「Exposure Stage」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The exposure apparatus is equipped with the exposure head and a stage 152 to relatively move the exposure head with respect to the photosensitive material 150.例文帳に追加

露光装置は、露光ヘッドと、この露光ヘッドを感光材料１５０に対して相対移動させるステージ１５２を備える。 - 特許庁

To provide a technology capable of achieving exposure determination of determining whether it is appropriate an exposure and composition confirmation, at an early stage during exposure.例文帳に追加

適正露出であるか否かの露光判定と早期の構図確認とを露光中において実現することが可能な技術を提供する。 - 特許庁

When the second minimum size D_min2 is ≥1.3 time as large as the first minimum size D_min1, the exposure is carried out so that the exposure quantity of the second exposure stage is less than that of the first exposure stage.例文帳に追加

第２最小寸法Ｄ_min2が第１最小寸法Ｄ_min1の１．３倍以上になる場合に、第２露光工程の露光量が第１露光工程の露光量以下になるように行なう。 - 特許庁

To provide a stage device which prevents a relative positional shift between a stage and a board during the scanning of the stage, an exposure apparatus that uses the stage device, and a device manufacturing method that uses the exposure apparatus.例文帳に追加

ステージの走査中に、ステージと基板との間の相対位置ずれを防ぐステージ装置、これを用いる露光装置、及びその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF DESIGNING DRIVER, METHOD OF DESIGNING STAGE DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING STAGE DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE APPARATUS AND STAGE DEVICE例文帳に追加

駆動装置の設計方法、ステージ装置の設計方法、ステージ装置の製造方法、露光装置の製造方法、およびステージ装置 - 特許庁

Further, the exposure apparatus includes a relay stage DRST that can deliver the fine movement stage WFS1 to/from the coarse movement stage WCS1.例文帳に追加

また、露光装置は、粗動ステージＷＣＳ１との間で、微動ステージＷＦＳ１の受け渡しが可能なリレーステージＤＲＳＴを備えている。 - 特許庁

To provide a stage device capable of reducing the heat produced when driving a coarse motion stage and of replacing a fine motion stage, and to provide an exposure apparatus.例文帳に追加

粗動ステージの駆動に伴う発熱を低減し、微動ステージの交換を可能とするステージ装置及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a stage device capable of suppressing the enlargement of size of the stage device, and an exposure device employing the stage device.例文帳に追加

ステージ装置の大型化を抑えることができるステージ装置およびこのステージ装置を用いた露光装置を提供する。 - 特許庁

To perform exposure correction so as to obtain correct exposure by detecting abnormality of exposure time at a stage before exposure even if actual exposure time is not detected inexpensively in small space.例文帳に追加

少スペースかつ低コストで実際の露光時間を検出しなくても、露光する前の段階で露出時間の異常を検知し、露出補正を加え適正な露出を得るようにする。 - 特許庁

To provide an exposure method using a structure of moving a stage that mounts an exposure substrate, by which exposure time can be reduced by exposure in a time period matching the degree of pattern roughness to be exposed and to provide an exposure apparatus.例文帳に追加

露光基板を搭載したステージを移動させる構造の露光方法であって、露光すべきパターンの粗細の程度に見合った時間で露光を行うことで、露光時間の短縮することのできる露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

When reduction projecting exposure is conducted by a scanning exposure system, large acceleration is required for the stage RST, and hence the stage RST at a scanning exposure time and a wafer stage WST can be highly accelerated at its speed, and the throughput can be improved by shortening the scanning exposure time.例文帳に追加

走査露光方式により縮小投影露光を行う場合は、レチクルステージＲＳＴに大きな加速度が要求されるので、走査露光時のレチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴの高加速度化、高速化が可能となり、走査露光時間の短縮によりスループットの向上が可能である。 - 特許庁

The exposure apparatus includes: moving to an exposure position by mechanical operations of a light-shielding mask or a substrate stage on the basis of the information about a medium to be exposed by referring to a position set by a single alignment; stopping at the set exposure position; and carrying out exposure, after moving to the exposure position, under exposure conditions calculated by an exposure condition calculating mechanism.例文帳に追加

被媒体情報をもとに、１回のアライメントで設定した位置を基準として、遮光マスク又は基板ステージの機械動作によって露光位置へ移動し、設定した露光位置で停止し、露光位置に移動した後、露光条件算出機構で算出された露光条件をもとに露光を行う。 - 特許庁

To provide an exposure device and an exposure method by which exposure of a substrate for transferring an image and conveyance of the substrate onto and from a substrate stage are simultaneously carried out to reduce a cycle time, and influences of vibration caused upon conveying the substrate in and out of the stage on the exposure accuracy are eliminated to perform high accuracy exposure and transfer.例文帳に追加

基板の露光転写と基板ステージへの基板の搬入及び搬出とを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板の搬入出時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

Exposure value distribution in the exposure field is comprehended as a map, while a reticle stage and the wafer stage 34 are scanned as in actual exposure operation by repeating measurements at the respective measuring points 23.例文帳に追加

これを各測定ポイントで繰り返す事により、実際の露光動作のように、レチクルステージとウェーハステージのスキャンニングを行いながら、露光フィールド内の露光量分布をマップとして把握する。 - 特許庁

An exposure device PE comprises a first substrate stage 11 movable between an exposure position EP and a first standby position WP1, and a second substrate stage 12 movable between the exposure position EP and a second standby position WP2.例文帳に追加

露光装置ＰＥは、露光位置ＥＰと第１待機位置ＷＰ１間で移動可能な第１基板ステージ１１と、露光位置ＥＰと第２待機位置ＷＰ２間で移動可能な第２基板ステージ１２と、を備える。 - 特許庁

To provide an exposure device including an exposure processing section for exposure processing and an alignment stage section for performing alignment, in which the alignment stage is made compact and inexpensive as much as possible.例文帳に追加

露光処理を行う露光処理部と位置合せを行うアライメントステージ部とを備えた露光装置において、アライメントステ一ジをできるだけ小型化、低コスト化すること。 - 特許庁

To provide a substrate stage in which evaporation heat associated with the evaporation of liquid LQ is reduced; exposure equipment and an immersion exposure method using the substrate stage; and a device manufacturing method using the immersion exposure method.例文帳に追加

液体ＬＱの蒸発に伴う気化熱の発生を低減した基板ステージと、基板ステージを用いた露光装置、及び液浸露光方法、並びにデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

An exposure apparatus 100 has a third fine movement stage position measurement system which can measure positional information of the stage WFS2 when the stage WFS2 is carried from the measurement station 300 to the exposure station 200.例文帳に追加

露光装置１００は、ステージＷＦＳ２が計測ステーション３００から露光ステーション２００へ搬送される際、このステージＷＦＳ２の位置情報を計測可能な第３の微動ステージ計測系を有する。 - 特許庁

To provide a stage system which can reduce the fluctuating amount of a gap that occurs when a mobile stage section moves in steps, and to provide an exposure apparatus which is provided with the stage system and can be improved in throughput and exposure accuracy.例文帳に追加

ステージ可動部がステップ移動した時に発生するギャップ変動量を低減できるステージ装置、および該ステージ装置を備えてスループットおよび露光精度の向上が可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

The project exposure device 10 has an exposure optical system that projects a projected pattern formed on a photomask 14 on a substrate 32 on exposure stage 31 with exposure light.例文帳に追加

投影露光装置１０は、露光光を用いてフォトマスク１４に形成された透光パターンを露光ステージ３１上の基板３２に投影する露光光学系を有する。 - 特許庁

The beam is guided to a second exposure object W2 during the stage transfer time for the first exposure object W1, to perform the second exposure process on the surface of the second exposure object W2.例文帳に追加

第１露光対象物Ｗ１に対するステージ移送時間の間、光を第２露光対象物Ｗ２に誘導して、第２露光対象物Ｗ２の表面に第２露光工程を行う。 - 特許庁

To provide a scanning exposure apparatus causing no variations in exposure even when the scanning speed of a substrate stage changes.例文帳に追加

本発明は、基板ステージの走査速度が変動した場合にも露光むらが生じることがない走査型露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a device and method for charged particle beam exposure by which exposure can be performed while a stage is operated for acceleration and deceleration.例文帳に追加

ステージの加減速運転中も露光を可能とした荷電粒子線露光装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The substrate stage is structured so that a substrate is positioned in order to receive the exposure beam from the exposure portion of a lithography system.例文帳に追加

基板ステージは、リソグラフィシステムの露光部分からの露光ビームを受け取るために基板を位置決めするように構成される。 - 特許庁

The substrate stage 106 positions a substrate 112 to receive exposure beams from an exposure portion of the lithography system 200.例文帳に追加

基板ステージ１０６は、リソグラフィシステム２００の露光部分からの露光ビームを受け取るために基板１１２を位置決めするように構成される。 - 特許庁

To shorten the time until exposure or a process starts, when a substrate stage moved between below a substrate processing system and below an exposure optical system.例文帳に追加

基板ステージが基板処理系下方と露光用光学系下方との間で移動したときに、露光または処理を開始するまでの時間を短縮する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of improving the degree of freedom in dummy exposure without causing scale-up of a wafer stage or thermal deformation.例文帳に追加

ウエハステージの大型化や熱変形を招くことなく、ダミー露光の自由度を向上させることができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a stage apparatus, an exposure apparatus, a cleaning method and a device manufacturing method, that can suppress an exposure defect.例文帳に追加

露光不良を抑制できる、ステージ装置、露光装置、洗浄方法及びデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a stage device, an exposure device, a cleaning method, and a device manufacturing method that can suppress an exposure defect.例文帳に追加

露光不良を抑制できる、ステージ装置、露光装置、クリーニング方法及びデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate stage for exposure device which suppresses the deflection of a printed circuit board and performs highly precise exposure.例文帳に追加

プリント配線基板のたわみを抑制し、精度の高い露光を行える露光装置基板ステージを提供する。 - 特許庁

To provide a stage apparatus and an exposure apparatus that suppress defective exposure, and a method for manufacturing a device.例文帳に追加

本発明は、露光不良を抑制できるステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

To make a contribution to prevention of the degradation in the throughput of an exposure stage without degrading the quality of a device even if exposure regions are exposed partly in overlap.例文帳に追加

露光領域の一部を重複させて露光してもデバイスの品質を低下させず、また露光工程のスループット低下防止にも寄与する。 - 特許庁

To provide a mask capable of suppressing an exposure defect, a stage device, an aligner, an exposure method, and a device manufacturing method.例文帳に追加

露光不良を抑制できるマスク、ステージ装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

When the stage transfer is completed, the beam is further guided to the surface of the first exposure object W1 to further perform the first exposure process.例文帳に追加

ステージ移送が終了されると、光は更に第１露光対象物Ｗ１の表面に誘導され、第１露光工程が更に行われる。 - 特許庁

To provide an exposure system and an exposure method which carries out positional control on a stage device more precisely.例文帳に追加

ステージ装置の位置制御をより精密に行うことが可能な露光装置及び露光方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure device in which a center region 17 and a side region 19 of a tape 6 can be fixed to an exposure stage 2.例文帳に追加

テープ６の中央領域１７と側辺領域１９とを露光ステージ２に固定することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

The exposure adjusting part 20 generates the first to fifth exposure stage image data on the basis of the received image data.例文帳に追加

露出調整部２０は受信した画像データに基づいて第１〜第５の露出段階画像データを生成する。 - 特許庁

To provide a reflection mask-type charged particle beam exposure system, where a mask and a sample table stage are kept horizontal in position, and exposure can be easily controlled.例文帳に追加

マスクおよび試料台のステージが水平で露光量の制御が容易な反射マスク型荷電粒子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure system which can make accurate exposure and transfer even when an MM type linear motor is used for moving a stage.例文帳に追加

ＭＭ型のリニアモータをステージの移動に使用する場合であっても、正確な露光転写が行える荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

OUTPUT CONTROLLER, MOTOR DRIVE GEAR, STAGE SYSTEM, EXPOSURE SYSTEM, DEVICE MANUFACTURED BY MEANS OF THE EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

出力制御装置、モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、この露光装置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法 - 特許庁

The exposure apparatus has a transmitter T for transmitting the electric power used for exposure processing between the stage 4 and the nozzle 70 without any contact.例文帳に追加

ステージ４とノズル７０との間で露光処理に用いる電気性用力を非接触で伝送する伝送装置Ｔを備える。 - 特許庁

To improve the exposure accuracy of a substrate in a method wherein the scanning exposure of the substrate is carried out even when accelerating the stage.例文帳に追加

ステージの加速中にも基板を走査露光する方式において、基板の露光精度を向上させる。 - 特許庁

Then the drive stage 34 of the exposure stage 32 shifts the chuck stage 33 stepwise in a step shift amount L to position the substrate 51 with the photosensitive material at a second exposure position, and the irradiation optical system 40 irradiates the substrate 51 with exposure light through the mask 36.例文帳に追加

次に、露光ステージ３２の駆動ステージ３４によりチャックステージ３３をステップ移動量Ｌだけステップ移動させて感光材付き基板５１を第２の露光位置に位置付けた後、感光材付き基板５１へ向けて照射光学系４０によりマスク３６を介して露光光を照射する。 - 特許庁

After a drive stage 34 of an exposure stage 32 positions a substrate 51 with a photosensitive material at a first exposure position by moving a chuck stage 33, an irradiation optical system 40 irradiates the substrate 51 with exposure light through a mask 36.例文帳に追加

露光ステージ３２の駆動ステージ３４によりチャックステージ３３を移動させて感光材付き基板５１を第１の露光位置に位置付けた後、感光材付き基板５１へ向けて照射光学系４０によりマスク３６を介して露光光を照射する。 - 特許庁

The exposure apparatus includes a work stage holding a substrate as an exposure object, a mask stage 1 holding a mask M having a mask pattern as opposing to the substrate, and an irradiating means (exposure illumination optical system) irradiating the substrate with light for mask pattern exposure through the mask M.例文帳に追加

この露光装置は、被露光材である基板を保持するワークステージと、マスクパターンを有するマスクＭを基板に対向させて保持するマスクステージ１と、マスクパターン露光用の光をマスクＭを介して基板に照射する照射手段（露光用照明光学系）とを備えている。 - 特許庁