「Isotropic」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

Since dry etching of isotropic etching is adopted to remove the outer periphery of the layer 10A, the outer peripheral edge surface of the layer 10 becomes smooth.例文帳に追加

また、この活性層１０Ａの外周部の除去に等方性エッチングのドライエッチングを採用したので、活性層１０Ａの外周縁面がなめらかになる。 - 特許庁

The selective etching step is performed by a two-step plasma etching method of first anisotropic etching and second isotropic etching having different etching conditions.例文帳に追加

選択食刻工程は食刻条件が異なる第１の異方性食刻と第２の等方性食刻からなる二段階のプラズマ食刻方法で行なう。 - 特許庁

The refractive index of any one birefringence medium 73 with respect to light having a specific wavelength is specified to be equal to the refractive index of the isotropic medium 72 with respect to light having the same wavelength.例文帳に追加

その際特定の波長の複屈折媒質７３のいずれかの屈折率を等方性媒質７２の同じ波長の屈折率と等しくする。 - 特許庁

Then a tapered implantation hard mask 21 is formed by rounding corners of the hard mask 21 by performing isotropic etching using an argon gas.例文帳に追加

そして、アルゴンガスを用いた等方性スパッタエッチングを行なうことによりハードマスク２１ａの角部を丸めて、テーパー形状を有する注入ハードマスク２１を形成する。 - 特許庁

To enhance realignment performance of liquid crystal molecules to enhance display quality by performing heating and cooling treatment uniformly on an array substrate in an isotropic treatment stage.例文帳に追加

等方処理工程における加熱及び冷却処理をアレイ基板で一様にして、液晶分子の再配列性を向上させ、表示品質を向上させる。 - 特許庁

The circumferential thermal expansion factor is larger than the thermal expansion factor of an isotropic magnet in the circumferential direction at the center in the thickness of the ring magnet.例文帳に追加

また、前記円周方向熱膨張係数はリング磁石の厚さ中心の円周方向において等方性磁石の熱膨張係数より大きいこと。 - 特許庁

To provide a method for efficiently manufacturing an integrated molding superior in moldability of complex shape, mechanical properties and having isotropic characteristics.例文帳に追加

複雑形状の成形性、力学的特性に優れ、かつ等方的な特性を有する一体化成形品を効率良く製造する方法を提供すること。 - 特許庁

This liquid crystal medium is characterized by comprising a liquid crystal compound represented by formula (1) and a chiral agent and manifesting an optically isotropic liquid crystal phase.例文帳に追加

式（１）で表される液晶化合物およびキラル剤を含有し、光学的に等方性の液晶相を発現することを特徴とする液晶媒体。 - 特許庁

The incident plane of light transmitting members 31 and 32 formed by an optically isotropic photoelastic material is inclined obliquely to an optical axis.例文帳に追加

光学的に等方的な光弾性物質で形成された光透過部材３１，３２は、入射面が光軸に対して斜めになるように傾けて配設される。 - 特許庁

To provide an illumination optical system for providing illuminating luminous flux having isotropic NA distribution with compact constitution equipped with a laser array light source.例文帳に追加

レーザーアレイ光源を備えたコンパクトな構成でありながら、等方的なＮＡ分布を有する照明光束が得られる照明光学系を提供する。 - 特許庁

The beam splitter 2 is constituted of a first member 15 made of an isotropic optical material and a second member 14 made of an anisotropic optical material.例文帳に追加

ビームスプリッタ２は、等方性光学材料からなる第１の部材１５と、異方性光学材料からなる第２の部材１４とで構成されている。 - 特許庁

To provide a phase difference plate which is superior in adhesion between a transparent base material and an optical isotropic layer and has superior manufacture efficiency, and its manufacturing method.例文帳に追加

透明基材と光学異方性層との密着性に優れ、かつ製造効率にも優れる位相差板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A pretreated liquid containing a solvent and a crystallization 3 of a lyotropic liquid crystalline compound in the solvent is heated to or above the melting point of the crystallization 3 to produce an isotropic solution, and the isotropic solution is next cooled to or below the temperature in which a liquid crystal phase 4 is developed to produce a liquid crystalline coating liquid.例文帳に追加

溶媒と溶媒中のリオトロピック液晶化合物の結晶体３とを含む前処理液を結晶体３の融解点以上に加熱処理して等方性溶液を作製し、次に等方性溶液を液晶相４が発現する温度以下に冷却処理して液晶性コーティング液を得る。 - 特許庁

The heat conductivity of the anisotropic heat conduction layer in a high heat conductivity direction is two or more times larger than that of the isotropic heat conduction layer, and the anisotropy of heat conductivity in the anisotropic heat conduction layer is ten times larger, thereby obtaining the substrate with a better heat dissipation effect than that obtained when the isotropic heat conductor is only used alone.例文帳に追加

前記基板を、少なくとも等方的熱伝導層と異方的熱伝導層よりなる２層以上の構成とし、異方的熱伝導層における高熱伝導度方向の熱伝導度が等方的熱伝導層の熱伝導度より２倍以上大きく、かつその異方性が１０倍以上とする事で。 - 特許庁

The recipient inputs the second photon into isotropic nonlinear optical material at a time 2 after the time 1 as a pump light, and furthermore, inputs signal light and idler light into a polarized beam splitter to measure the photon in each of two outputs, wherein, the signal light is output from the isotropic nonlinear optical material.例文帳に追加

受信者は時刻１よりも後の時刻２に、第２の光子をポンプ光として等方的な非線形光学材料に入力し、更に上記等方的な非線形光学材料からの出力であるシグナル光とアイドラー光を偏光ビームスプリッターに入力し、２つの出力それぞれにおいて光子の測定を行う。 - 特許庁

A birefringent layer 32 having a diffraction surface is formed on a transparent substrate 31, an isotropic overcoat layer 33 is formed on the diffraction surface of the birefringent layer 32 and, by forming the transparent substrate 31 on the isotropic overcoat layer 33, first and second polarizing hologram substrates 4, 5 are formed.例文帳に追加

透明基板３１上に回折面を有する複屈折層３２を形成し、複屈折層３２の回折面上に等方性オーバーコート層３３を形成した後、等方性オーバーコート層３３上に透明基板３１を形成することによって、第１および第２偏光ホログラム基板４，５を形成する。 - 特許庁

To provide a heat treatment method for manufacturing an isotropic soft magnetic material, and to provide a non-oriented electromagnetic steel sheet showing high performance obtained by the heat treatment method.例文帳に追加

本発明は、等方性軟質磁性材料を製造する熱処理方法及び該熱処理法によって得られる高性能無方向性電磁鋼板を提供するものである。 - 特許庁

A surface emitting laser element 2 is formed on the upper surface of an Si block 1 formed precisely in the same form as that of the recess part of the upper surface of the substrate by Si an isotropic etching.例文帳に追加

Ｓｉ異方性エッチングにより基板上面の凹部と同形態に高精度に形成されたＳｉ製ブロック１の上面に面発光レーザ素子２を形成する。 - 特許庁

The thermotropic liquid crystal composition has a solid-liquid crystal phase transition temperature of 25°C or lower, an isotropic phase transition temperature of 55°C or higher, and a clogP value of six or less.例文帳に追加

該サーモトロピック液晶組成物は、固体−液晶相転移温度が２５℃以下であり、等方相転移温度が５５℃以上であり、且つｃｌｏｇＰ値が６以下である。 - 特許庁

To provide a microstructure forming method for improving the controllability of etching in the case of fine-working using isotropic etching, and also, attaining uniform working even in a large-sized substrate.例文帳に追加

等方性エッチングを用いた微細加工の際にエッチングの制御性を向上し、大型基板においても均一な加工を実現する微細構造形成方法を提供する。 - 特許庁

A CVD diamond is supplied as dielectrics in semi-sacrificial layer and in-layer dielectrics, and then a semi-sacrificial dielectrics is at least partially removed by isotropic oxygen etching.例文帳に追加

ＣＶＤダイヤモンドを半犠牲層間および層内誘電体として供給し、その後、等方性酸素エッチングで半犠牲誘電体を少なくとも部分的に除去する。 - 特許庁

A resist pattern is formed on a first material layer and an isotropic layer of a second material is deposited on the resist pattern to cover the upper part and side wall of a resist structure.例文帳に追加

第１の材料層上にレジスト・パターンが形成され、レジスト・パターン上に第２の材料の等方層が堆積されてレジスト構造の上部および側壁を覆う。 - 特許庁

Further, the first and second dielectric regions in the first and second trenches are etched by a virtually isotropic method to expose the first and second side walls.例文帳に追加

次いで、第１及び第２のトレンチ内の第１及び第２の誘電領域が、実質的に等方的な方法でエッチングされ、第１及び第２の側壁を露出させる。 - 特許庁

Moreover, the NSG films 39 are etched back by isotropic etching until the conductive film 38 is exposed so that the NSG films 39 may be buried partially in the recessed sections 36a and 37a.例文帳に追加

その後、シリンダ形状の記憶ノードを形成する際に、第１の犠牲酸化膜３５表面に露出したＰＤＡＳ膜３８を、等方性エッチング法を用いてエッチングする。 - 特許庁

To provide a method for producing an integrally sintered Mo based target material with an isotropic structure having whole length of ≥2,000 mm, and to provide an integrally sintered Mo based target material.例文帳に追加

全長が２０００ｍｍ以上の等方的組織である一体型焼結Ｍｏ系ターゲット材の製造方法および一体型焼結Ｍｏ系ターゲット材を提供する。 - 特許庁

A plurality of the bag bodies 32 each having the single-layer printed boards 38 and the mounting board 40 housed therein are entered in a pressure vessel of an isotropic pressurizing device, and heated and pressurized through a fluid.例文帳に追加

等方加圧装置の圧力容器内に、単層プリント基板３８および載置板４０を収容した複数個の袋体３２を入れ、流体を介して加熱、加圧する。 - 特許庁

To provide a cellulose acylate film which has a small optical anisotropy to be substantially optical isotropic, and can inhibit the generation of light unevenness of a liquid crystal display device.例文帳に追加

光学的異方性が小さく実質的に光学的等方性であり、液晶表示装置の光ムラ発生を抑止できるセルロースアシレートフィルムを提供する。 - 特許庁

A photosensitive layer is formed on a film as a base material, heated up to an isotropic phase transition temperature or more, and cooled to a glass phase-liquid crystal phase transition temperature or less.例文帳に追加

基材であるフィルムに感光性層を形成した後、これを等方相転移温度以上に加熱してからガラス相−液晶相転移温度以下に冷却する。 - 特許庁

The silicon carbide fiber is produced by mixing a discontinuous isotropic carbon fiber with a silica-resource and heating the obtained mixture at about 1,450°C to about 1,800°C.例文帳に追加

炭化ケイ素繊維は、不連続等方性炭素繊維をシリカ供給源と混合し、この混合物を約１４５０℃〜約１８００℃の温度に曝すことによって製造される。 - 特許庁

To provide a diffraction element of a low cost having high light utilization efficiency using an isotropic material of a low material cost and an easy manufacturing process and to provide an inexpensive optical pickup device using the diffraction element and having high light utilization efficiency.例文帳に追加

材料コストの安い等方性材料と容易な製造プロセスを用いて、低コストかつ高い光利用効率を有する回折素子を提供する。 - 特許庁

The double damask structure is constituted of the combination of the deposited conductive material 218 and the residual section of the isotropic barrier / the adhesive layer within the double damask hole.例文帳に追加

蒸着した導通材料２１８と二重ダマスク穴内の等角障壁／接着層２１６の残りの部分の組み合わせが目的とする二重ダマスク構造を構成する。 - 特許庁

Then, a kind of etching gas is changed and the remaining thickness of the conductive film 4A is etched by isotropic etching and thus an edge C of the bottom of the conductive film 4A is reduced.例文帳に追加

その後、エッチングガスの種類を変え、等方性エッチングにより導電性膜４Ａの残りの膜厚をエッチングし、導電性膜４Ａの底部の角Ｃを削り取る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a retarder that eliminates orientational disorder of a liquid crystal phase in areas of retardation by selectively heating only desired areas into an isotropic phase.例文帳に追加

所望の領域にのみ選択的に加熱して等方相とし、位相差を設ける領域に液晶相の配向乱れの無い位相差基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

After removing the sacrificial layers 39, 40, the lower portions of the Z fixed electrode 81 and the Z movable electrode 82 are continued by isotropic etching to form a cavity.例文帳に追加

犠牲層３９，４０の除去後、等方性エッチングにより、Ｚ固定電極８１およびＺ可動電極８２の下方部を連続させて空洞を形成する。 - 特許庁

A mask pattern 11 is formed on a substrate 10 and an isotropic wet etching which does not have dependency is performed on the face orientation of crystal including at least a {111} B face.例文帳に追加

基板１０上にマスクパターン１１を形成し、まず、少なくとも ｛１１１｝Ｂ面を含む結晶の面方位に対して依存性を持たない等方性ウエットエッチングを行う。 - 特許庁

To provide a material exhibiting (BH)_max higher than that of a magnetically isotropic bonded magnet by fixing an R-TM-B based quenched powder of pulverized melt span ribbon using resin.例文帳に追加

メルトスパンリボンを粉砕したＲ−ＴＭ−Ｂ系急冷粉末を樹脂で固定した磁気的に等方性のボンド磁石よりも高（ＢＨ））_ｍａｘ化される材料の具体化。 - 特許庁

The light control material is constructed by sequentially laminating a transparent front surface layer, an intermediate layer composed of a liquid crystal forming an isotropic phase and a transparent rear surface layer.例文帳に追加

透明な表面層と、等方相を形成している液晶からなる中間層と、透明な裏面層とが、この順序で積層してなる、調光材料である。 - 特許庁

Moreover, the distribution of the first peak intensity showing the maximum intensity in an X-ray diffraction pattern inside a stimulable phosphor layer face is isotropic from the center of the support 11.例文帳に追加

そして、輝尽性蛍光体層面内のＸ線回折パターンにおいて最大強度を示す第１ピーク強度の分布が支持体中心から等方的である。 - 特許庁

It is preferable that the magnet pieces are formed without applying a magnetic field by using the isotropic rare earth resin magnet material and polarized after forming and that the polarized magnet pieces are stuck to each other.例文帳に追加

好ましくは、等方性希土類樹脂磁石材料を用いて、磁場を印加せず、マグネットピースを成形し、成形後着磁し、着磁後のマグネットピースを貼り合わせる。 - 特許庁

Next, the insulated layer 12f is subjected to isotropic etching, and the amount of the insulated layer 12f to be etched is calculated from the dimensions of the masks for monitoring fallen off from the wafer 30.例文帳に追加

次に、絶縁層１２ｆに対して等方性エッチングを行い、ウエハ３０から脱落したモニタ用マスクの寸法から、絶縁層１２ｆのエッチング量を算出する。 - 特許庁

The finely rugged shape 8 having a rectangular cross-sectional shape is formed on the surface of a base plate 2 and is turned to a triangular cross-sectional shape by performing etching under isotropic conditions.例文帳に追加

基板２の表面に断面形状が矩形の微細凹凸形状８が形成し、等方的な条件でエッチングを施して三角形の断面形状とする。 - 特許庁

Thereafter, the silicon substrate 10 is etched from the openings 11a in an almost isotropic manner by a wet etching method to form semispherical recessed parts 10a and the mask layer 11 is removed.例文帳に追加

この後、湿式エッチング法によって開口１１ａから略等方的にシリコン基板１０をエッチングし、半球状の凹部１０ａを形成し、マスク層１１を除去する。 - 特許庁

The display part 2 is composed of a reversible thermosensitive display layer 12 mainly composed of a low molecular cholesteric liquid crystal compound having an isotropic phase transfer temperature higher a fusing point.例文帳に追加

表示部２は等方相転移温度が融点よりも高い低分子コレステリック液晶性化合物を主成分とする可逆性感熱表示層１２からなる。 - 特許庁

For example, an optically isotropic transparent layer 39 is disposed between the joined polarizing plate 31 and the light diffusing layer 35 to keep the distance (d).例文帳に追加

例えば、継ぎ目偏光板３１と光拡散層３５の間に、光学的に等方性の透明層３９を配置することで、距離ｄを確保することができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid crystal display provided with an integral phase difference layer provided with an isotropic phase and a liquid crystal phase part without performing heating treatment.例文帳に追加

加熱処理を行わずに等方相部分と液晶相部分を設けた一体型の位相差層を備える液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁