「Exposure Stage」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目)

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Exposure Stageの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1021件

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例文

To improve throughput and exposure precision of an exposure apparatus by eliminating displacement and vibration of a structure and a lens barrel plate which are generated by stage scan at the time of a scan exposure.例文帳に追加

走査露光時のステージ走査により発生する構造体や鏡筒定盤の変位や振動を無くし、露光装置トータルのスループットや露光精度を向上させる。 - 特許庁

To disclose a method of exposing a substrate by which a second exposure process can be performed during a stage transfer time in a first exposure process, and to provide an exposure apparatus using the same.例文帳に追加

第１露光工程のステージ移送時間の間に第２露光工程を行うことができる基板の露光方法、及びこれを用いる露光装置が開示される。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of implementing exposure in a state where fluid is suppressed from flowing into the outside of a substrate stage by well forming a fluid penetration region in applying liquid penetration exposure to an edge region of a substrate.例文帳に追加

基板のエッジ領域を液浸露光する場合に良好に液浸領域を形成し、液体の基板ステージ外部への流出を抑えた状態で露光できる露光方法を提供する。 - 特許庁

When deficiency takes place, the exposure is controlled by each color depending on the correction coefficient (exposure processing is applied to each color and the color balance adjustment circuit 3 is not adjusted) and the color balance adjustment is made in an exposure stage.例文帳に追加

不足時は露光量を補正係数に応じて各色毎に制御し（露光処理を色毎にし、この時に色バランス調整回路３は無調整とする）露光段階で色バランス調整を行う。 - 特許庁

例文

To provide an exposure method and apparatus, and a device manufacturing method that can measure and correct a difference of a stage drive performance at a measuring position or at a measuring station and an exposure position or at an exposure station.例文帳に追加

計測位置または計測ステーションと露光位置または露光ステーションでのステージ駆動特性差を計測及び補正することができる露光方法及び露光装置、デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

Through this exposure method in an exposure process, a reticle 3 on a reticle stage 35 is scanned with respect an exposure light illuminating region 63, by which the pattern of the reticle 3 is transferred onto a wafer.例文帳に追加

露光時に、レチクルステージ３５上のレチクル３を露光光の照明領域６３に対して走査することで、レチクル３のパターンがウエハ上に転写される。 - 特許庁

This immersion exposure device includes: a stage for mounting a substrate to be subjected to exposure processing thereon; a projection lens located above the substrate; a shower head for supplying an immersion liquid between the substrate mounted on the stage and the projection lens; and a dummy wafer W1 mounted on the stage for cleaning the immersion liquid.例文帳に追加

液浸露光装置は、露光処理を行う基板を戴置するステージと、基板の上方に位置する投影レンズと、ステージに戴置された基板と投影レンズとの間に液浸液を供給するシャワーヘッドと、ステージに戴置され、液浸液を洗浄するダミーウェハＷ１と、を有する。 - 特許庁

In the scanning exposure method for scanning and exposing an image of a pattern formed in a reticle on a substrate via a projection optical system, the reticle pattern surface is measured in parallel with other inspection process which scans a reticle stage and a substrate stage in the same stage driving state as in exposure.例文帳に追加

レチクルに形成されたパターンの像を投影光学系を介して基板上に走査露光する走査露光方法において、レチクルステージ及び基板ステージを露光時と同じステージ駆動状態で走査させる他の検査工程と並行してレチクルパターン面測定を行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can eliminate distortion in a mask while keeping the mask on a mask stage when stress acts on the mask to induce distortion upon sucking and holding the mask to the mask stage, that increases reproducibility of the shape of the mask kept on the stage and that can carry out exposure transfer with high accuracy.例文帳に追加

マスクをマスクステージに吸着保持する時にマスクに応力が作用して歪みが生じた際、マスクステージにマスクを保持させた状態で歪みを解消することができ、保持されたマスク形状の再現性を高め、高精度の露光転写を行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

例文

When the exposure beam is not irradiated, the position of the counter stage is properly corrected so that a movement stroke of the counter stage for the exposure thereafter can be obtained by means of a correction device (45A1, etc.), and thereby the stroke length required for the counter stage can be shortened.例文帳に追加

また、露光ビームが照射されていないときには、補正装置（４５Ａ１等）によって適宜、その後の露光動作のためのカウンタステージの移動ストロークを確保するように、カウンタステージの位置が補正されるので、カウンタステージ用として確保しなければならないストローク長を短くすることができる。 - 特許庁

例文

The aligner PE comprises: a mask stage 10, a first substrate stage 11 capable of moving between an exposure position EP and a first standby position WP1, a second substrate stage 12 capable of moving between the exposure position EP and the second standby position WP2, and an irradiator 13.例文帳に追加

露光装置ＰＥは、マスクステージ１０と、露光位置ＥＰと第１待機位置ＷＰ１間で移動可能な第１基板ステージ１１と、露光位置ＥＰと第２待機位置ＷＰ２間で移動可能な第２基板ステージ１２と、照射装置１３と、を備える。 - 特許庁

In a stage member circulating apparatus 11 provided in a laser exposure apparatus 10, a plurality of sensors are disposed to detect the positional relation between a stage member 20 and a stage member 30.例文帳に追加

レーザー露光装置１０に備えられたステージ部材循環定装置１１では、複数のセンサが、ステージ部材２０とステージ部材３０との位置関係を検出できるように配置されている。 - 特許庁

A stage bed 5b is mounted on a scan stage guide 7b and is synchronized with the scan stage guide 7a during exposure to move while scanning in the opposite direction along the X direction.例文帳に追加

一方、ステージ台５ｂは、スキャンステージガイド７ｂに搭載されて、露光中スキャンステージガイド７ａと同期して、Ｘ方向に沿った反対方向にスキャン移動する。 - 特許庁

To measure the position of one direction of the rotational axis of a rotary table by using one interferometer in a stage apparatus equipped with the rotary table on the linear stage and an exposure device equipped with the stage apparatus.例文帳に追加

本発明は、リニアステージ上に回転テーブルを備えたステージ装置、および、このステージ装置を備えた露光装置に関し、回転テーブルの回転軸の１方向の位置を１つの干渉計により測定することを目的とする。 - 特許庁

The scanning direction of a stage to be placed with the substrate is set in accordance with the movable range where the stage moves and the scanning range where the stage moves in scanning exposure of the substrate.例文帳に追加

基板を載置するステージが移動可能な移動可能範囲と、基板を走査露光する際にステージが移動する走査範囲とに基づいて、ステージの走査方向を設定する。 - 特許庁

By projecting exposure light via liquid, a wafer W held by the slight movement stage WFS1 on a wafer stage (rough movement stage) is exposed to light.例文帳に追加

液体を介して露光光を投射することにより、ウエハステージ（粗動ステージ）上の微動ステージＷＦＳ１に保持されたウエハＷが露光される。 - 特許庁

To provide a liquid-immersion exposure apparatus which reduces restriction on movement patterns of a stage due to movement of a liquid on a substrate held with a certain stage to a substrate to be held with another stage.例文帳に追加

液浸露光装置において、一つのステージに保持された基板上の液体を他のステージに保持される基板に移動させることに伴うステージの移動パターンの制約を低減する露光装置を提供する。 - 特許庁

When a plurality of predetermined positions on the substrate W are to be exposed, the work stage feeding mechanism 2 relatively moves the work stage 2 with respect to the mask stage 1 while keeping the exposure gap between the substrate W and the mask M.例文帳に追加

基板Ｗ上の複数の所定位置で露光する際、ワークステージ送り機構２は、基板ＷとマスクＭとの間の露光ギャップを保持したまま、ワークステージ２をマスクステージ１に対して相対移動する。 - 特許庁

This slit plate is provided on a spatial image sensor to be attached on a wafer stage in order to align a reticle stage and the wafer stage in an exposure apparatus.例文帳に追加

本発明によるスリット板は、露光装置において、レチクルステージとウェハステージとを位置合せするためにウェハステージに取り付けられる空間像センサに備わる。 - 特許庁

The blur of the sample region is avoided even when the start period of exposure for an imaging device is prior to the stop time point of a sample stage by making a stage follow to the sample stage.例文帳に追加

サンプルステージに対してステージを追従させることで、撮像素子に対する露光の開始時期をサンプルステージの停止時点よりも前としても、サンプル部位のぶれを回避する。 - 特許庁

To eliminate dispersion in the temperature in the cooling surface of a stage by allowing a cooling water for controlling temperature of a pattern mask in an exposure stage to flow in a cooling water bath provided over the entire surface of a substrate placement surface which is to be exposed in the stage.例文帳に追加

液晶表示装置のカラーフィルタパターンの露光方法において、基板ステージ内でガラス基板の温度制御を行う際の面内温度のばらつきを低減する手段を提供すること。 - 特許庁

To provide stage equipment capable of suppressing vibration efficiently by improving a control accuracy of the stage equipment, and an exposure device preparing this stage equipment.例文帳に追加

ステージ装置の制御精度を向上させ、振動を効果的に抑制することができるステージ装置、及びこのステージ装置を備える露光装置を提供する。 - 特許庁

In the narrow-band laser device for the exposure device with an oscillation-stage laser (MO) 10 and an amplification-stage laser (PO) 20, a ring resonator composed of an OC 24 and high reflecting mirrors 5a, 5b and 5c is fitted to the amplification-stage laser 20.例文帳に追加

発振段レーザ（ＭＯ）１０と増幅段レーザ（ＰＯ）２０を備えた露光装置用狭帯域レーザ装置において、増幅段レーザ２０にＯＣ２４，高反射ミラー５ａ．５ｂ，５ｃからなるリング共振器を設ける。 - 特許庁

A chuck transporting robot 12 fits a holding unit fitted to the alignment stage 7 to the exposure stage 4 by moving the unit to the stage 4 in a state where a wafer is held by and fixed to the unit.例文帳に追加

チャック搬送ロボット１２は、アライメントステージ７に装着された保持ユニットを、ウエハが保持、固定された状態を保ちながら露光ステージ４へ移動し、装着させる。 - 特許庁

This exposure system comprises a stage pedestal composed of a magnetic material, a stage 1002 on which a wafer is loaded and which moves on the stage pedestal in a vacuum environment, fluid bearings 1027 that float the stage 1002 from the stage pedestal by pressurized fluid, magnet units 1028 that apply attractive forces between the stage pedestal and the stage 1002, and an electromagnetic lens.例文帳に追加

この露光装置は、磁性体からなるステージ定盤と、基板を載置しステージ定盤に沿って真空内を移動するステージ１００２と、ステージ定盤からステージ１００２を加圧流体により浮上させる流体軸受け１０２７と、ステージ定盤とステージ１００２との間に吸引力を作用させる磁石ユニット１０２８と、磁界レンズとを備える。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of reducing a tact time through simultaneous exposure transfer of a substrate and loading of the substrate to a substrate stage, and achieving precise exposure transfer without influence of vibration caused by loading of the substrate on exposure accuracy.例文帳に追加

基板の露光転写と基板ステージへの基板のローディングとを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板のローディング時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

The device for manufacturing a semiconductor device includes: a stage information acquisition part for acquiring, as stage information, information for specifying an exposure stage used in exposing a object wafer to be heated from an exposure unit including a plurality of exposure stages each used for mounting a wafer thereon; and a temperature setting part for setting the heating temperature of a heating device for heating the object wafer.例文帳に追加

ウエハを載置する露光ステージを複数有する露光機から、加熱対象ウエハの露光時に用いられた前記露光ステージを特定する情報を、ステージ情報として取得するステージ情報取得部と、前記加熱対象ウエハの加熱を行う加熱装置の加熱温度を設定する温度設定部とを具備する。 - 特許庁

Two areas, namely an exposure area and an alignment area, are provided, an exposure stage and an alignment stage are provided at each of them, each stage is driven by each plane motor in which the drive means is separated and independent, and respective wafer mounting sections are exchanged, thus performing the exposure operation and alignment operation continuously in parallel.例文帳に追加

本発明は、露光エリアとアライメントエリアの二つのエリアを設け、それぞれに露光ステージ部とアライメントステージ部を設け、さらにそれぞれのステージの駆動を駆動手段が分離独立したそれぞれの平面モーターで行い、互いのウエハ搭載部を交換することにより、連続的に露光動作とアライメント動作を平行作業させるようにした。 - 特許庁

An exposure apparatus has a three-stage structure in which laser diodes f2, f4 are installed on an upper stage chassis s3, a lower second stage is used as a ventilation space to discharge heat, and optical fibers e2, e4 are led outside the side plates i3, i4 not exposed to wind and introduced to an optical system n in a first stage.例文帳に追加

３段構造とし、上段シャーシｓ３上にレーザダイオードｆ２，ｆ４を設置し、その下の２段目を通風空間として排熱し、光ファイバーｅ２，ｅ４を風の当たらない側板ｉ３，ｉ４の外側を通して一段目の結像光学系ｎへ導いた。 - 特許庁

In the stepwise movement of the substrate stage, the stand-by time from the time when the position change from the target position where the substrate stage should stop is in a predetermined tolerance, until the time when exposure of the mask pattern image onto each exposure region of the photosensitive substrate is started is controlled depending on the time for exposure onto each exposure region on the photosensitive substrate.例文帳に追加

基板ステージのステッピング移動において基板ステージの停止すべき目標位置からの位置変動が所定の許容範囲内に収まった時点から感光性基板上の各露光領域へのマスクのパターンの像の露光を開始する時点までの待機時間を感光性基板上の各露光領域への露光時間に基づいて制御する。 - 特許庁

The exposure device includes: a light source unit 10 for at least projecting exposure light; a mask holding frame 20 holding an exposure mask; a stage 30 temporarily holding the base material to be treated having a photoresist layer formed thereon; and a control means 40 controlling the operation and control of the exposure device, wherein an absorption layer 31 is provided on the surface of the stage 30.例文帳に追加

少なくとも露光光を照射するための光源部１０と、露光マスクを保持するマスク保持枠２０と、フォトレジスト層が形成された処理基材を一時的に保持するステージ３０と、露光装置の動作、制御を司る制御手段４０とを有する露光装置であって、前記ステージ３０の表面に吸収層３１を設けた露光装置である。 - 特許庁

The pattern forming method includes a first pattern 10a having a first minimum size D_min1, and a second pattern 10b having a second minimum size D_min2; and a first exposure stage of performing exposure using a Levenson type mask, and a second exposure stage of performing exposure using a halftone type mask.例文帳に追加

パターン形成方法は、第１最小寸法Ｄ_min1を有する第１パターン部１０ａと、第２最小寸法Ｄ_min2を有する第２パターン部１０ｂとを含むパターン形成方法であって、レベンソン型マスクを用いて露光を行なう第１露光工程と、ハーフトーン型マスクを用いて露光を行なう第２露光工程とを含む。 - 特許庁

To provide an exposure device for measuring the positions of a mask stage and a substrate stage and their attitudes, with accuracy, in a horizontal plane without being influenced on cut-off of measuring laser light, being arranged near the mask stage and the substrate stage, suppressing the difference in the thermal expansions between a mask and a substrate, by making environment temperatures substantially similar and attaining high-accuracy exposure.例文帳に追加

測定用レーザー光の遮断に影響されることなく、マスクステージと基板ステージの位置及び水平面内での姿勢を高精度で測定可能であるとともに、マスクステージと基板ステージを近接して配置して、環境温度を略同じにしてマスクと基板の熱膨張の差を抑制することができ、高精度な露光を実現する露光装置を提供する。 - 特許庁

The exposure apparatus for executing exposure processing by using a substrate includes a stage moving in a predetermined space with a downflow supplied thereto while holding the substrate, an irradiation device for irradiating the stage with light for position detection, and a gas moving device for moving gas on a movement route of the stage to a position deviated from the light path in accordance with the movement of the stage.例文帳に追加

基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間を、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージに位置検出用の光を照射する照射装置と、前記ステージの移動に応じて前記ステージの移動経路上の気体を前記光の光路から外れた位置に移動させる気体移動装置とを備える。 - 特許庁

An electron beam exposure device 100 has a deflecting means 119 for deflecting the electron beam, a stage position detecting means 43 for detecting the position of the wafer stage, and a stage position calculating means 44 for calculating moving speed of the wafer stage from a moving distance of the wafer stage detected by the stage position detecting means and time required for the movement.例文帳に追加