「Isotropic」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

Next, by using chemical dry etching (CDE) method or the like, the polycrystal silicon film pattern 108 is isotropic etched from both sides direction and thus the gate electrode layer 115 is formed.例文帳に追加

次に、ケミカルドライエッチング（ＣＤＥ）法等を用い、多結晶シリコン膜パターン１０８を両側面の方向から等方性エッチングし、ゲート電極層１１５を形成する。 - 特許庁

A curved dent can be formed in the center part of a region encircled by the lower opening in the planar substrate by the isotropic plasma etching via the shadow mask.例文帳に追加

シャドウマスクを介する等方性プラズマエッチングにより、平面基板内で下部開口によって囲まれる領域の中心部に、湾曲した窪みを形成することができる。 - 特許庁

Furthermore, it is preferable that the method includes a process for performing isotropic etching with respect to the inner wall of the trench when the metallic film is removed after the process for forming the trench.例文帳に追加

さらに、前記のトレンチを形成する工程の後に、前記金属膜を除去した後、前記トレンチの内壁を等方性エッチングする工程を有することが望ましい。 - 特許庁

Moreover, terminal part 11R, of the scanning electrodes 11R formed on the substrate 1R is electrically connected with the wiring 41 on a circuit substrate 40 via an isotropic conductive film 32.例文帳に追加

また、基板１___Rに形成された走査電極１１_Rの端子部１１_R’は異方性導電フィルム３２を介して回路基板４０上の配線４１と電気的に接続される。 - 特許庁

To provide a zinc gallate powder which has an isotropic shape and a controlled particle size and is useful a phosphor for electron beam excitation.例文帳に追加

本発明の課題は、電子線励起用蛍光体として有用な等方的な形状を持ち、粒子径が制御されたガリウム酸亜鉛粉末を提供することである。 - 特許庁

To provide an electroconductive composition which can produce a fuel cell separator having isotropic characteristics by merely molding or forming with neither carbonization nor graphitization.例文帳に追加

炭化又は黒鉛化することなく、成形又は賦型するだけで、等方的特性を有する燃料電池用セパレータを製造できる導電性組成物を提供する。 - 特許庁

The chiral nematic liquid crystal composition contains a self-organizing type gelling agent and has a higher liquid crystal phase-isotropic phase phase transition temperature than its sol-gel transition temperature.例文帳に追加

自己組織型ゲル化剤を含有し、液晶−等方相相転移温度がゾル−ゲル転移温度よりも高いことを特徴とするカイラルネマチック液晶組成物。 - 特許庁

Then, the second polysilicon electrode is prevented from being thinned out by the side wall product which is a by-product produced by anisotropic etching while the etching residues are removed by isotropic etching.例文帳に追加

次に、等方性エッチングでエッチング残存物を除去しつつ、第２ポリシリコン電極の細りを異方性エッチング時の副産物である側壁生成物で防止する。 - 特許庁

Thereafter, the pat oxide film 2 is made to withdraw backward and the silicon substrate 1 and amorphous silicon or polycrystalline silicon film 17 are removed with the isotropic etching to form a groove ((g)).例文帳に追加

その後、パット酸化膜２を後退させ、シリコン基板１とアモルファスシリコンまたは多結晶シリコン膜１７を等方性のエッチングにより除去し、溝を形成する（（ｇ））。 - 特許庁

To provide a liquid crystal medium which has a wide liquid crystal phase temperature range, large refractive index anisotropy, large dielectric constant anisotropy, and an optically isotropic liquid crystal phase.例文帳に追加

広い液晶相温度範囲、大きな屈折率異方性、大きな誘電率異方性を有し、光学的に等方性の液晶相を有する液晶媒体を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor device 1 having a longitudinal structure, the trench 2 is formed by isotropic etching to section the trench 2 in a semicircular shape having a radius (r) of curvature.例文帳に追加

縦型構造の半導体装置１において、トレンチ２を等方性エッチングで形成することにより、トレンチ２の断面形状を曲率半径ｒ一定の半円形にさせる。 - 特許庁

The non-isotropic spread of the etchant is corrected by the layer of the DIW, so that etching irregularities caused by the local concentration of the etchant are prevented.例文帳に追加

エッチング液の非等方的な広がりはＤＩＷの層によって修正されるため、エッチング液の局所的な集中に起因するエッチングむらが防止される。 - 特許庁

To improve light reception sensitivity of incident light to a pixel of a periphery even when the layout of pixels is not isotropic, in a CMOS type image sensor.例文帳に追加

本発明は、ＣＭＯＳ型イメージセンサにおいて、画素のレイアウトが等方的でない場合にも、周辺部の画素に対する入射光の受光感度を向上できるようにする。 - 特許庁

After removing the resist layer, a gate electrode layer 16a is formed by decreasing a width of the polysilicon layer by isotropic etching using the silicon oxide layer 18A as a mask.例文帳に追加

レジスト層を除去した後、シリコンオキサイド層１８Ａをマスクとする等方性エッチングによりポリシリコン層の幅を減少させてゲート電極層１６ａを形成する。 - 特許庁

(2) The vessel 9 is coated with any of pyrolytic carbon, pyrolytic graphite and glassy carbon, each of which has a coefficient of thermal expansion adjusted nearly equal to that of the isotropic carbon used as the base material.例文帳に追加

（２）基材をなす等方性カーボンと略同一に熱膨張率を調整した、パイロリティックカーボン、パイロリティックグラファイト、ガラス状カーボンのいずれかが被覆されている。 - 特許庁

The method for producing a glass microlens array includes a step of locally applying stress to a glass substrate so polished as not to leave a crushed layer by being irradiated with laser light, and a step of forming portions in which stress is locally present in a lens shape by subjecting the stress applied glass substrate to isotropic dry etching or isotropic wet etching.例文帳に追加

本ガラス製マイクロレンズアレイ製造方法は、破砕層がないように研磨されたガラス基板にレーザ光を照射して局所的に応力を与える工程と、応力が与えられたガラス基板に等方的なドライ・エッチングあるいは等方的なウエット・エッチングを施して、局所的に応力が存在する部分をレンズ状に成形する工程を有する。 - 特許庁

Then, isotropic etching is made by reducing bias output applied to a wafer without containing N_2 or O_2, or etching under the conditions of a high mask selection ratio containing N_2 or O_2 for machining the grooves or holes slightly thinner than the pattern dimensions and isotropic etching while reducing bias output applied to the wafer without containing N_2 or O_2 are made periodically.例文帳に追加

その後N_２またはO_２を含まず、ウエハに印加するバイアス出力を低下させて等方的なエッチングを行う、又はパターン寸法よりも溝又は孔をやや細く加工するN_２またはO_２を含む高マスク選択比条件と、N_２またはO_２を含まず、ウエハに印加するバイアス出力を低下させて等方的なエッチングを周期的に行う。 - 特許庁

This manufacturing method for the wood flour molded article (7) has a process for preforming the wood flour (1) under test by isotropic pressurization in a cold hydrostatic pressure apparatus (CIP apparatus) (3) and a process (B) for finally molding the preformed article (4) obtained in the preforming process under ultrahigh pressure by isotropic pressurization in a hot hydrostatic pressure apparatus (WIP apparatus) (6).例文帳に追加

供試木粉（１）を冷間静水圧法装置（ＣＩＰ装置）（３）内で等方加圧により予備成型する工程（Ａ）と、該予備成型工程で得られた予備成型物（４）を温間静水圧法装置（ＷＩＰ装置）（６）内で、超高圧の下、等方加圧により本成型する工程（Ｂ）とを備えたことを特徴とする木粉成型物（７）を製造する方法である。 - 特許庁

A plate-like powder which consists of a bismuth-layered titanate compound and whose developed faces have a lattice matching with the pseudo- cubic {100} face of the isotropic perovskite-type compound is mixed with a perovskite-forming raw material which reacts with the above plate-like powder to produce the isotropic perovskite-type compound and surplus components including a bismuth oxide (a mixing process).例文帳に追加

ビスマス層状チタン酸化合物からなり、かつ、その発達面が等方性ペロブスカイト型化合物の擬立方｛１００｝面と格子整合性を有する板状粉末と、この板状粉末と反応して等方性ペロブスカイト型化合物と酸化ビスマスを含む余剰成分とを生成するペロブスカイト生成原料とを混合する（混合工程）。 - 特許庁

A two-layered mask layer is formed on a single crystal silicon substrate, anisotropic etching and isotropic etching are performed by using a first mask layer to form a concave part having a diameter a little smaller than that of a desired microlens mold and, thereafter, isotropic etching is performed and the concave part is magnified by using a second mask layer to provide the microlens mold having a desired dimensions.例文帳に追加

単結晶シリコン基板上に、２層のマスク層を形成し、第１のマスク層を用いて異方性エッチング及び等方性エッチングを行い所望のマイクロレンズ用型よりもやや径の小さい凹部を形成した後に、第２のマスク層を用いて等方性エッチングを行ってその凹部を拡大することにより、所望の寸法のマイクロレンズ用型を得る。 - 特許庁

A second birefringent material worked so as to have a Fresnel lens shape is disposed on one of mutually facing transparent substrates 102b, 102c and an isotropic material 106 is filled in the space therebetween.例文帳に追加

対向する透明基板１０２ｂ、１０２ｃのいずれか一方の面にフレネルレンズ形状に加工された第２の複屈折材料を設け、等方性材料１０６で充填する。 - 特許庁

The mouse is predefined or added with a shortcut code output key, and transmits the displacement and shift data of the mouse to a computer system, allowing a pointer on a display to generate an equivalent and isotropic shift.例文帳に追加

マウスは、ショートカットコード出力キーが予め定義、追加され、マウスの変位量及び移動データをコンピュータシステムへ転送し、ディスプレイのポインタを同量かつ同方向に移動させる。 - 特許庁

This goniometer comprises a planar coil and at least one set of giant magnetoresistive element pair made up of two isotropic giant magnetoresistive elements provided on a plane parallel to the planar coil.例文帳に追加

平面コイルと、その平面コイルと平行な平面に設けられた等方性巨大磁気抵抗素子２個からなる巨大磁気抵抗素子対を少なくとも１組とを有する方位計である。 - 特許庁

The anisotropically shaped powder includes a principal component of an isotropic perovskite-based pentavalent metal acid alkali compound represented by a general formula (1) (K_aNa_1-a)(Nb_1-bTa_b)O_3, wherein 0≤a≤0.8 and 0.02≤b≤0.4.例文帳に追加

異方形状粉末は、一般式（１）(Ｋ_aＮａ_1-a)(Ｎｂ_1-bＴａ_b)Ｏ_3（但し、０≦ａ≦０．８、０．０２≦ｂ≦０．４）で表される等方性ペロブスカイト型の５価金属酸アルカリ化合物を主成分とする。 - 特許庁

The isotropic dry etching process is executed in such a way that a reaction gas of 100 Pa-1,000 Pa is introduced and a bias voltage is not applied while plasma is ignited to the reaction gas.例文帳に追加

その等方性ドライエッチング工程は、１００Ｐａ以上１０００Ｐａ以下の反応ガスを導入し、その反応ガスにプラズマを点火しつつバイアス電力を印加しないで行う。 - 特許庁

To provide a liquid crystal composition exhibiting an isotropic liquid crystal phase over a wide temperature range and a photo-element by using the same (e.g. liquid crystal-displaying element).例文帳に追加

広い温度範囲にわたって光学的に等方性の液晶相を発現する液晶組成物、およびそれらを用いる光素子（たとえば、液晶表示素子）を提供することである。 - 特許庁

After the photo-resist pattern is removed in an ashing step, a two-step isotropic etching step is carried out in a single cleaning system continuously with a conventional strip step.例文帳に追加

フォトレジストパターンをアッシング工程によって除去した後、単一の洗浄システム内で既存のストリップ工程と連続して行なわれる２段階の等方性湿式蝕刻工程を実施する。 - 特許庁

To provide a polishing method of a green ball, a manufacturing method and a polishing device of a ceramic ball, sufficiently improving sphericity in the green ball by realizing isotropic processing.例文帳に追加

等方的な加工を実現することによりグリーンボールの真球度を十分向上させることが可能なグリーンボールの研磨方法、セラミックス球の製造方法および研磨装置を提供する。 - 特許庁

In the liquid crystal display device, a medium included in an optically isotropic liquid crystal layer BP indicates optical isotropy when a voltage is not applied, and indicates optical anisotropy when a voltage is applied.例文帳に追加

本発明の液晶表示装置において、光学等方液晶層ＢＰに含まれる媒質は、電圧無印加時に光学等方性を示し、電圧印加時に光学異方性を示す。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a press molded article of a complicated shape, wherein the press molded article can respond also to a thin type molding which has been unsuitable for a laminated molding, and excels in isotropic mechanical properties.例文帳に追加

積層成形品には不向きであった薄型成形品にも対応でき、等方的に力学特性に優れた、複雑形状のプレス成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

The liquid crystal panel comprises: a first polarizer; a negative biaxial optical element; a positive C-plate; a liquid crystal cell; an isotropic optical element; and a second polarizer, which are arranged in the order.例文帳に追加

本発明の液晶パネルは、第１の偏光子、負の二軸性光学素子、ポジティブＣプレート、液晶セル、等方性光学素子、および第２の偏光子が、この順に配置されてなる。 - 特許庁

An insulation layer 31 formed on a board 30 is bored down by isotropic etching to form a recess 42 on the insulation layer 31 thereby forming a metal film 36 on the recess 42.例文帳に追加

基板３０上に形成された絶縁層３１を、等方性エッチングにより掘り下げ、絶縁層３１上に凹部４２を形成して、凹部４２上に金属膜３６を形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser beam source which can output an isotropic laser beam, is small-sized, flexible, at a low cost, and can increase its output by stacking laser diode bars.例文帳に追加

等方的なレーザ光を出力でき、小型、フレキシブル、低コストで、しかも複数のレーザダイオードバーを積層することによる高出力化が可能な半導体レーザ光源を提供すること。 - 特許庁

The lighting system for the flat-plate display device includes an upper layer made of an optical anisotropic matter on a top face of a light guide plate made of an optical isotropic matter.例文帳に追加

本発明による平板表示装置用照明装置は、光学的等方性物質から成る導光板の上面に、光学的異方性物質から成る上部層を含む。 - 特許庁

Next, isotropic plasma etching is executed in a state where a resist mask 5 is formed so that an upper hole portion 43h of a contact hole 4h is formed to be large on the upper layer side insulating film 43.例文帳に追加

次に、レジストマスク５を形成した状態で、等方性プラズマエッチングを行い、上層側絶縁膜４３にコンタクトホール４ｈの上穴部分４３ｈを大径に形成する。 - 特許庁

Thereafter, a third insulation film 23 is laminated on the second insulation film 22 and an opening 51 is shaped by carrying out isotropic etching to the third insulation film 23 in an upper part of the wiring 4.例文帳に追加

その後、第２絶縁膜２２の上に第３絶縁膜２３を積層し、配線４の上部において第３絶縁膜２３に対する等方性エッチングを行って開口５１を穿つ。 - 特許庁

Then, after an element separating groove 104 is formed on the substrate 101, the silicon nitride film 103 is subjected to isotropic etching by the total thickness of the silicon oxide film 102 and a sacrificial oxide film.例文帳に追加

そして、シリコン基板１０１に素子分離用の溝１０４を形成した後、シリコン窒化膜１０３を、シリコン酸化膜１０２及び犠牲酸化膜の合計の厚さ分だけ等方エッチングする。 - 特許庁

The highly-ductile lead-free solder alloy has the acicular crystal having the length of ≥5 μm in the eutectic phase and the primary crystal β-Sn phase consisting of isotropic crystal grain, and contains no dendrite.例文帳に追加

この高延性鉛フリーはんだ合金は、共晶相において長さ５μｍ以上の針状晶を有し、初晶β−Ｓｎ相が等方的結晶粒からなり、デンドライトを含まない。 - 特許庁

This method comprises performing an indirect kneading, rather than a direct kneading, of dough stock put into plastic film bags by applying a high pressure of ≥1,000 atm to each of the bags using a CIP(cold isotropic pressure device).例文帳に追加

直接混捏でなくＣＩＰ（冷間等方圧加圧装置）でプラスチック フィルム製の袋に入れた生地原料に袋毎１０００気圧以上の高圧を加えることで間接混捏する。 - 特許庁

This processing method forms holes by recording an etching pattern (an area removed by etching) in a substrate, forming a prior machine hole inside the etching pattern, and executing the isotropic etching according to the etching pattern.例文帳に追加

基板にエッチングパターン（エッチングにより除去される領域）を記録し、前記エッチングパターン内に加工先穴を形成し、前記エッチングパターンに従って等方性エッチングを行い、穴を形成する。 - 特許庁

To determine the dielectric constant, film thickness and the direction of the main dielectric constant coordinates of an anisotropic portion and the dielectric constant and film thickness of an isotropic portion for an anisotropic sample thin film at a high speed.例文帳に追加

異方性を有する試料薄膜について、異方性部分の誘電率、膜厚及び主誘電率座標の方向、等方性部分の誘電率及び膜厚を高速で決定する。 - 特許庁

A cavity is formed between the source diffusion layer 41 and the BPSG film 42 by removing part of the BPSG film 8 exposed to the contact hole 21 by isotropic etching.例文帳に追加

続いて、コンタクトホール２１に露出しているＢＰＳＧ膜８を等方性エッチングにより除去することにより、ソース拡散層４１とＢＰＳＧ膜４２との間に空洞部を形成する。 - 特許庁

To provide a fine structure formation method, using isotropic etching, by which controllability of etching in fine processing is improved, and even a large-sized substrate can be uniformly processed as a result.例文帳に追加

等方性エッチングを用いた微細加工の際にエッチングの制御性を向上し、大型基板においても均一な加工を実現する微細構造形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a liquid crystal device and a manufacturing apparatus for the liquid crystal device that can shorten the time needed for isotropic processing and achieve stable liquid crystal alignment.例文帳に追加

等方性処理に要する時間を短縮することができ、安定した液晶配向を実現可能な液晶装置の製造方法及び液晶装置の製造装置を提供すること。 - 特許庁

That is to say, the combined supporting plate 185 transmits modulated light as if it is an isotropic medium as glass, and scarcely affects a polarization state of a transmitted luminous flux.例文帳に追加

つまり、合成支持板１８５は、あたかもガラスのような等方的媒質として変調光を透過させ、通過する光束の偏光状態に殆ど影響を与えないものになっている。 - 特許庁