity of the exposure stage 16 and the like) of a camera part 38 are taken into consideration.例文帳に追加

マークデータメモリ６８に記憶するマークデータを、カメラ部３８の撮影環境（シャッタースピード、露光ステージ１６の移動速度等）を加味した画像ＭＬ’とした。 - 特許庁

To prevent the occurrence of the display irregularity of a liquid crystal display by accurately forming a pattern even when a part having a different light reflectance is present on an exposure stage.例文帳に追加

露光ステージに光の反射率が異なる部分があっても、高精度のパターン形成を可能とし、液晶表示装置の表示ムラの発生を防止する。 - 特許庁

This exposure device 10 using a liquid crystal panel 30 as a light valve is provided with the panel 30 and a shutter mechanism 40 equipped with a shielding plate 42 on an optical path leading to the medium 1 on an exposure stage 50.例文帳に追加

ライトバルブに液晶パネル３０を用いた露光装置１０であって、液晶パネル３０と、露光ステージ５０上のメディア１に至る光路上に、遮蔽板４２を備えたシャッター機構４０が設けられている。 - 特許庁

The exposure stage 4 and alignment stage 7 can operate and execute the exposure treatment and alignment and measurement in a state where holding units for wafers are respectively fitted to the stages 4 and 7, independently.例文帳に追加

ここで、露光ステージ４とアライメント計測ステージ７はそれぞれ独立に動作可能であり、それぞれウエハが保持された保持ユニットを装着して露光処理とアライメント計測処理を独立して実行する。 - 特許庁

When deficiency takes place, the exposure is controlled by each color depending on the correction coefficient (exposure processing is applied to each color and the color balance adjustment circuit 3 is not adjusted) and the color balance adjustment is made in an exposure stage.例文帳に追加

不足時は露光量を補正係数に応じて各色毎に制御し（露光処理を色毎にし、この時に色バランス調整回路３は無調整とする）露光段階で色バランス調整を行う。 - 特許庁

A chuck transporting robot 12 fits a holding unit fitted to the alignment stage 7 to the exposure stage 4 by moving the unit to the stage 4 in a state where a wafer is held by and fixed to the unit.例文帳に追加

チャック搬送ロボット１２は、アライメントステージ７に装着された保持ユニットを、ウエハが保持、固定された状態を保ちながら露光ステージ４へ移動し、装着させる。 - 特許庁

To attain miniaturization by simplifying the constitution of an automatic feeding and discharging device for lithographic printing plates that supplies the lithographic printing plate to an exposure stage and discharges the lithographic printing plate having been exposed, to a next stage.例文帳に追加

露光工程へ供給し、また露光後の平版刷版を次の工程へ向けて排出するための平版刷版の自動給排装置の構成を簡素化して小型化する。 - 特許庁