「Isotropic」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The second light shielding layer 22 is subjected to over-etching by isotropic etching using an etchant having an etching rate to the second light shielding layer 22 greater than the etching rate to the first light shielding layer 21 using the resist mask.例文帳に追加

該レジストマスクを利用し、第１遮光層２１へのエッチングレートよりも、第２遮光層２２へのエッチングレートの大きいエッチング液を用いて、第２遮光層２２を等方性エッチングにてオーバーエッチングする。 - 特許庁

To provide an optically isotropic transparent crosslinked film excellent in surface hardness, having self supportability by itself, free from an interference fringe, and excellent in dimensional stability.例文帳に追加

本発明は、表面硬度に優れ、単独で自己支持性を有し、干渉縞がなく、さらには寸法安定性に優れ、光学的にも等方である透明架橋フィルムを提供せんとするものである。 - 特許庁

Or, a light irradiation layer containing a matrix consisting of the optical isotropic matter and a plurality of polarization sensitive scattering materials (PSSE) dispersed in it may be formed on the top face of the light guide plate.例文帳に追加

または、導光板の上面に、光学的等方性物質から成るマトリックスと、その中に分散された複数の偏光感応散乱材（ＰＳＳＥ）とを含む出光層が形成されていても良い。 - 特許庁

The polarized-light separating element 107 is composed of a surface relief diffraction grating which has cycles shorter than the wavelength of used light wave and a volume type hologram by combining a uniaxial prism and an isotropic prism together.例文帳に追加

偏光分離素子１０７は一軸性プリズムと等方性プリズムの組み合わせ、使用光波波長より短い周期を有する表面レリーフ回折格子、体積型ホログラムで構成される。 - 特許庁

Neutral chemical species generally provide higher isotropic and material-selective etching than charged particles, so that this magnetic field tends to increase etching isotropy and material selectivity.例文帳に追加

中性化学種は一般に、帯電粒子より等方性および材料選択性の高いエッチングを実現するので、本発明の磁場は、エッチングの等方性および材料選択性を高める傾向がある。 - 特許庁

A composition for resin-bonded magnet consists of magnetic powder of an isotropic magnetic field of 50 kOe or more and a resin binder and the resin binder contains a vinylester resin as its main component.例文帳に追加

磁性粉末の異方性磁場が５０ｋＯｅ以上である磁性粉末と、樹脂バインダーとからなる組成物であって、樹脂バインダーがビニルエステル樹脂を主成分とする樹脂結合型磁石用組成物。 - 特許庁

Subjecting a plurality of resins with refractive indexes different from one another to phase separation via spinodal decomposition and forming a light scattering layer bringing about isotropic scattering of incident light manufacture the light scattering sheet.例文帳に追加

光散乱シートは、互いに屈折率が異なる複数の樹脂をスピノーダル分解により相分離させ、入射光を等方的に散乱する光散乱層を形成することにより製造できる。 - 特許庁

The cathode composition is manufactured by mixing a fluorinated carbon produced by an anisotropic carbon and anisotropic carbon, and here, the anisotropic carbon is carbon fiber and the isotropic carbon is graphite.例文帳に追加

カソード組成物として、非等方性炭素と等方性炭素から製造されたフッ素化炭素を混合することによって製造され、この際、非等方性炭素は炭素繊維であり、等方性炭素はグラファイトである。 - 特許庁

To provide a polyimide excellent in transparency, an isotropic property and crack resistance (without cracks on forming multilayers, easy for forming the multilayers and having a good processing property) and an optical part excellent in optical properties.例文帳に追加

透明性、等方性及び耐クラック性（多層膜形成の時にクラックが発生することなく、多層化が容易で、加工性が良好）に優れたポリイミド並びに光学特性に優れた光部品を提供する。 - 特許庁

The optical sheet 50 comprises: an isotropic medium layer 51 which has a plurality of convex parts 53 having substantially triangular cross-section, respectively formed on a first surface S1, and is formed of optically isotropic medium; and an anisotropic medium layer 52 which has a plurality of concave parts 54 having substantially triangular cross-section, is respectively formed on a second surface S2, and is formed of optically uniaxially medium.例文帳に追加

光学シート５０は、それぞれほぼ三角形の断面を有した複数の凸部５３が第１表面Ｓ１に形成されているとともに、光学的に等方性の媒体で形成された等方性媒体層５１と、それぞれほぼ三角形の断面を有した複数の凹部５４が第２表面Ｓ２に形成されているとともに、光学的に一軸性の媒体で形成された異方性媒体層５２と、を備えている。 - 特許庁

A parallel part 140 being a part in a longitudinal direction of the fine channel 14 and parallel to the first substrate 11 is formed by a first recess part 111 and a second recession part 131 formed on the first substrate 11 and the second substrate 13 by isotropic etching respectively and a through hole 121 formed on the intermediate substrate 12 by isotropic etching and vertical width is made two times or more of lateral width.例文帳に追加

微細流路１４の長手方向の一部であって第１基板１１に平行な平行部１４０は、第１基板１１および第２基板１３上にそれぞれ等方性エッチングにより形成された第１凹部１１１および第２凹部１３１、並びに、中間基板１２に等方性エッチングにより形成された貫通孔１２１により形成され、縦幅が横幅の２倍以上とされる。 - 特許庁

With the photosensitive film 47 as a mask, patterning is performed so as to allow the second metallic layer 45 to have the smaller width W2 of 1 μm to 4 μm than the width W1 of the photosensitive film through the use of an isotropic wet etching method ((b) in Fig.5).例文帳に追加

感光膜４７をマスクとして第２金属層４５を等方性のウェットエッチング方法で感光膜の幅（Ｗ１）よりも１μｍ乃至４μｍ程度小さな幅（Ｗ２）にパターニングする（図５（ｂ））。 - 特許庁

When the inkjet head is arranged in the direction of the minor axis of the anisotropic cross-sectional shape, the nozzle pitch can be made smaller than that of an inkjet head (a) with an isotropic cross-sectional shape, based on a conventional technology.例文帳に追加

異方的な断面形状の短軸方向にこのインクジェットヘッドを配列すれば、従来技術の等方的な断面形状を有するインクジェットヘッド（ａ）に比べて、ノズルピッチを小さくすることが可能になる。 - 特許庁

A reinforcement 3 manufactured using a pseudo-isotropic fiber-reinforced resin is interposed at the mounting sections for the pole 21 and coping 22 which are manufactured using a draw-formed fiber-reinforced resin having the main fibers the directions of which are aligned with each other.例文帳に追加

主たる繊維の方向の一致した引抜成形繊維強化樹脂で製造した支柱２１や笠木２２の取り付け部に、擬似等方性の繊維強化樹脂で製造した補強材３を介在させる。 - 特許庁

A mask pattern for exposing partly a metallic silicide layer is formed, and the exposed part of the metallic silicide layer is etched in an isotropic way with a first etching solution to form a metallic silicide layer having a shallow groove.例文帳に追加

金属シリサイド層の一部が露出するマスクパターンを形成し、第１蝕刻液を使用して金属シリサイド層の露出した部位を等方性蝕刻して浅い溝が形成された金属シリサイド層を形成する。 - 特許庁

A first liquid crystal layer 11-a is formed in the barrier light shielding part 111, and a light-transmissive resin layer 12 having an isotropic refractive index approximately is formed on the second transparent electrode substrate 2 in the transmission part 112.例文帳に追加

バリア遮光部１１１には第１液晶層１１−ａが形成され、透過部１１２における第２透明電極基板２には屈折率が略等方性で、かつ透光性の樹脂層１２が形成されている。 - 特許庁

The supporting sections 20 and void sections 21 are formed by etching the substrate 1 through an etching process in which at least one isotropic etching step is performed prior to at least one anisotropic etching step.例文帳に追加

尚、支持部２０及び空隙部２１は少なくとも一回の等方性エッチング工程が少なくとも一回の異方性エッチング工程に先行してなるエッチング工程による基板１のエッチングによって作製される。 - 特許庁

Next, after the first inter-layer insulation film is partially removed with the isotropic etching process, the second inter-layer insulation film is evaporated on the first inter-layer insulation film to perfectly embed the gap between the gates 120.例文帳に追加

次に、第１層間絶縁膜を等方性エッチング法により部分的に除去した後、ゲート１２０間のギャップを完全に埋め込むように第１層間絶縁膜上に第２層間絶縁膜を蒸着する。 - 特許庁

The composition can, especially, obtain more isotropic heat conduction than ever, when the composition contains of a metal powder having a melting point of ≥ 500°C in an amount of 1-10 vol% and a low-melting alloy having a melting point of ≤ 500°C in an amount of 1-10 vol%.例文帳に追加

特に、融点が５００℃以上の金属粉を１〜１０ｖｏｌ％と、融点が５００℃以下の低融点合金を１〜１０ｖｏｌ％含むことにより、より等方的な熱伝導を得ることができる。 - 特許庁

Peak split of the emitted lights is eliminated by a light diffusion sheet arranged along the light-emitting face 33, and is changed to an illuminating output light with an isotropic and wide visual field angle before being supplied to the liquid crystal display panel.例文帳に追加

出射光のピークスプリットは、出射面３３に沿って配置される光拡散シートによって解消され、視野角が等方的で広い照明出力光となって液晶表示パネルに供給される。 - 特許庁

The airflow state of the air-conditioning fluid supplied to the indoor space through the supply opening is calculated on the basis of the isotropic volumetric pressure loss, the aperture ratio and height of the supply opening, and a prescribed parameter.例文帳に追加

そして、等方性体積圧力損失と、吹き出し口の開口率及び高さと、所定のパラメータに基づいて、吹き出し口を介して室内空間に供給される空調流体の気流状態を算出する。 - 特許庁

The plurality of polarization diffraction gratings 11 are disposed in one surface so that at least two kinds of directions in which the optical medium having birefringence and the isotropic medium are alternately arrayed are present.例文帳に追加

複数の偏光回折格子１１は、複屈折を有する光学媒質と等方性媒質とが交互に配列された方向が少なくとも２種類以上存在するように同一面内に配置されている。 - 特許庁

The grating type polarizing element 10 has a diffractive structure by alternately depositing a birefringent dielectric material 12 and another dielectric material (or overcoat material) 13 on an isotropic substrate 11.例文帳に追加

回折格子型偏光素子１０は、等方性基板１１上に、複屈折性誘電体材料１２と他の誘電体材料（あるいはオーバーコート材料）１３とが交互に積層し、回折構造を形成している。 - 特許庁

In an etching step after cutting a wafer 21, a semiconductor substrate 21 having been cut into a semiconductor chip 22 is disposed in a chamber for performing isotropic dry etching in a state that the substrate 21 is stuck on a sheet 411.例文帳に追加

ウェハ２１を割断した後のエッチング工程では、まず、半導体チップ２２に割断した後の半導体基板２１をシート４１に貼り付けた状態で、等方性ドライエッチングを行うチャンバー内に配置する。 - 特許庁

To provide a laser annealing method and a laser annealer where isotropic and uniform crystal grains can be obtained while using a solid laser advantageous on the aspect of costs and that of maintenance, and where throughput is improved.例文帳に追加

コスト面及びメンテナンス面で有利な固体レーザを用いつつ、等方的で均一な結晶粒を得ることができ、且つ処理能力を高めることができるレーザアニール方法およびレーザアニール装置を提供する。 - 特許庁

In the optical film comprising particles or liquid drops of an optically anisotropic substance dispersed inside an optically isotropic polymer matrix, the optical anisotropy of the optically anisotropic substance is realized by light irradiation.例文帳に追加

光学的等方性ポリマーマトリックスの内部に光学的異方性物質の粒子または液滴が分散している光学フイルムにおいて、光照射によって光学的異方性物質の光学的異方性を発現する。 - 特許庁

During dry etching of the carbon-contained film for forming a lower mold layer, a storage node hole having an outer diameter size that is larger in a lower part than in an upper part by using an isotropic etching characteristic of the carbon-contained film.例文帳に追加

下部モールド層の形成のための炭素含有膜のドライエッチング時、炭素含有膜の等方性エッチング特性を利用して、上部より下部でさらに大きい外径サイズを持つストレージノードホールを形成できる。 - 特許庁

A combined supporting plate 185 includes a negative uniaxial property of a first flat plate 88 and a positive uniaxial property of a second flat plate 89 canceling each other out, and functions as a pseudo-isotropic refraction material in combination.例文帳に追加

合成支持板１８５は、第１の平板８８が有する負の一軸性と、第２の平板８９が有する正の一軸性とを相殺したものであり、全体として擬似的な等方的屈折材料として機能する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device by which corners which are boundaries between side faces and a bottom face of concave portions can be rounded by carrying out isotropic dry etching after forming the concave portions such as trenches in a semiconductor layer.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において、半導体層にトレンチ等の凹部を形成した後に、等方性ドライエッチングをおこなうことにより、凹部の側面と底面との境界となる角部を丸めること。 - 特許庁

Since the photo resist pattern having a tapered cross section is formed, the cross section of the low reflectivity film 2 can be etched into a tapered shape by anisotropic etching, and hence is improved in dimensional controllability than by isotropic etching.例文帳に追加

また、断面にテーパーを有するフォトレジストパターンを形成したため、異方性エッチングにより低反射率膜２の断面をテーパー状にエッチング可能となり、等方性エッチングに比べ寸法制御性が向上する。 - 特許庁

Since the display device contains the cluster also in the liquid crystal phase-isotropic phase phase transition temperature of the liquid crystalline compound or more, the reduction of the Kerr constant effect associated with a temperature increase is suppressed.例文帳に追加

該表示装置は、上記液晶性化合物の液晶−等方相相転移温度以上の温度においても上記クラスタを含んでいることで、温度上昇に伴うカー定数の効果の低下が抑制される。 - 特許庁

Also, the imaging apparatus 1 performs isotropic two-dimensional smoothing image processing to the divided image in which the intrinsic noise has not been detected for each divided image of the black image under the control of the system control section 113.例文帳に追加

また、撮像装置１は、システム制御部１１３の制御の下、黒画像の分割画像の各々について、固有ノイズが検出されていない分割画像であれば等方性の２次元平滑化画像処理を行う。 - 特許庁

The tubular printing blanket is provided with a tubular printing layer, an isotropic tubular thermoplastic reinforcing layer located under the tubular printing layer, a compressible layer located under the tubular reinforcing layer, and a sleeve for supporting the compressible layer.例文帳に追加

チューブ型印刷層と、該チューブ型印刷層下の等方性のチューブ型熱可塑性補強層と、該チューブ型補強層下の圧縮可能な層と、該圧縮可能な層を支持するためのスリーブとが設けられている。 - 特許庁

An antioxidant film 3 and a pad oxide film 2 are removed by dry etching or the like in a step (d), and the pad oxide film 2 is made to retreat, and the exposed part of a silicon substrate 1 is removed through an isotropic etching method in steps (e) and (f).例文帳に追加

（ｄ）にて酸化防止膜３、パット酸化膜２をドライエッチング等により除去し、（ｅ）、（ｆ）にてパット酸化膜２を後退させ等方性エッチング法を用いて露出したシリコン基板１を除去する。 - 特許庁

Then, after a solvent is removed in a drying unit 4, the film 2 is sent to a heating unit 5 provided with a far-IR heater to heat the photosensitive layer to a temperature equal to or higher than the isotropic phase transition temperature of the photosensitive compound.例文帳に追加

次いで、乾燥部４で溶剤を除去した後、遠赤外線ヒータが設けられた加熱部５の中にフィルム２を送って、感光性層を感光性化合物の等方相転移温度以上に加熱する。 - 特許庁

To prevent decline in coverage of an insulating film by forming recessed sections on a first insulating film and, after forming a conductive film in accordance with the shapes of the recessed sections, burying second insulating films in the recessed sections, and etching the conductive film by isotropic etching by using the second insulating films as a mask.例文帳に追加

導電性を有するサイドウォールを除去する工程を削減することができるとともに、非晶質半導体層をエッチング除去する際に鋭角の部分が形成されないようにする。 - 特許庁

To provide a polymerizable liquid crystal composition which has an NI point in a temperature range suitable for producing patterned optical elements in two or more phase difference parts and two or more isotropic parts, and in which a precipitate or the like is not generated.例文帳に追加

複数の位相差部と複数の等方部にパターニングされた光学素子を生産する上で好適な温度範囲にＮＩ点を有し析出物等が発生しない重合性液晶組成物を提供する。 - 特許庁

The transparent conductive film layer sheet 5 may be provided further with: a transparent conductive film layer 3 formed on the optically isotropic sheet 7; and an adhesive layer 4 which is formed so that it may cover the transparent conductive film layer 3.例文帳に追加

透明導電膜層シート５は、光学等方性シート７の上に形成された透明導電膜層３と、その透明導電膜層３を覆うように形成された粘着層４とを更に備えていてもよい。 - 特許庁

In the optical film having an optically anisotropic discontinuous phase dispersed in an optically isotropic continuous phase, an amphipathic photochemical reactive compound is added to the optically anisotropic discontinuous phase.例文帳に追加

光学的等方性連続相の内部に光学的異方性不連続相が分散している光学フイルムにおいて、光学的異方性不連続相に両親媒性の光化学反応性化合物を添加する。 - 特許庁

An approximately spherical graphite particles, having a minute projection on its surface, are obtained when spherically diluted natural graphite and carbon black are mixed, are kneaded by adding an isotropic pitch, and is calcinated at 1000°C under an nonoxidizing atmosphere.例文帳に追加

球形に賦形した天然黒鉛とカーボンブラックを混合し、等方性ピッチを加えて混捏し、非酸化性雰囲気下１０００℃で焼成したところ、表面に微小突起を有する概略球形の黒鉛粒子を得た。 - 特許庁

These through grooves 404 are formed by an isotropic wet etching method using an HF solution.例文帳に追加

この構成により真空下におけるエッチング処理等によってデバイス収納部に達する開口を形成する際、デバイス収納部の雰囲気を外界と同様の雰囲気に保持し、デバイス収納部の急激な圧力変化を防止した。 - 特許庁

After that, the isotropic liquid is cooled down to 160°C, a liquid crystal phase comprised of one nematic liquid crystal in a liquid crystal phase comprised of another nematic liquid crystal provided with an optical anisotropy appears as spots.例文帳に追加

その後、この等方性液体を１６０℃まで冷却すると、ネマチック液晶からなる液晶相中に、他のネマチック液晶からなり、光学的異方性を具えた液晶相が斑点状に出現する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal medium which has good stability to heat, light and the like, a wide liquid crystal phase temperature range, large refractive index anisotropy, large dielectric constant anisotropy, and an optically isotropic liquid crystal phase.例文帳に追加

熱、光などに対する安定性、広い液晶相温度範囲、大きな屈折率異方性、大きな誘電率異方性を有し、光学的に等方性の液晶相を有する液晶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a graphite electrode for electric discharge machining composed of isotropic graphite for reducing the electrode consumption ratio, reducing roughness of a processing object surface, and useful for finishing processing; and its economically advantageous manufacturing method.例文帳に追加

電極消耗比が低く、被加工面の粗さが小さい、仕上げ加工用に有用な等方性黒鉛からなる放電加工用黒鉛電極および経済的に有利なその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A dielectric substance layer 3 made of a medium which is optically isotropic when applied with no electric field and optically anisotropic when applied with an electric field is provided between two substrates (substrates 1 and 2) facing each other.例文帳に追加

対向する２枚の基板（基板１および２）間に、電界無印加時には光学的に等方性を示し、電界印加によって光学的異方性を示す媒質からなる誘電性物質層３を設ける。 - 特許庁