「Isotropic」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a crystal-oriented ceramic which consists of isotropic perovskite-type potassium-sodium niobate as a basic composition and has excellent piezoelectric characteristics etc., and a highly oriented specific crystal plane, and its manufacturing method.例文帳に追加

等方性ペロブスカイト型ニオブ酸カリウムナトリウムを基本組成とし、優れた圧電特性等を示し、かつ特定の結晶面が高い配向度で配向した結晶配向セラミックス及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a conductive composition and a molded product (separator for a fuel cell) which have homogeneous fluid moldability even if there is less content of resin, in which electric resistance is low, and which have isotropic characteristics.例文帳に追加

樹脂含有量が少なくても均一な流動成形性を有するとともに、電気抵抗が低く、等方的特性を有する導電性組成物および成形体（燃料電池用セパレータ）を提供する。 - 特許庁

The optical element is formed as follows; at least a birefringent layer having a structure fixed while liquid crystalline monomers having polymerizable group on the terminals are homeotropically aligned is formed on the upper surface of the substrate having light transparency, further, an isotropic layer constituted from the liquid crystalline monomer is formed on the upper surface of the birefringent layer and an additive layer formed on the upper surface of the isotropic layer is removed.例文帳に追加

本発明は、光透過性を有する基材上面に、末端に重合性基を有する液晶性モノマーをホメオトロピック配向させた状態で固定化してなる構造を有する複屈折率層を少なくとも形成し、さらに複屈折率層上面に上記液晶性モノマーから構成される等方層が形成されていると共に上記等方層の上面に形成される添加剤層を除去することにより形成される光学素子である。 - 特許庁

This graphite electrode for the electric discharge machining composed of isotropic graphite, is characterized in that bulk density is set to 1.75 g/cm^3 or more, the electrode consumption ratio is set to 40 % or less, and surface roughness Ry of a workpiece is set to 20 μm or less.例文帳に追加

嵩密度が１．７５ｇ／ｃｍ^3 以上、電極消耗比が４０％以下、被加工物の表面粗さ（Ｒｙ）が２０μｍ以下であることを特徴とする等方性黒鉛からなる放電加工用黒鉛電極。 - 特許庁

A nonmagnetic material layer reflecting a projected part is formed on a lower magnetic pole having the projected part, a mask layer is formed around the projected part, and then a bent recessed part is formed by subjecting the nonmagnetic material layer to isotropic etching.例文帳に追加

凸部を有する下部磁極の上に凸部を反映した非磁性材料層を形成し、その凸部の周囲にマスク層を形成した後に、非磁性材料層を等方的にエッチングすることにより、湾曲状凹部を形成する。 - 特許庁

More specifically, a magnetic isotropic ferrite composition obtained by calcination is ground and thermally treated in an excess oxygen atmosphere of a pressure of 0.02 MPa (0.2 atm.) at a temperature of 750°C or higher to below 1,000°C to obtain the bonded magnet ferrite magnetic powder.例文帳に追加

詳細には、仮焼して得られた磁気等方性のフェライト組成物を粉砕し、次いで0.02MPa（0.2atm）超の過剰酸素雰囲気中、750℃以上1000℃未満の温度で熱処理することを特徴とする前記ボンド磁石用フェライト磁粉を用いる。 - 特許庁

A casting apparatus is constituted so that a molten metal is filled in a die 4 from a molten metal tank via a stoke 8, and then the molten metal is solidified in the die 4 to form the casting, wherein the die 4 is formed of isotropic graphite.例文帳に追加

溶融金属槽から溶融金属をストーク８を介して金型４に充填した後、この金型４内で溶融金属を凝固させて鋳物を成型する鋳造装置において、前記金型４を等方性黒鉛で作る。 - 特許庁

During the etching, a less amount of the protection film is deposited in the corners which are boundaries between the side faces and the bottom face of each concave section such as the trench, in ends of the concave portion, accelerating the isotropic etching by radicals of chemical species contained in the etching gas.例文帳に追加

これによって、エッチング中に、トレンチ等の凹部の終端部では、その側面と底面との境界となる角部に堆積する保護膜の量が減り、エッチングガス中の化学種のラジカルによって等方性エッチングが促進される。 - 特許庁

The anisotropic scattering element is made by dispersedly arranging domains 3 which are optically isotropic and have aspect ratio of ≥2 and ≤100 into a support medium, wherein the domains include particles having aspect ratio of ≥1 and <2.例文帳に追加

光学的に等方なアスペクト比２以上１００以下のドメイン３が支持媒体中に分散配列してなる異方性散乱素子であって、該ドメインがアスペクト比１以上２未満の粒子を含むことを特徴とする異方性散乱素子。 - 特許庁

The anisotropic light-scattering membrane comprises an optical anisotropic substance and an optical isotropic substance; and either of them is divided into minute regions, and the optical anisotropic substance contains a crystal phase.例文帳に追加

光学的異方性物質と光学的等方性物質とからなり、いずれか一方が微小領域に分断され、光学的異方性物質が結晶相を含有していることを特徴とする異方性光散乱膜である。 - 特許庁

The graphite heater uses an isotropic graphite having ≥1.7 g/cm3 bulk density, ≤1.5 μm average pore radius, ≤20 ppm total ash content and 12-19 mass % oxidation consumption ratio in air at 973K for 2.5 hours.例文帳に追加

そして、嵩密度が１．７ｇ／ｃｍ^3 以上、平均気孔半径が１．５μｍ以下、全灰分量が２０ｐｐｍ以下、且つ空気中、９７３Ｋ、２．５時間における酸化消耗率が１２〜１９ｍａｓｓ％の等方性黒鉛とする。 - 特許庁

After isotropic etching a substrate 31 on which a P+ type diffusion layer 35 is formed by using a resist film 37 of a pattern corresponding to the gate, an insulation film 43 sandwiching the P+ type diffusion layer 35 is formed on the substrate 31.例文帳に追加

Ｐ^+型拡散層３５を形成した基板３１に、ゲートに対応するパターンのレジスト膜３７を用いて等方性エッチングを施した後に、Ｐ^+型拡散層３５を挟む絶縁膜４３を基板３１上に形成する。 - 特許庁

The melt-down part 3 is formed with isotropic etching, and so it has a smaller sectional shape (cross section area) than conventional one which is formed with anisotropic etching, resulting in lower-voltage melt-down.例文帳に追加

溶断部３は、等方性エッチングによって形成されるので、その断面形状（断面積）を、従来用いられていた異方性エッチングによって形成されたものよりも小さくすることができ、より低電圧で溶断を行うことができる。 - 特許庁

In removing the defective layer 15, a fluorine element containing gas and oxygen gas are ionized at a substrate temperature of 200°C or less, and the inner surface 14a of the trench 14 is etched at about 5 nm by an isotropic etching by a generated radical.例文帳に追加

欠陥層１５の除去は、２００℃以下の基板温度でフッ素元素含有ガスおよび酸素ガスを電離させて発生したラジカルによる等方性エッチングにより溝１４の内表面１４ａを５ｎｍ程度エッチングする。 - 特許庁

The loop antenna may be planar and have a reduced size for ease of manufacture and use, and it may provide an isotropic radiating pattern at a predetermined operating frequency, whereby the need for antenna aiming may be avoided.例文帳に追加

ループ・アンテナは平面型であり、製造及び使用を容易にするために、削減されたサイズを有し得、所定の動作周波数における等方性放射パターンをもたらし得、これにより、アンテナ照準に対する必要性が避けられ得る。 - 特許庁

This method has (c) an anisotropic dry etching process of forming a predetermined pattern recess 20 by piercing the tunnel barrier layer 15 of a tunnel junction film 10a, and (d) an isotropic dry etching process of removing a sidewall deposit (22) of the recess 20.例文帳に追加

（ｃ）トンネル接合膜１０ａのトンネルバリア層１５を貫通して、所定パターンの凹部２０を形成する異方性ドライエッチング工程と、（ｄ）凹部２０の側壁付着物（２２）を除去する等方性ドライエッチング工程とを有する。 - 特許庁

A reversible recording method forms the crystallizing condition, in which the fore scattering strength is stronger than the rear scattering strength, by gradually cooling the recording material of the reversible recording medium from an isotropic phase or a liquid crystal phase.例文帳に追加

２．前記可逆記録媒体の記録材料を等方相又は液晶相から徐冷することにより、後方散乱強度より前方散乱強度の強い結晶状態を形成させることを特徴とする可逆記録方法。 - 特許庁

With this constitution, an offset region and an LDD region can be easily formed by utilizing double gate film process that utilizes the upper gate film, which serves as an auxiliary film, and an undercut shape that is the characteristic of isotropic etching.例文帳に追加

かかる構成により，オフセット領域やＬＤＤ領域を，補助膜的に機能する上部ゲート膜を利用した二重ゲート膜工程と等方性エッチングの特質であるアンダーカットの形状を利用して簡便に形成できる。 - 特許庁

The anisotropically shaped powder and the reactive raw powder are then mixed in amounts at a stoichiometric ratio giving an isotropic perovskite compound, and a Nb_2O_5 powder and/or a Ta_2O_5 powder were mixed thereto at a predetermined ratio.例文帳に追加

このとき、所定の組成の等方性ペロブスカイト型化合物が生成する化学量論比にて異方形状粉末と反応原料粉末とを混合し、さらに所定の割合でＮｂ_2Ｏ_5粉末及び／又はＴａ_2Ｏ_5粉末を混合する。 - 特許庁

The liquid crystal material has a phase system continuously showing an isotropic phase, a nematic phase, and a smectic A phase in this order as a temperature changes from a higher state to a lower state, and shows an electroclinic effect in the smectic A phase.例文帳に追加

この液晶材料は、高温状態から低温状態に向かって等方相、ネマチック相およびスメクチックＡ相をこの順に連続して示す相系列を有すると共に、そのスメクチックＡ相においてエレクトロクリニック効果を示す。 - 特許庁

The anisotropic diffusion part 4b is arranged in adjacency to a side edge part along the one direction of the isotropic diffusion part 4a, and diffuses the light incident from the plurality of light sources only to the direction along the one direction.例文帳に追加

異方性拡散部４ｂは、等方性拡散部４ａの前記一方向に沿った側縁部に隣接して配置され、且つ前記複数の光源より入射された光を前記一方向に沿った方向にのみ拡散する。 - 特許庁

The material for the spatial light modulator characterized in that its anisotropy of molecular polarizability is ≥15 atomic units and that the material attains an isotropic phase at a service temperature, the display material and the hologram display device using the display material.例文帳に追加

分子分極率異方性が１５原子単位以上で、かつ使用温度にて等方相をとることを特徴とする空間光変調器用材料、表示材料、および、前記表示材料を用いたホログラム表示装置。 - 特許庁

Polarized light separating elements (1, 11) each have a diffracting optical element which has a diffraction grating surface and is optically nearly isotropic and a liquid crystal layer which is adjacent to the diffraction grating surface and separates the illumination light into P- and S-polarized lights having mutually orthogonal planes of polarization.例文帳に追加

偏光分離素子(1,11)は、回折格子面を有し光学的に略等方な回折光学素子層と回折格子面に隣接する液晶層とを備え、照明光を偏波面が互いに直交するＰ，Ｓ偏光に分離する。 - 特許庁

As the surface 85 of the hot and cool plate 83 is heated and cooled, the entire area of the array substrate 80 is uniformly heated and cooled and all liquid crystal molecules in a liquid crystal panel can be uniformly subjected to isotropic treatment.例文帳に追加

ホット・クールプレート８３の表面８５が加熱又は冷却されると、アレイ基板８０の全域で一様に加熱又は冷却が行われることになり、全ての液晶パネル内の液晶が一様に等方処理可能である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a substrate with recessed parts for a microlens which can fully promote isotropic etching by preventing an etching mask film from being removed or broken at the time of wet etching.例文帳に追加

本発明は、ウェットエッチングの際にエッチングマスク膜が除去されたり破れたりするのを防止して、十分に等方性エッチングを進行させることのできる、マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The entire liquid crystal cell array 80 is equally warmed up with heating of the hot plate 91 and the infrared heating apparatus 92, and heat history when liquid crystal in each liquid crystal cell 81 is warmed up to an isotropic phase is made equal.例文帳に追加

これらホットプレート９１及び赤外線加熱装置９２の加熱によって液晶セルアレイ８０全体を均一に昇温させ、各液晶セル８１内の液晶が等方相まで昇温する際の熱履歴を均一にする。 - 特許庁

In a polycrystal silicon etching step (k), the film 6 formed with the mask 9 is etched back by wet isotropic etching, and a polycrystal silicon embedded layer 10 of a state filled in the groove 4 is obtained.例文帳に追加

多結晶シリコンエッチング工程（ｋ）では、自己整合マスク９が形成された多結晶シリコン堆積膜６を湿式の等方性エッチングによりエッチバックし、溝４内に充填された状態の多結晶シリコン埋め込み層１０を得る。 - 特許庁

The liquid crystal compound expresses no optical activity in an isotropic phase state above the melting point or in a solvent-diluted state, has optically active helical structure in a liquid crystalline state and has in the molecule no asymmetric carbon atom.例文帳に追加

融点以上の等方相状態または溶媒に希釈した状態では光学活性を示さず、液晶状態にて光学活性な螺旋構造を有し、分子内に不斉炭素原子を有さない液晶化合物を用いる。 - 特許庁

To obtain an extremely homogenous ferrite thin film formed through ferrite plating which shows no magnetic orientation (isotropic), by eliminating the conventional defects and increasing the formation speed to improve industrial productivity.例文帳に追加

フェライトめっき法によって形成されるフェライト膜において、懸かる従来の欠点を解消し、生成速度を向上して工業的な生産性を増し、磁気的方向性を持ってない（等方性）極めて均質なフェライト薄膜を得ること。 - 特許庁

A cage is formed by pyrolytic carbon coated graphite in which high purity isotropic graphite with a total ash content amount of 20 ppm or less is coated with pyrolytic carbon having a coefficient of thermal expansion of 0.5-6.0 x 10^-6 /°C, to a thickness of 5-250 μm.例文帳に追加

保持器を、全灰分量２０ｐｐｍ以下の高純度等方性黒鉛に、熱膨張係数０．５〜６．０×１０^-6／℃の熱分解炭素が、５〜２５０μｍの厚さで被覆された熱分解炭素皮膜黒鉛で形成する。 - 特許庁

In injecting liquid crystal, the liquid crystal 4 and a liquid crystal panel are heated to the nematic-isotropic phase transition temperature of the liquid crystal of higher, so that a memory effect of the liquid crystal 4 is erased to remove influence of flow alignment in the injection step.例文帳に追加

液晶注入の際に液晶および液晶パネルを液晶のネマティック−アイソトロピック相転移点以上の温度に加熱することで、液晶のメモリ効果を消して、注入時の流動配向の影響を除去する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device whose junction breakdown voltage between an emitter and a base can be increased, and damages or the like in the base layer caused by isotropic dry etching can be eliminated, in a semiconductor device including a self-aligned bipolar transistor.例文帳に追加

自己整合型バイポーラトランジスタを含む半導体装置のエミッタ・ベース接合耐圧を向上させ、等方性ドライエッチングによってベース層に与えるダメージ等が解消できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the perpendicular magnetic recording medium which has a non-magnetic substrate and an under film formed on the non-magnetic substrate and a perpendicular magnetic layer formed on the under film, the under film is made of a soft magnetic material isotropic magnetically.例文帳に追加

非磁性基板と、該非磁性基板上に形成された下地膜と、該下地膜上に形成された垂直磁性層を有する垂直磁気記録媒体において、前記下地膜を磁気的に等方性を有する軟磁性材で形成する。 - 特許庁

The photoresponsive liquid crystal material is a mixture of a dichiral liquid crystalline compound having an azobenzene structure, shows a cubic phase or an isotropic liquid-crystalline phase, and develops an anisotropic liquid-crystalline phase or a liquid phase by light irradiation.例文帳に追加

アゾベンゼン構造を有するジキラル液晶性化合物の混合物であり、キュービック相又は等方性液晶相を示し、光照射により異方性液晶相または液体相を発現する光応答性液晶材料。 - 特許庁

To provide a material for forming a polarizer protective film formed of an optically isotropic laminate which is constituted of an acrylic resin layer excelling in durability, such as hydrolysis resistance, and an acrylic adhesive layer excelling in adhesiveness to a polarizer.例文帳に追加

耐加水分解性など、耐久性に優れるアクリル系樹脂層と、偏光子との密着性に優れるアクリル系粘接着層とを有する、光学等方性の積層体からなる偏光子保護用フィルムを形成する材料を提供する。 - 特許庁

A plating original sheet is roughened by pickling, blast treatment or the like, fine ruggedness having isotropic properties is applied to the surface of the plating original sheet, thereafter, it is introduced into a hot dip galvanizing bath, and is taken up, so as to form a hot dip galvanizing layer.例文帳に追加

酸洗，ブラスト処理等でめっき原板を粗面化し、等方性のある微細な凹凸をめっき原板表面につけた後、溶融亜鉛めっき浴に導入し引き上げることにより溶融亜鉛めっき層を形成する。 - 特許庁

Consequently, the influence of the stress to the external force applied to the package 4 or a thermal stress generated in the package 4 is hardly exerted on the acceleration sensor chip 1, and the influence of the stress is changed to be isotropic to prevent deterioration of the output characteristic.例文帳に追加

その結果、パッケージ４に加わる外力に対する応力やパッケージ４に生じる熱応力の影響が加速度センサチップ１に及び難くなり、且つ応力の影響を等方化して出力特性の劣化を防止できる。 - 特許庁

A part of the metallic film 2m with the side wall, exposed from the mask 3, and the re-deposited film 4 are etched by isotropic etching under an etching condition that the etching speed in the material of the metallic film 2m is higher than that in the material of the substrate 1.例文帳に追加

異方性エッチングにより金属膜２のマスク３から露出された部分を厚み方向に部分的にエッチングすることで、金属膜２に異方性エッチングにともなう再付着膜４に覆われた側壁が形成される。 - 特許庁

The method for manufacturing an FRP flange comprises the steps of setting ring-like pseudo-isotropic plates 13 to forms 14 disposed at a predetermined gap, winding FRP between the plates 13 by a filament winding(FW) method, and primarily curing it.例文帳に追加

所定の隙間をあけて配置した各々の型枠１４にリング状の疑似等方性板１３をセットし、これら疑似等方性板１３の間にフィラメントワインディング（ＦＷ）法でＦＲＰを巻き付け、一次キュアリングを行う。 - 特許庁

Furthermore, the liquid crystal display prevents phase action whose polarization state changes for a light flux passing the liquid crystal device 80 from being given by using an isotropic refraction material for the incident side dust prevention plate 74b.例文帳に追加

さらに、射出側防塵板７４ｂに等方性の屈折材料を用いることにより、液晶デバイス８０を通過した光束に対してその偏光状態が変化するような位相作用を与えてしまうことを防止できる。 - 特許庁

The alloy further has substantially isotropic bend characteristics when the processing route includes a solution heat anneal 14 above 850°C and subsequent cold rolling 20 into sheet, strip or foil interspersed by bell annealing 22.例文帳に追加

本合金は、加工経路が、８５０℃以上での固溶化熱焼鈍１４と、その後のシート、ストリップまたはフォイルへの冷間圧延２０と、その間に挟まれるベル焼鈍２２とを含む場合、実質的に等方性の曲げ特性を有する。 - 特許庁

To provide gallium compound powder having an isotropic polyhedral form and controlled particle size and to provide gallium oxide powder obtained by calcining the above powder and having controlled particle size and form.例文帳に追加

本発明の目的は、等方的な多面体の形状を持ち、粒子径が制御されたガリウム化合物粉末とそれを焼成することで得ることができる粒子径、形状共に制御された酸化ガリウム粉末とを提供することである。 - 特許庁

With such a constitution, offset regions or LDD regions can be formed simply in a double gate film step, utilizing the upper gate film functioning as a film and utilizing an undercut shape, which are the characteristics of the isotropic etching.例文帳に追加

かかる構成により，オフセット領域やＬＤＤ領域を，補助膜的に機能する上部ゲート膜を利用した二重ゲート膜工程と等方性エッチングの特質であるアンダーカットの形状を利用して簡便に形成できる。 - 特許庁

Each the orientation direction data or the like are converted into an isotropic physical property value, are made to be projected to the non-filler 3D structure model to perform a mapping process (a mapping processing procedure 3), and the strength analysis is performed on the basis of an obtained 3D mapping model.例文帳に追加

そして、前記の各配向方向データ等を異方性物性値に変換して前記の非フィラー３Ｄ構造モデルに投影させてマッピング処理し（マッピング処理手順３）、得られた３Ｄマッピングモデルに基づいて強度解析を行う。 - 特許庁

Different kinds of materials composed of pure Ti/copper alloy (inserting material)/cryogenic stainless steel are directly superimposed and then processed by high temperature isotropic pressurization (HIP), so that nonfused joining is performed without forming a reaction layer such as an inter-metallic compound in the contact area.例文帳に追加

純Ｔｉ／銅合金（間挿入材）／極低温用ステンレスからなる異種材を直接重ね合わせ、これを高温等方加圧（ＨＩＰ）することにより、接触箇所に金属間化合物等の反応層を形成させずに無溶解接合する。 - 特許庁