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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Isotropicの意味・解説 > Isotropicに関連した英語例文

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Isotropicを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 798



例文

On the supposition of isotropic shrinkage of the resin, the coefficient αn of linear expansion is calculated from a specific volume change (Vn-V0) at every time Δt (S36).例文帳に追加

樹脂の等方性収縮を仮定し、時間刻みΔtでの比容積変化(V_n−V_0)から線膨張係数α_nを計算する(S36)。 - 特許庁

To improve electro-optical response and display characteristics in a liquid crystal display apparatus using an optical isotropic liquid crystal material.例文帳に追加

光学等方液晶材料を用いた液晶表示装置において、電気光学応答と表示特性とを改善することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a quantum dot in which the quantum dot is formed in an isotropic shape on an InP substrate by an MBE method.例文帳に追加

MBEによりInP基板上に等方的な形状の量子ドットを形成することのできる量子ドットの製造方法を提供する。 - 特許庁

The Sn pellet (droplet) 22 is a pellet of relatively low mass, and generates substantially isotropic EUV 30 when irradiated with a laser light beam 13.例文帳に追加

Snペレット(液滴)22は、比較的低質量のペレットであって、レーザ光線13が照射されると、略等方性のEUV30を生成する。 - 特許庁

例文

To obtain isotropic crystal grains by growing a crystal in many directions even if using a laser oscillator which emits a linearly polarized laser beam.例文帳に追加

直線偏光のレーザ光を出射するレーザ発振器を用いても、多数の方向に結晶成長させて等方的な結晶粒を得る。 - 特許庁


例文

In the HIP step S5, the hot isotropic pressing treatment is conducted at a temperature not lower than the glass transition temperature of the glass and not higher than the firing temperature.例文帳に追加

HIP工程S5では、ガラスのガラス転移温度以上且つ上記焼成温度以下の温度で熱間等方圧プレス処理を行う。 - 特許庁

To provide a method of forming a wiring pattern at high density while mainly using isotropic etching suitable for mass-production but inappropriate for high density of a wiring pattern.例文帳に追加

量産に適する等方性エッチングを主に用いて配線パターンを形成する方法では配線パターンの高密度化が困難である。 - 特許庁

To provide a self-fastening type sealing device resolving a weak point of manually operating a fastening force applying device, and an isotropic pressure device.例文帳に追加

締付力付与装置を手動で操作することの欠点を解消した自己締付け型シール装置及び等方圧加圧装置を提供すること。 - 特許庁

To provide light-weight and inexpensive retardation plates (anisotropic retardation plate and isotropic retardation plate) excellent in various characteristics including optical characteristics.例文帳に追加

光学的特性を始めとする諸特性に優れ、軽量で安価な位相差板(異方性位相差板および等方性位相差板)を提供する。 - 特許庁

例文

The isotropic medium layer 51 and the anisotropic medium layer 52 are stacked in such a state that respective convex parts 53 are brought into tightly contact with respective concave parts 54.例文帳に追加

等方性媒体層51および異方性媒体層52は各凸部53と各凹部54とが密着した状態で積層されている。 - 特許庁

例文

To provide an optical element that improves frontal brightness of a planar lighting device using planar lighting elements having isotropic light emitting characteristics.例文帳に追加

等方光出射性を有する面状発光素子を用いた面状照明装置の正面輝度を向上させる光学素子を提供する。 - 特許庁

On one side of a wafer 10, formed with a piezoelectric oscillation element 18, a voltage application sheet 46 which is an isotropic conductive sheet is disposed.例文帳に追加

圧電振動素子18を形成してあるウエハ10の一方の側に、異方性導電シートからなる電圧印加シート46を配置する。 - 特許庁

The conductive adhesive layer 2 is formed from either of an isotropic conductive adhesive and an anisotropic conductive adhesive.例文帳に追加

導電性接着剤層2は、等方導電性接着剤および異方導電性接着剤の何れかの接着剤により形成されている。 - 特許庁

To provide a method for refining xenon difluoride to high purity to be used as an isotropic etching gas for manufacturing a semiconductor in the field of electronics.例文帳に追加

エレクトロニクス分野の中で半導体製造用等方性エッチングガスとして使用される高純度二フッ化キセノンの精製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of efficiently manufacturing xenon difluoride used as an isotropic etching gas for semiconductor manufacture in an electronic field.例文帳に追加

エレクトロニクス分野の中で半導体製造用等方性エッチングガスとして使用される二フッ化キセノンの効率的な製造方法を提供する。 - 特許庁

This piezo-resistance device can be formed by using isotropic etching, anisotropic chemical etching, and an insulation material growth.例文帳に追加

本発明によるデバイスは、等方性ウェットエッチングや、異方性化学的エッチングや、絶縁体材料成長プロセスを使用して、形成することができる。 - 特許庁

At least one lens 51 being provided in a projection objective lens 5 is composed of a birefringenece dispersion crystal where a dispersion curve for ordinary rays crosses that for extraordinary rays at isotropic wavelength.例文帳に追加

本発明によれば、光学システムは、等方点と、結晶(有利にはMgF_2)の複屈折が解消されるような波長を利用する。 - 特許庁

Then, the substrate is subjected to isotropic etching, and a first recessed part and a second recessed part are formed on the lower parts of the first openings and the second opening (step S14).例文帳に追加

次に、基板に対して等方性エッチングが行われ、第1開口および第2開口の下方に第1凹部および第2凹部が形成される(ステップS14)。 - 特許庁

The phase difference plate has the improved adhesion between the transparent base material 10 and optical isotropic layer 14 since the surface improving layer 11 is provided.例文帳に追加

本発明の位相差板は、表面改質層11を設けたため、透明基材10と光学異方性層14の密着性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a wafer processing tape which can be used in an expansion step for splitting an adhesive layer and has uniform and isotropic expansion property.例文帳に追加

接着剤層を分断するエキスパンド工程において使用可能な、均一且つ等方的な拡張性を有するウエハ加工用テープを提供すること。 - 特許庁

To provide a hot isotropic pressing device capable of supplying a large amount of heating power to a heater element and preventing damage due to overheating of the heater element.例文帳に追加

ヒータエレメントへの大加熱電力の供給が可能で、かつヒータエレメントの過熱による損傷を回避可能な熱間等方圧加圧装置を提供する。 - 特許庁

The connecting hole 18c is expanded so as to have an undercutting shape under the insulating film 14, by the isotropic wet etching using a buffered hydrofluoric acid.例文帳に追加

バッファードフッ酸等を用いる等方性ウェットエッチング処理により接続孔18cを絶縁膜14の下にアンダーカット形状を有するように拡大する。 - 特許庁

To solve various problems accompanying in the case a fan apparatus is used upon the rapid cooling and soaking of a treatment chamber in a hot isotropic pressurizing device.例文帳に追加

熱間等方圧加圧装置において、処理室の急速冷却や均熱化において、ファン装置を用いた場合に付随する種々の問題を解消する。 - 特許庁

The GFRP layer 90 is preferably laminated in an artificially isotropic shape, and is preferably arranged to be sandwiched by a collar part 34 of the base 3 and the CFRP layer 12.例文帳に追加

GFRP層90は、擬似等方積層されてなるとよく、また、口金3の鍔部34とCFRP層12とに挟まれるように設けられるとよい。 - 特許庁

Then, isotropic etching is performed, the side walls of the plurality of the recesses 14b formed in the plurality of the second openings 13b are removed, and second recesses 17 are formed.例文帳に追加

次に等方性エッチングを行い、複数の第2の開口部13bに形成された複数の凹部14bの側壁を除去し、第2の凹部17を形成する。 - 特許庁

In this way, a radial gas flow substantially isotropic in a horizontal direction while having an injection direction restricted in a vertical direction is generated above the substrate.例文帳に追加

これにより基板の上方には、上下方向に噴射方向が制限される一方、水平方向には略等方的な放射状のガス流が形成される。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device in which a display can be performed in an isotropic phase temperature range of a liquid crystal forming material and even in a nematic phase temperature range thereof.例文帳に追加

液晶形成材料の等方相温度領域及びネマティック相温度領域においても表示できる液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

The light illuminated to the reference member for calibration propagates while repeating isotropic scattering and is emitted from the peripheral surface of the reference member for calibration.例文帳に追加

較正用基準部材に照射された光は、等方散乱を繰り返しながら伝搬して、較正用基準部材の周面から放出される。 - 特許庁

To perform quick cooling by using a stirring fan even to a high temperature treatment without elevating manufacturing costs in a hot isotropic pressing device.例文帳に追加

熱間等方圧加圧装置において、製造コストを高騰させることなく、高温処理に対しても撹拌ファンを用いた急速冷却を可能とする。 - 特許庁

To provide a method which starts from wood charcoal as a starting material and produces a dense, compact, homogeneous and isotropic ceramic bodies containing a high content of silicon carbide.例文帳に追加

木炭から出発して、高い炭化珪素含有量を有し、密で、圧密で、均質な等方性セラミック成形体を製造するための方法を提供する。 - 特許庁

An isotropic etch is conducted through the each hole to form a corresponding cavity in the etchable material under the each hole and expanding under the support layer.例文帳に追加

各孔を通して等方性エッチングを行い、各孔の下のエッチング可能な材料中支持体層の下に広がる対応する空洞を形成する。 - 特許庁

In the second etching, etching is carried out under the condition where isotropic etching characteristics are strong, and the etching of the tungsten plug is not carried out so that tungsten residues can be completely removed.例文帳に追加

第2の過エッチングでは等方性エッチング特性が強い条件でエッチングし、タングステンプラグはエッチングされず、タングステン残留物を完全に除去する。 - 特許庁

To provide an ultrasonic wave vibrator that can oscillate an ultrasonic wave with an isotropic directivity and easily be manufactured at a low cost.例文帳に追加

異方向性の指向特性を有する超音波を発振できる超音波振動子を安価に容易に製造することができる超音波振動子を提供する - 特許庁

Lenses 3a, 4a, 5a of a light receiver side are arranged along a major axis of an isotropic light 2 emitted from a laser diode 1 at an optical transmitter side.例文帳に追加

光送信側のレーザダイオード1の発する異方性形状の光2の長軸に沿って、受光装置側のレンズ3a,4a,5aが並べられている。 - 特許庁

Isotropic etching (first process) is performed from the surface of a sample (silicon wafer) 20 provided with masks 21 and the rough shape of a tip part is prepared (b).例文帳に追加

マスク21を設けた試料(シリコンウェハ)20の表面から等方性エッチング(第1工程)を行って、先端部のある程度の形状を作成する(b)。 - 特許庁

To change a magnetically isotropic rare earth bond magnet, where Nd_2Fe_14B-based rare earth element magnet powder of pulverized melt span ribbon is fixed by resin, into high (BH) max.例文帳に追加

メルトスパンリボンを粉砕したNd_2Fe_14B系希土類磁石粉末を樹脂で固定した磁気的に等方性の希土類ボンド磁石の高(BH)max化。 - 特許庁

At the mixing step, anisotropic powder is mixed with reactive raw material powder, which is reacted with the anisotropic powder to produce an isotropic perovskite-type compound, to obtain a raw material mixture.例文帳に追加

混合工程においては、異方形状粉末と、これと反応して等方性ペロブスカイト型化合物を生成する反応原料粉末とを混合する。 - 特許庁

To provide a hot isotropic pressurization method in which the uniform heat property of a processing chamber in each stage which is arranged like multistage can be maintained with a simple constitution.例文帳に追加

容易な構成で多段状に配備された各段の処理室の均熱性を維持することが可能である熱間等方圧加圧方法を提供する。 - 特許庁

A first isotropic etchant is introduced into the opening parts (26) and the transparent material (14) on the exposed positions is etched to form initial lens shapes (28).例文帳に追加

開口部内に第1の等方性エッチャントを導入し、露出された個所の透過材料をエッチングすることにより、初期のレンズ形(28)が形成される。 - 特許庁

A photosensitive layer is formed on a film, followed to be heated up to an isotropic phase transition temperature or more, and is cooled thereafter to a glass phase-liquid crystal phase transition temperature or less.例文帳に追加

フィルムに感光性層を形成した後、これを等方相転移温度以上に加熱してからガラス相−液晶相転移温度以下に冷却する。 - 特許庁

The substrate is subjected to isotropic etching to remove the buffer layer exposed through the second apertures and to expose the side walls of the first apertures.例文帳に追加

次に、フォトレジスト層を前記基板上に形成し、その後、前記フォトレジスト層をパターン化し、前記バッファ層の一部を露出させる第2開口を形成する。 - 特許庁

The semiconductor substrate 1 is dug at the periphery of the base electrode 4 by isotropic etching using the resist film 5 as a mask to form a base mesa groove 6.例文帳に追加

レジスト膜5をマスクとした等方性エッチングにより、ベース電極4の周辺の半導体基板1を掘り込んでベースメサ溝6を形成する。 - 特許庁

The recipient prepares an 1/4 wavelength retarder and a Mach-zehnder interferometer where isotropic nonlinear optical material is arranged for one of two optical routes.例文帳に追加

受信者は、1/4波長遅相子と、2つの光経路のうち片方に等方的な非線形光学材料を配置したマッハ−ツェンダー干渉計を準備する。 - 特許庁

To apply the lattice Boltzmann method conventionally used for only use to analyze an isotropic diffusion phenomenon even to an anisotropic diffusion phenomenon.例文帳に追加

従来等方的な拡散現象を解析する用途のみに用いていた格子ボルツマン法を、非等方的な拡散現象に対しても適用できるようにする。 - 特許庁

The interlayer insulating film 106 is removed, until its thickness becomes 10-50% of its original thickness through anisotropic dry etching, and the remaining portion of the film 106 is removed by isotropic wet etching.例文帳に追加

異方性のドライエッチングで層間絶縁膜106の膜厚の50〜90%まで除去し、残りを等方性のウェットエッチングで除去する。 - 特許庁

This liquid crystal medium is characterized by comprising a chloronaphthalene ring-having liquid crystal compound and a chiral agent and exhibiting an optically isotropic liquid crystal phase.例文帳に追加

クロロナフタレン環を有する液晶化合物およびキラル剤を含有し、光学的に等方性の液晶相を発現することを特徴とする液晶媒体。 - 特許庁

In the burning step, the crystal-oriented ceramic composed of a polycrystal comprising an isotropic perovskite-type compound as a main phase is produced by heating the molded product.例文帳に追加

焼成工程においては、成形体を加熱し、等方性ペロブスカイト型化合物を主相とする多結晶体からなる結晶配向セラミックスを作製する。 - 特許庁

The liquid crystal medium is characterized by including a liquid crystal compound with a chlorobenzene ring and a chiral dopant and exhibiting an optically isotropic liquid crystal phase.例文帳に追加

クロロベンゼン環を有する液晶化合物およびキラル剤を含有し、光学的に等方性の液晶相を発現することを特徴とする液晶媒体。 - 特許庁

After a photosensitive film is formed on a film 2, the photosensitive layer is heated above isotropic phase transition temperature and then cooled below glass phase-liquid crystal phase transition temperature.例文帳に追加

フィルム2に感光性層を形成した後、これを等方相転移温度以上に加熱してからガラス相−液晶相転移温度以下に冷却する。 - 特許庁

例文

A trench 16 is then formed by irradiating the surface of the crystal substrate 11 with a laser beam and subjected to isotropic etching thus removing crystal defects.例文帳に追加

次いで上記結晶基板11の表面に、レーザ光を照射して溝16を形成し、この溝16を等方性エッチングにより結晶欠陥を除去する。 - 特許庁




  
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